CN2418137Y - 交直流叠加铝箔带阳极氧化装置 - Google Patents
交直流叠加铝箔带阳极氧化装置 Download PDFInfo
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Abstract
交直流叠加铝箔带阳极氧化装置,由去毛刺装置,氧化装置和封闭保护装置构成,氧化装置槽体中设有与交直流电源相接的电极板,交直流电源电路为可调电压的三相交流电a、b、c一次绕组,二次绕组分成两部分,第一部分为三相交流电A、B、C,第二部分为二极管整流的单相直流电D,D为正极,负极与三相交流的中点O连接,氧化膜生成速度快,膜层晶粒快速扩散,散热,保护氧化膜不被溶解,可广泛应用。
Description
本实用新型涉及一种铝箔带处理设备，尤其是铝箔带阳极氧化装置的设计和制造技术。
目前利用电化学阳极氧化法使铝箔带表面形成电绝缘氧化膜，利用这种电绝缘氧化膜铝箔带来绕制各种电磁设备中的电磁线圈，靠氧化膜的绝缘作用，使电磁线圈具有层间耐击穿电压高，导热性好，填充系数高，节省材料，耐高温等优点，因此，所述的铝箔带将被广泛地应用于制造电器设备。阳极氧化过程是采用直流方式进行的，即在氧化槽内通入直流电，氧化膜脆性大，发热量高，膜溶解速度快。专利号为：97205110．4，公告号CN2299072Y，专利名称为：铝箔带连续三相交流电阳极氧化装置，公开了阳极氧化过程是采用三相交流电方式进行的，即在氧化槽内通入交流电，只有一半时间处于氧化，电利用率低，氧化速度慢，氧化膜柔性好。
本实用新型的目的是提供一种使氧化膜形成速度提高的交直流叠加铝箔带阳极氧化装置。
本实用新型的目的是这样实现的，其由去毛刺装置，氧化装置和封闭保护装置构成，其特征是：氧化装置槽体中设有与交直流电源相接的电极板，交直流电源电路为可调电压的三相交流电a、b、c一次绕组，二次绕组分成两部分，第一部分为三相交流电A、B、C，第二部分为二极管整流的单相直流电D，D为正极，负极与三相交流的中点O连接。
本实用新型的优点是，当交流电的正半波与直流电(+)叠加时，在铝箔带上进行大电流阳极氧化，氧化膜快速生成，当交流电的负半波与直流电(+)叠加结果，使铝箔带上氧化电流下降，氧化膜的生成速度下降，膜层晶粒快速扩散，散热，保护氧化膜不被溶解，使氧化膜的形成速度提高。从而克服了单纯交流阳极氧化和单纯直流阳极氧化的缺点和不足，同时，保留了交流氧化和直流氧化的优点。
以下结合附图及实施例对本实用新型进行详细说明。
图1为本实用新型电路图。
图2为本实用新型四槽氧化装置结构示意图。
图3为本实用新型两槽氧化装置结构示意图。
实施例1
该阳极氧化装置如图2所示，在氧化装置四个槽体1中设有电极板2，四个槽体用隔板3相隔，第一槽体电极板接直流电D，第二、三、四槽体电极板接交流电A、B、C，经实验效果极佳。
实施例2
该阳极氧化装置如图3所示，在氧化装置两个槽体1中设有电极板2，两个槽体用隔板3相隔，第一槽体电极板接直流电D，第二槽体有三个电极板，分别接三相交流电A、B、C，达到使用效果。
Claims (3)
1、交直流叠加铝箔带阳极氧化装置，由去毛刺装置，氧化装置和封闭保护装置构成，其特征是：氧化装置槽体[1]中设有与交直流电源相接的电极板[2]，交直流电源电路为可调电压的三相交流电a、b、c一次绕组，二次绕组分成两部分，第一部分为三相交流电A、B、C，第二部分为二极管整流的单相直流电D，D为正极，负极与三相交流的中点O连接。
2、根据权利要求1所述的交直流叠加铝箔带阳极氧化装置，其特征是：在氧化装置四个槽体[1]中设有电极板[2]，四个槽体用隔板[3]相隔，第一槽体电极板接直流电D，第二、三、四槽体电极板接交流电A、B、C。
3、根据权利要求1所述的交直流叠加铝箔带阳极氧化装置，其特征是：在氧化装置两个槽体[1]中设有电极板[2]，两个槽体用隔板[3]相隔，第一槽体电极板接直流电D，第二槽体有三个电极板，分别接三相交流电A、B、C。
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Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN100426467C (zh) * | 2004-12-25 | 2008-10-15 | 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 | 一种成长超薄闸极氧化层的方法 |
| CN101545128B (zh) * | 2008-03-24 | 2011-04-20 | 铃木株式会社 | 阳极化方法和装置 |
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2000
- 2000-05-17 CN CN 00211911 patent/CN2418137Y/zh not_active Expired - Fee Related
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| CN100426467C (zh) * | 2004-12-25 | 2008-10-15 | 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 | 一种成长超薄闸极氧化层的方法 |
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