CN2506655Y - 旋转蚀刻机用的化学液回收的再生装置 - Google Patents
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Abstract
一种旋转蚀刻机用的化学液回收的再生装置,主要是利用旋转所产生的离心力将化学药液甩出晶圆夹盘,而以化学药液回收环,区分不同的化学药液以进行回收。用于多种旋转蚀刻化学药液的回收,依需求分类并流入指定的管路中,进行后续的再生或排放,无需改变原有旋转蚀刻机的制程反应室的外观尺寸下,即可进行化学药液的回收。
Description
技术领域
本实用新型是有关于一种旋转蚀刻机用的化学液回收的再生装置,特别是有关于旋转蚀刻(Spin Etching)机台所产生的化学药液的回收与再生装置。
背景技术
目前市面上的半导体制程中,常利用薄膜与特定化学溶液间进行的化学反应,来去除未被光阻覆盖的薄膜,然而这些化学溶液是会造成环境的污染。目前市面上尚未见到任何针对旋转蚀刻机台所产生的化学药液进行回收的装置。由于制程上一般化学液的消耗量相当可观,而其价格也不便宜。对日益竞争激烈的半导体业者而言,降低成本以提升本身竞争力,已成为其采购相关设备的重要考虑因素之一。
目前国内及国际上对于环保方面的要求标准日益提高,而对于工业界生产制程所产生的废弃物的处理也日益的严苛,因而如何进行化学药液的回收与再生,也是目前降低污染一个重要的努力方向。
发明内容
针对上述现有技术中,所述的化学废液的高处理成本及日益严苛的环保要求。本发明人创造出针对旋转蚀刻机台所产生的化学废液进行回收与再生的装置。
本实用新型的主要目的是提供一种旋转蚀刻机用的化学液回收的再生装置,其针对旋转蚀刻制程中所使用的化学药液进行回收与再生的装置。通过使用一种在旋转蚀刻机台上回收化学药液的装置,其包合晶圆夹盘用来夹紧反应室中的晶圆,并通过离心力将其上的化学药液甩出晶圆夹盘;化学药液回收盘用来回收旋转蚀刻机制程中使用的化学药液或废水,在不需改变既有的制程反应室外围尺寸的情况下,以修改原设计中的相关结构及组件,达到旋转蚀刻机用的化学液回收的目的。
本实用新型的目的是这样实现的:一种旋转蚀刻机用的化学液回收的再生装置,其特征是:它包括固定及旋转一晶圆的晶圆夹盘;化学药液回收环位于该晶圆夹盘的下方;控制该化学药液回收环向上或向下移动的伸缩管位移控制装置与该化学药液回收环连接;化学药液回收盘与该伸缩管位移控制装置相连接,具有两个环状凹槽及两个排出口排出及回收该第一及第二化学药液。
该伸缩管位移控制装置更包含一铁氟龙结构的气压驱动的组合式伸缩管。该化学药液回收盘为铁氟龙结构。该第一化学药液为做为蚀刻后的清洗用的去离子水。该第二化学药液为做为该晶圆蚀刻用的氢氟酸。包括再生或过滤装置直接连接该旋转蚀刻机台上回收化学药液的装置。包括铁氟龙结构的销子由上而下固定该化学药液回收环及该伸缩管位移控制装置。
另一种旋转蚀刻机用的化学液回收的再生装置,其特征是:它包括固定及旋转一晶圆的晶圆夹盘;多个分开该晶圆夹盘上甩出的化学药液的化学药液回收环位于该晶圆夹盘的下方;移动控制装置与该多个化学药液回收环连接;具有多个环状凹槽及排出口的化学药液回收盘与该控制装置相连接。
该移动控制装置更包含一铁氟龙结构的由气压驱动的组合式伸缩管。该移动控制装置更包含一油压控制机构。化学药液回收盘为铁氟龙结构。该化学药液为做为晶圆蚀刻用的氢氟酸,或做为蚀刻后的清洗用的无离子水。更包含一过滤装置与浓度感应装置直接连接该旋转蚀刻机台上回收化学药液的装置。更包含一铁氟龙结构的销子由上而下固定该化学药液回收环及该位移控制装置。
下面结合较佳实施例和附图进一步说明。
附图说明
图1为本实用新型的前视剖面示意图;
图2为本实用新型的局部放大剖面示意图。
具体实施方式
