CN2536599Y - 一种立式多层陶瓷薄膜沉积装置 - Google Patents

一种立式多层陶瓷薄膜沉积装置 Download PDF

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朱纪伍
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Abstract

本实用新型公开了大型数控立式多层陶瓷薄膜沉积装置，主要由上封头、沉积室中段、下封头，以及设置在主机柜内的升降机、罗茨泵、机械泵，其中在主机柜的上部设置有沉积室中段，沉积室中段带有上封头和下封头，在上封头和下封头内部分别设有上层上极板和下层下极板，在沉积室中段内部分别与上层上极板和下层下极板对应设有上层下极板和下层上极板，在沉积室中段上设有观察窗。下封头的底部通过蝶阀和管道连接有罗茨泵和机械泵。立式多层沉积室的设计，能较好的解决立式钟罩沉积装置加工面积小的问题，采用同直径法兰密封的立式多层设备，其加工量可达到原立式钟罩设备加工面积的1倍至数倍，便于大规模产业化生产。

Description

一种立式多层陶瓷薄膜沉积装置
技术领域
本实用新型涉及一种等离子化学气相沉积装置，尤其是一种立式多层陶瓷薄膜沉积装置。
背景技术
目前世界范围内用于气相沉积的设备，均采用立式钟罩沉积装置，将圆桶型沉积室立于支架上，其上下极板也为圆型并小于钟罩直径。如中国专利CN2436514“一种陶瓷薄膜沉积装置”，其缺点是圆柱型立式钟罩受法兰密封方法的限制，无非做的很大，过大加工困难，且易变形，以及直径越大实用空间的比例越小，单件加工的成本越高，真空室密封难度大，使规模化生产受到一定的限制。
发明内容
本实用新型的目的是克服上述现有设备的不足，提供一种同直径法兰密封的立式机多层设备，由电脑自动控制，结构简单、操作方便，便于大规模产业化生产。
本实用新型的目的是这样实现的：它包括上封头、沉积室中段、下封头，以及设置在主机柜内的升降机、罗茨泵、机械泵，其中在所述的主机柜的上部设置有沉积室中段，沉积室中段带有上封头和下封头，在上封头和下封头内部分别设有上层上极板和下层下极板，在沉积室中段内部分别与上层上极板和下层下极板对应设有上层下极板和下层上极板，在沉积室中段上设有观察窗，所述的下封头的底部通过蝶阀和管道连接有罗茨泵和机械泵。
所述的上封头与安装在主机柜壳体上的升降机连接，所述的沉积室中段与安装在主机柜壳体上的升降杆连接。
所述的主机柜的上部设置有至少一层沉积室中段。
所述的沉积室中段内部至少设有一对上下极板。
所述的沉积室中段上至少设有一个观察窗。
所述的沉积室中段通过法兰与上封头和下封头连接。
所述的沉积室中段，其直径为1000毫米-5000毫米之间，其高度为1000毫米-5000毫米之间。
所述的法兰的直径为1000毫米-5000毫米之间。
所述的主机柜设有柜门。
由于本实用新型采用了上述结构，与现有技术相比具有以下优点：首先，立式多层沉积室的设计，能较好的解决立式钟罩沉积装置加工面积小的问题；其次，采用同直径法兰密封的立式多层设备，其加工量可达到原立式钟罩设备加工面积的1倍至数倍(每增加一层即可增加一倍)，便于大规模产业化生产；另外，多层沉积室的设计，较好的解决了直径越大、产量越大、无效空间比例越大的问题，可充分利用沉积室空间，每增加一层，就可提高一倍的产量，却不增加无效空间，使有效空间随层数的增加而增加；由于充分利用了沉积室的空间，成倍的提高了产量，可最大限度的减少能源和原料的浪费，因而使加工成本大幅度的降低，立式双层沉积设备加工产品的成本，比同直径单层钟罩式设备加工产品成本低30％；由于采用立式多层沉积室的设计，使设备制造成本成倍下降，1台立式双层沉积室的设备，是2台同直径单层钟罩式设备的产量，而设备制造成本，仅相当于1.5台同直径钟罩式设备；所以本实用新型的装置与现有技术比具有产量大、占地面积小、设备空间利用率高、单件加工成本低，结构简单、操作方便、自动化程度高，便于大规模产业化生产。
附图说明
下面结合附图和实施例对本实用新型进一步说明。
图1是本实用新型的结构示意图。
图中：1.上封头；2.上层上极板；3.法兰；4.上层下极板；5.下层上极板；6.观察窗；7.下层下极板；8.升降机；9.蝶阀；10.罗茨泵；11.机械泵；12.升降杆；13.主机柜；14.沉积室中段；15.下封头；16.柜门。
具体实施方式
在主机柜13的上部设置有圆筒型沉积室中段14，沉积室中段14通过法兰3带有上封头1和下封头15，现有技术的单层钟罩式设备的沉积室，上封头、下封头和沉积室中段是一体的，其有效工作空间一般均小于实际空间的一半，上下封头和沉积室中段的一部分均为无效空间。本实用新型的多层沉积室的上封头1和沉积室中段14是分开的，在上封头1和下封头15的内部分别设有上层上极板2和下层下极板7，在沉积室中段14内部分别与上层上极板2和下层下极板7对应设有上层下极板4和下层上极板5，这样上封头1和沉积室中段14的上部分以及上层上极板2和上层下极板4就形成一个完整的沉积室。而沉积室中段14的下部分和下封头15以及下层上极板5和下层下极板7又成为一个完整的沉积室。从而使其有效工作空间成倍提高。如上所述，可根据需要设置一层沉积室中段14，也可以设置多层沉积室中段14，这样每增加一个沉积室中段14，以及相应的上下层极板，即可增加一个完整的沉积室。另外在沉积室中段14内可以设置一对上下极板(单层)，也可以设置若干对上下极板(多层)组成。层与层之间可以是相通的(同一组真空泵)，也可以是不相通的(每层一组真空泵)，所以真空泵也可由一组或多组组成。在沉积室中段14上设有观察窗6，其观察窗6可每层一个或多个。下封头15的底部通过蝶阀9和管道分别与安装在主机柜13壳体上的罗茨泵10和机械泵11连接，从而构成整个沉积室主机。在主机柜13上设有可开关的柜门16。
上封头1与安装在主机柜13壳体上的升降机8连接，沉积室中段14与安装在主机柜13壳体上的升降杆12连接，这样可以通过升降机8和升降杆12把上封头盖和沉积室中段14开启和关闭。
沉积室通过其上端的通管接头及流量计与气瓶连接，气瓶内装有用于沉积的陶瓷气体。沉积室的上极板的极端通过导线和隔直流电容与高频电源连接。下极板的极端通过导线与高频电源的地线共接对地。此为现有技术，不在赘述。
此主机结构可与相应的电脑控制系统连接，其真空、温度、工作气体的流量、射频电源的功率等价格9参数均由电脑自动控制。沉积室中段14的直径在1000毫米-5000毫米之间，其高度在1000毫米-5000毫米之间，工作空间大，能较好的解决立式钟罩式沉积装置加工面积小的问题。法兰3的直径也在1000毫米-5000毫米之间，这样采用同直径法兰密封的立式多层设备，其加工量可达到原立式钟罩式设备加工面积的1倍至数倍(每增加一层沉积室中段14即可增加1倍)，便于大规模产业化生产，同时降低设备加工成本和产品加工成本。

