CN221421213U - 显示装置的制造装置 - Google Patents

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CN221421213U CN202323176290.9U CN202323176290U CN221421213U CN 221421213 U CN221421213 U CN 221421213U CN 202323176290 U CN202323176290 U CN 202323176290U CN 221421213 U CN221421213 U CN 221421213U
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金仁教
李大贤
任兴均
朱儇佑
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Abstract

本实用新型公开一种显示装置的制造装置,包括:腔体;基座,配置在所述腔体的内部,支承显示基板;掩模组装体,配置在所述基座上,配置有沉积区域;板部,配置在所述掩模组装体上,配置有板开口;以及喷射部,配置在所述腔体的内部,喷射沉积物质以使所述沉积物质依次通过所述板开口和所述沉积区域而沉积到所述显示基板上,在所述腔体中配置有收纳所述板部的至少一部分的切口部。

Description

显示装置的制造装置
技术领域
本实用新型的实施例涉及装置,更详细而言涉及显示装置的制造装置。
背景技术
正在广泛使用基于移动性的电子设备。作为移动用电子设备,除了如移动电话这样的小型电子设备以外,近几年还广泛使用平板PC。
如上所述的移动型电子设备为了支持各种功能并且为了向使用者提供如图像或影像这样的视觉信息而包括显示装置。近几年,随着用于驱动显示装置的其他部件变得小型化,趋势是显示装置在电子设备中所占的比重逐渐增加,还在开发可以从平坦的状态弯曲成具有预定的角度的结构。
实用新型内容
本实用新型的实施例的目的在于,在腔体的内部使沉积物质的流动变得理想,从而提高沉积在显示基板上的膜的厚度均匀性。
但是,这些课题是例示,本实用新型想要解决的课题并不限于此。
本实用新型公开一种显示装置的制造装置,包括:腔体;基座,配置在所述腔体的内部,支承显示基板;掩模组装体,配置在所述基座上,配置有沉积区域;板部,配置在所述掩模组装体上,配置有板开口;以及喷射部,配置在所述腔体的内部,喷射沉积物质以使所述沉积物质依次通过所述板开口和所述沉积区域而沉积到所述显示基板上,在所述腔体中配置有收纳所述板部的至少一部分的切口部。
在本实施例中,可以是,所述板部在第一位置处与所述腔体间隔开且与所述掩模组装体接触。
在本实施例中,可以是,在所述板部位于所述第一位置时,所述板部与所述腔体之间的距离比所述掩模组装体与所述腔体之间的距离小。
在本实施例中,可以是,所述板部在与所述第一位置间隔开的第二位置处与所述腔体接触且与所述掩模组装体间隔开。
在本实施例中,可以是,所述喷射部包括:上部部分,配置有上部开口以便供给所述沉积物质;下部部分,配置有多个下部孔以便朝向所述显示基板喷射所述沉积物质;以及侧面部分,连接所述上部部分和所述下部部分,在平面上,所述喷射部的内部空间的形状是四边形,所述上部部分的下表面包括曲面。
在本实施例中,可以是,所述上部部分的所述下表面包括凹陷的面。
在本实施例中,可以是,在与所述喷射部的所述内部空间的一侧面垂直的截面上,越远离所述喷射部的中心轴,所述上部部分的所述下表面与所述下部部分的上表面之间的距离渐进地增加。
在本实施例中,可以是,在贯通所述喷射部的所述内部空间的两个顶点的截面上,越远离所述喷射部的中心轴,所述上部部分的所述下表面与所述下部部分的上表面之间的距离渐进地增加之后再次减小。