本实用新型是为一种旋转蚀刻制程中化学药液回收与再生的装置。无需改变原有旋转蚀刻机的制程反应室(Processchamber)的外观尺寸下,修改原设计中的相关结构及组件,以进行化学药液的回收。本实用新型可以使用于旋转蚀刻机的多种蚀刻用化学药液与清洁制程的去离子水的回收与排放。在制程中依需求自动的加以分类并流入指定的容器中,以进行下一步的再生与利用或排放。为求更进一步的说明本实用新型,以下将以一个较佳实施例来说明本实用新型的实施与其精神。
参阅图1所示,本实用新型的旋转蚀刻机用的化学液回收的再生装置,包括晶圆夹盘102为一可旋转的夹持装置,当进行旋转蚀刻及清洗的时候,可以用不同的转速旋转;而化学药液回收环104为一可上下移动的液体分类装置,当其向上移动至上死点的位置的时候,此时晶圆夹盘102处于转动的状态,从晶圆夹盘102所流下并被甩出的去离子水及因进行制程参数确认时慢速旋转时所流出的化学药液,由化学药液回收环104的内侧流入化学药液回收盘114中的内环凹槽118,并由第二排放管108进行排放。
一般而言,本实用新型的旋转蚀刻机用的化学液回收与再生装置的化学药液回收盘114的最内侧为排放用途,一般较低污染的液体及较少量的化学药液而无法再生使用由此加以排放。
当化学药液回收环104向下移动至下死点的攸置的时候,此时晶圆夹盘102处于高速转动的状态,从晶圆夹盘IO2由离心力(Eccentric force)被甩出的化学药液,飞过化学药液回收环104的上方,碰到化学药液回收盘上盖112而流入化学药液回收盘114中的外环凹槽117,并由第一排放管106进行回收。外壳110为本实用新型的旋转蚀刻机用的化学液回收再生装置的防尘及保护之用
图2所示为本实用新型的旋转蚀刻机用的化学液回收再生装置的局部放大剖面示意图,用来更清楚的说明此装置的操作方式。当化学药液回收环104的位置在上死点的时候,化学药液由晶圆夹盘102顺着排液口116被甩至化学药液回收环104的内侧,顺着化学药液回收盘114的内环凹槽118流人第二排放管108中。
当化学药液回收环104的位置在下死点的时候,化学药液由晶圆夹盘102顺着排液口116飞过化学药液回收环104,被甩至化学药液回收盘上盖112的内侧,顺着化学药液回收盘114的外环凹槽117流入第一排放管106中。
其中化学药液回收环104是由伸缩管120来控制移动的方向,当伸缩管120进气时,因体积膨胀而使化学药液回收环104向上移动,当伸缩管120抽气时,因体积收缩而使化学药液回收环104向下移动。而伸缩管120被固定于回收盘114下方的固定座之上,为回收盘114的一部分并不随着移动,另一边则与化学药液回收环104相连接,且随着伸缩管120膨胀及收缩而上下移动。
由于是组合式伸缩方式,当长期动作导致破损时,仅需更换该铁氟龙制的组合式伸缩管120,以节省成本及时间。而组合式的伸缩管120,也可以使用机械式的机构或油压式的驱动机构来取代,并不脱离本实用新型的精神与范围。而化学药液回收环104、伸缩管120及化学药液回收盘114更可以依实际的制程需要,并不限定其使用的数量及所回收的液体的种类。在第一排放管106及第二排放管108的后面,也可以直接连接过滤器、浓度感知器或其它的设备,以进行化学药液的再生与过滤。同时,熟知此项技术的人由本实用新型上述的最佳实施例亦可使用多个化学药液回收环来回收多种不同的化学药液。其中更包含铁氟龙结构的销子由上而下固定化学药液回收环及位移控制装置,可避免化学药液腐蚀位移控制装置。
以上所述仅为本实用新型的较佳实施例,凡其它未脱离本实用新型所揭示的精神下所完成的等效改变或修饰,均应包含在本实用新型的保护范围之内。
Claims (14)