Claims (9)

1.一种立式多层陶瓷薄膜沉积装置，包括上封头(1)、沉积室中段(14)、下封头(15)，以及设置在主机柜(13)内的升降机(8)、罗茨泵(10)、机械泵(11)，其特征是：在所述的主机柜(13)的上部设置有沉积室中段(14)，沉积室中段(14)带有上封头(1)和下封头(15)，在上封头(1)和下封头(15)内部分别设有上层上极板(2)和下层下极板(7)，在沉积室中段(14)内部分别与上层上极板(2)和下层下极板(7)对应设有上层下极板(4)和下层上极板(5)，在沉积室中段(14)上设有观察窗(6)，所述的下封头(15)的底部通过蝶阀(9)和管道连接有罗茨泵(10)和机械泵(11)。
2.根据权利要求1所述的一种立式多层陶瓷薄膜沉积装置，其特征是：所述的上封头(1)与安装在主机柜(13)壳体上的升降机(8)连接，所述的沉积室中段(14)与安装在主机柜(13)壳体上的升降杆(12)连接。
3.根据权利要求1所述的一种立式多层陶瓷薄膜沉积装置，其特征是：所述的主机柜(13)的上部设置有至少一层沉积室中段(14)。
4.根据权利要求1所述的一种立式多层陶瓷薄膜沉积装置，其特征是：所述的沉积室中段(14)内部至少设有一对上下极板。
5.根据权利要求1所述的一种立式多层陶瓷薄膜沉积装置，其特征是：所述的沉积室中段(14)上至少设有一个观察窗(6)。
6.根据权利要求1所述的一种立式多层陶瓷薄膜沉积装置，其特征是：所述的沉积室中段(14)通过法兰(3)与上封头(1)和下封头(15)连接。
7.根据权利要求1所述的一种立式多层陶瓷薄膜沉积装置，其特征是：所述的沉积室中段(14)，其直径为1000毫米-5000毫米之间，其高度为1000毫米-5000毫米之间。
8.根据权利要求6所述的一种立式多层陶瓷薄膜沉积装置，其特征是：所述的法兰(3)的直径为1000毫米-5000毫米之间。
9.根据权利要求1所述的一种立式多层陶瓷薄膜沉积装置，其特征是：所述的主机柜(13)设有柜门(16)。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN101403090B (zh) * 2007-10-05 2011-08-24 韩国原子力研究院 利用多层基板固定器结构的装载锁定腔室的薄膜蒸镀装置
CN101403091B (zh) * 2007-10-05 2012-04-18 韩国原子力研究院 利用大量基板安装及卸载系统的批量生产型薄膜蒸镀装置
CN102560439A (zh) * 2012-03-29 2012-07-11 雅视光学有限公司 等离子体表面处理方法及装置
CN114540750A (zh) * 2021-10-21 2022-05-27 杭州大和热磁电子有限公司 一种镀膜机壳体及加工方法

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