CN2471400Y - 一种核微孔膜 - Google Patents

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候德义
张灿哲
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Abstract

一种核微孔膜由聚酯薄膜制成,其特征在于膜的一面为不亲水的光滑透明面,另一面为亲水的不光滑半透明或不透明乳白色,核微孔的纵向结构呈单截锥形。这种微孔膜由于一面不亲水,在用于气体过滤时不会因湿气而在膜表面形成水膜而影响滤速;单截锥形的孔径结构使过滤自孔径小的一面向大的面进行时,符合流体力学原理、不会造成堵塞,因此效率高,作防伪标记用时,因膜的一面为光滑透明面而更显美观。

Description

一种核微孔膜
本发明涉及核微孔膜领域,具体地涉及一种新型结构核微孔膜。
近年来,随着核技术应用开发工作的发展,核微孔膜技术及其产品也随着其在过滤、分离和防伪等领域的广泛应用而不断改进。目前市场上的微孔膜其微孔结构多为近于园柱形或双截锥形,见附图1和图2,在这种微孔膜被用于过滤或分离过程中时,对园柱形微孔结构,由于H大,因而流体阻力较大,影响过滤速度,对双截锥形结构,由于双截锥体交接处d较小,使大于d的颗粒易卡在锥斗内,形成堵塞从而影响过滤或分离效率,也使核孔膜的使用寿命降低,造成浪费。加之这种核孔膜两面均为亲水性,在用于气体的过滤时,由于气体湿度原因,易在表面形成水膜而影响滤速。
本实用新型的目的是提供一种不易堵塞、过滤效率高,使用寿命长的核微孔膜。
本实用新型的核微孔膜,由聚酯薄膜制成,其特征在于:核微孔膜的表层(1)为不亲水的光滑透明面,表层(2)为亲水的不光滑半透明或不透明乳白色表面,核微孔(3)的纵向孔径结构呈单截锥形,锥底在表层(2)。表层(1)上蚀刻孔径d(即单截园锥形的顶部)为0.1—10μm,表层(2)上蚀刻孔径D(即锥底直径)与d之比,D/d=2∶1—3∶1。孔密度为104—108/cm2,孔径高度H(即核微孔膜的厚度)为10—30μm。
通常,聚酯膜经辐照、敏化处理后,将它浸泡在蚀刻溶液中进行化学蚀刻,这样,蚀刻过程是从膜的两个表面,沿离子径迹纵向往深层进行,这样处理后得到的核微孔膜的纵向结构必然是近乎双截园锥形或园柱形,且膜的两个表面均成为亲水性的半透明或不透明的乳白色。
本实用新型通过如下特殊处理实现:
将10—30μ的聚酯薄膜,采用加速器提供的重离子束,在专用的离子束扫描磁铁装置的扫描系统上进行辐照,并经敏化处理后,进行单面化学蚀刻,具体方法可有二个:(1)将经敏化处理后的聚酯膜的一面涂上一层耐蚀刻的物质,再将膜置于蚀刻液中进行化学蚀刻。(2)将聚酯膜悬浮在蚀刻液的表面上,使只有聚酯膜与蚀刻液接触的一面发生化学蚀刻,形成不光滑的半透明或不透明的乳白色亲水表面层。
由于膜的单面进行化学蚀刻,使只有蚀刻的一面孔径变大,未蚀刻的一面孔径小,按从孔径小的一面向孔径大的一面的方向进行气、液体的过滤,符合流体力学原理,因此可得到高的滤速。小实用新型的优点是由于这种核微孔膜为单面亲水性和单截锥形的纵向结构,使该膜用于气体、液体过滤和分离时,效率高,当用作防伪标记时,由于一面为光滑透明面从而可使标记更美观。
本实用新型有如下附图:
图1园柱形的微孔纵向结构
图2双截锥形的微孔纵向结构
图3单截锥形的微孔纵向结构
实施例1:
选用厚度为20μm的透明PET聚酯薄膜为原材料,用重离子串列加速器上产生的能量为135MeV32S离子辐照产生核径迹,控制核孔膜扫描系统使薄膜孔密度保持在2×106/cm2,将辐照过的薄膜进行紫外光敏化处理,薄膜距光源10cm,时间10分钟,用油笔在膜的表层1涂抹一层,然后放入6N NaOH溶液中,温度60℃,蚀刻40分钟。取出膜,将涂油层抹去,即显露出光滑透明的表层1,另一面则是乳白色半透明的表层2。单截锥形的孔径d为2μm。
实施例2:
其它条件同例1,将辐照过的薄膜经敏化处理后将其悬浮在6NNaOH蚀刻液中,蚀刻完后取出,清水漂洗,凉干。

Claims (4)

1.一种核微孔膜,由聚酯薄膜制成,其特征在于:核微孔膜的表层(1)为不亲水的光滑透明面,表层(2)为亲水的不光滑半透明或不透明乳白色表面,核微孔(3)的纵向孔径结构呈单截园锥形、锥底在表层(2)。
2.根据权利要求1所述的核微孔膜,其特征在于表层(1)上蚀刻孔径d(即单截园锥形的顶部)为0.1—10μm,表层(2)上蚀刻孔径D(即锥底直径)与d之比,D/d=2∶1—3∶1。
3.根据权利要求1或2所述的核微孔膜,其特征在于其孔密度为104—108/cm2
4.根据权利要求1或2或3所述的核微孔膜,其特征在于其孔径高度H(即核微孔膜的厚度)为10—30μm。
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