1、一种旋转蚀刻机用的化学液回收的再生装置,其特征是:它包括固定及旋转晶圆的晶圆夹盘;化学药液回收环位于该晶圆夹盘的下方;控制该化学药液回收环向上或向下移动的伸缩管位移控制装置与该化学药液回收环连接;化学药液回收盘与该伸缩管位移控制装置相连接,具有回收第一化学药液及第二化学药液的两个环状凹槽及两个排出口。
2、根据权利要求1所述的旋转蚀刻机用的化学液回收的再生装置,其特征是:该伸缩管位移控制装置更包含一铁氟龙结构的气压驱动的组合式伸缩管。
3、根据权利要求1所述的旋转蚀刻机用的化学液回收的再生装置,其特征是:该化学药液回收盘为铁氟龙结构。
4、根据权利要求1所述的旋转蚀刻机用的化学液回收的再生装置,其特征是:该第一化学药液为做为蚀刻后的清洗用的无离子水。
5、根据权利要求1所述的旋转蚀刻机用的化学液回收的再生装置,其特征是:该第二化学药液为做为该晶圆蚀刻用的氢氟酸。
6、根据权利要求1所述的旋转蚀刻机用的化学液回收的再生装置,其特征是:还包括回收该化学药液的再生或过滤装置连接于该旋转蚀刻机台上。
7、根据权利要求1所述的旋转蚀刻机用的化学液回收的再生装置,其特征是:包括铁氟龙结构的销子由上而下固定该化学药液回收环及该伸缩管位移控制装置。
8、一种旋转蚀刻机用的化学液回收的再生装置,其特征是:它包括固定及旋转晶圆的晶圆夹盘;多个分开该晶圆夹盘上甩出的化学药液的化学药液回收环位于该晶圆夹盘的下方;移动控制装置与该多个化学药液回收环连接;具有多个环状凹槽及排出口的化学药液回收盘与该控制装置相连接。
9、根据权利要求8所述的旋转蚀刻机用的化学液回收的再生装置,其特征是:该移动控制装置更包含一铁氟龙结构的气压驱动的组合式伸缩管。
10、根据权利要求1所述的旋转蚀刻机用的化学液回收的再生装置,其特征是:该移动控制装置更包含一油压控制机构。
11、根据权利要求1所述的旋转蚀刻机用的化学液回收的再生装置,其特征是:该化学药液回收盘为铁氟龙结构。
12、根据权利要求1所述的旋转蚀刻机用的化学液回收的再生装置,其特征是:该化学药液为做为晶圆蚀刻用的氢氟酸,或做为蚀刻后的清洗用的无离子水。
13、根据权利要求1所述的旋转蚀刻机用的化学液回收的再生装置,其特征是:更包含一过滤装置与浓度感应装置直接连接该旋转蚀刻机台上回收化学药液的装置。
14、根据权利要求1所述的旋转蚀刻机用的化学液回收的再生装置,其特征是:更包含一铁氟龙结构的销子由上而下固定该化学药液回收环及该位移控制装置。
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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CN 01267473 CN2506655Y (zh) | 2001-10-11 | 2001-10-11 | 旋转蚀刻机用的化学液回收的再生装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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CN2506655Y true CN2506655Y (zh) | 2002-08-21 |
Family
ID=33673845
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN 01267473 Expired - Lifetime CN2506655Y (zh) | 2001-10-11 | 2001-10-11 | 旋转蚀刻机用的化学液回收的再生装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
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