CN2333716Y - 等离子体型阴极弧源一磁控溅射镀膜机 - Google Patents
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Abstract
等离子体型多弧源－磁控溅射镀膜机,它包括真空室,在真空室上联接有真空排气装置,真空室中安装有工件架,其特征是在真空室的底部安装有E型电子枪,同时在真空室中还安装有等离子体源、磁控溅射源和阴极弧源。本实用新型的优点有:由于生产工艺的简化和设备投资的减小,使产品的生产成本得到降低。消除了原生产工艺对环境的污染及对人体所产生的有害影响,可以在仿金饰件外镀制保护膜,可以提高其使用寿命。
Description
本实用新型是一种镀膜设备，特别是一种等离子体型阴极弧源-磁控溅射镀膜机。
表面镀制氮化钛的仿金饰件(如表带、表壳、项链等)一般采用不锈钢或黄铜作基体，但因不锈钢的机械加工性能不好，所以现在大多采用黄铜，然而由于黄铜的表面镀不上氮化钛，所以需要先电镀一层钯-镍合金，又由于氮化钛的颜色虽然呈金黄，但发青，所以需要在氮化钛的表面再电镀一层金膜，而由于氮化钛的表面附着性能不好，需要在电镀金膜之前离子镀一层镍，又称闪镍，然后再进行电镀金。这就是现行的仿金镀膜的生产工艺，这种工艺非常复杂，所需生产设备有电镀钯-镍合金装置、多弧离子镀膜机和电镀金装置等多台设备，设备的投资也相应较高，而且电镀钯-镍合金及电镀金对环境有污染，镀制的膜层中含有的镍元素对人体有害，易引发皮肤癌，另外表面的金膜质软易磨损，使用寿命短。
本实用新型的目的是提供一种新型的镀膜设备，它可以使镀膜工艺简化，设备投资减小，同时提高仿金件的使用寿命。
本实用新型的目的是这样实现的：它包括真空室，在真空室上联接有真空排气装置，真空室中安装有工件架，其特征是在真空室的底部安装有E型电子枪，同时在真空室中还安装有等离子体源、磁控溅射源和阴极弧源。
利用本实用新型生产仿金饰品，可以首先使磁控溅射源工作，在黄铜基体上镀制一层不锈钢膜，然后启动阴极弧源，在不锈钢膜的表面镀制一层氮化钛膜，再利用磁控溅射源进行离子掺金，然后启动电子枪和等离子体源在金膜的表面镀制一层透明陶瓷保护层。
本实用新型是针对现有仿金饰件的生产设备所存在的一些问题而设计的一种新型镀膜设备，它将现在分别存在的阴极弧源、磁控溅射源、电子枪等有机的结合在一起，安装在一个真空室中，可以独立的或多组复合工作，其产生的优点有：简化了仿金饰品的生产工艺及生产周期，降低了设备的投资，使产品的生产成本得到降低。消除了电镀钯镍合金和电镀金对环境的污染。消除了镍元素对人体所产生的有害影响。等离子体源的离化率高，可达到100％，所以能在低温下进行活性反应，镀制透明陶瓷保护膜或其它氮化物、碳化物等膜层，在仿金饰件外镀制保护膜，可以提高其使用寿命。
下面结合实施例及其附图对本实用新型作进一步详细的说明。
图1是本实用新型的结构剖面示意图。
图中8是真空室，6为真空排气口，由此联接真空排气装置，在真空室中装有工件架12，工件架上联接有负偏压电源11，工件架在电机的带动下转动，在工件架的侧面装有加热烘烤装置10，真空室设有工作气体输入口A和反应气体输入口B，在真空室的上部装设有等离子体源1，下部装设有E型电子枪5，真空室的侧面装有平面磁控溅射源2和4，同时装有阴极蒸发弧源3。图中9是挡板。
本实用新型中的磁控溅射源也可以采用柱形(包括圆柱和矩形柱)溅射源，安装在真空室的中心。
上述等离子体源、E型电子枪、磁控溅射源和阴极弧源等均为市场有售。
Claims (2)
1、等离子体型多弧源-磁控溅射镀膜机，它包括真空室，在真空室上联接有真空排气装置，真空室中安装有工件架，其特征是在真空室的底部安装有E型电子枪，同时在真空室中还安装有等离子体源、磁控溅射源和阴极弧源。
2、根据权利要求1所说的镀膜机，其特征是磁控溅射源可以采用平面或柱形溅射源。
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
| CN 98236950 CN2333716Y (zh) | 1998-03-18 | 1998-03-18 | 等离子体型阴极弧源一磁控溅射镀膜机 |
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| CN 98236950 CN2333716Y (zh) | 1998-03-18 | 1998-03-18 | 等离子体型阴极弧源一磁控溅射镀膜机 |
Publications (1)
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| CN2333716Y true CN2333716Y (zh) | 1999-08-18 |
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| CN 98236950 Expired - Fee Related CN2333716Y (zh) | 1998-03-18 | 1998-03-18 | 等离子体型阴极弧源一磁控溅射镀膜机 |
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| CN (1) | CN2333716Y (zh) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102787299A (zh) * | 2012-05-21 | 2012-11-21 | 杭州大和热磁电子有限公司 | 一种真空镀膜装置、真空镀膜控制系统及控制方法 |
| CN107805785A (zh) * | 2017-10-18 | 2018-03-16 | 东莞产权交易中心 | 一种铝板加工用多弧型离子镀膜机 |
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1998
- 1998-03-18 CN CN 98236950 patent/CN2333716Y/zh not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN102787299A (zh) * | 2012-05-21 | 2012-11-21 | 杭州大和热磁电子有限公司 | 一种真空镀膜装置、真空镀膜控制系统及控制方法 |
| CN102787299B (zh) * | 2012-05-21 | 2014-09-10 | 杭州大和热磁电子有限公司 | 一种真空镀膜装置、真空镀膜控制系统及控制方法 |
| CN107805785A (zh) * | 2017-10-18 | 2018-03-16 | 东莞产权交易中心 | 一种铝板加工用多弧型离子镀膜机 |
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