在本实施例中,可以是,所述下部部分的上表面是平坦的。
在本实施例中,可以是,在贯通所述喷射部的中心轴的截面上,所述喷射部的形状是对称的。
通过以下的附图、权利要求书以及实用新型的详细说明,前述以外的其他侧面、特征以及优点会变得明确。
(实用新型效果)
根据本实用新型的实施例,可以提高显示装置的制造装置的制造品质。
本实用新型的效果并不限于以上所提及的效果,通过权利要求书的记载,本领域技术人员应当能够理解未提及的其他效果。
附图说明
图1至图3是本实用新型的一实施例涉及的显示装置的制造装置的示意性剖视图。
图4是本实用新型的一实施例涉及的喷射部的平面图。
图5和图6是本实用新型的一实施例涉及的喷射部的剖视图,图5可以对应于图4的Ⅴ-Ⅴ′,图6可以对应于图4的Ⅵ-Ⅵ′。
图7是示意性表示本实用新型的一实施例涉及的显示装置的平面图。
图8是示意性表示本实用新型的一实施例涉及的显示装置的剖视图,可以对应于沿着图7的Ⅷ-Ⅷ′线截取的显示装置的截面。
图9是本实用新型的一实施例涉及的显示装置之中的任一个像素的等效电路图。
符号说明:
1:显示装置的制造装置;11:腔体;12:开闭部;13:第一支承部;14:基座;15:掩模组装体;16:第二支承部;17:第三支承部;18:板部;PRC:压力调节部;NOZ:喷射部;SUP:沉积物质供给部;POW:电源部;FP:排出流路;VL:阀部。
具体实施方式
本实用新型可以具有各种变换以及各种实施例,在附图中例示特定实施例并在此进行详细说明。参照与附图一起详细后述的实施例,本实用新型的效果、特征以及达成这些效果和特征的方法会变得明确。但是,本实用新型并不限于以下公开的实施例,可以以各种形态实现本实用新型。
以下,参照附图详细说明本实用新型的实施例,在参照附图进行说明时,对于相同或对应的构成元件赋予相同的符号并省略对其的重复说明。
在以下的实施例中,第一、第二等用语并不是限定性用语,是为了将一个构成元件区别于其他构成元件而使用。
在以下的实施例中,单数的表述在文中没有明确相反意思时包括多个的表述。
在以下的实施例中,包括或者具有等用语应理解为是指代说明书上记载的特征或构成元件的存在,并不是事先排除一个以上的其他特征或构成元件的附加可能性。
在以下的实施例中,膜、区域、构成元件等部分位于其他部分上或者上方时,不仅包括直接位于其他部分上的情况,还包括其间存在其他膜、区域、构成元件等的情况。
在附图中,为了便于说明,构成元件其大小可能会有所放大或缩小。例如,图示的各构成的大小以及厚度是为了便于说明而任意示出的,本实用新型并不一定限于图示的情况。
在以下的实施例中,X轴、Y轴和Z轴并不限于直角坐标系上的三轴,可以解释为包括其的更宽泛的意义。例如,X轴、Y轴和Z轴可以彼此正交,但是也可以指代彼此不正交的彼此不同的方向。
在某一实施例可以以不同方式实现的情况下,特定的工序顺序也可以与所说明的顺序不同地被执行。例如,连续说明的两个工序实质上可以同时被执行,也可以以与所说明的顺序相反的顺序被执行。
图1至图3是本实用新型的一实施例涉及的显示装置的制造装置的示意性剖视图。
参照图1至图3,显示装置的制造装置1可以制造显示装置。显示装置的制造装置1可以包括腔体11、开闭部12、第一支承部13、基座14、掩模组装体15、第二支承部16、第三支承部17、压力调节部PRC、板部18、喷射部NOZ、沉积物质供给部SUP、电源部POW、排出流路FP以及阀部VL。
腔体11可以提供内部空间。腔体11所提供的内部空间可以是密闭的。在图1至图3中示出了腔体11的截面形状为四边形的情况,但是这仅仅是一个例示,腔体11的形状并不限于此。
腔体11可以是化学气相沉积法用腔体或等离子体化学气相沉积法用腔体。或者,腔体11可以是原子层沉积法用腔体或等离子体原子层沉积法用腔体。或者,腔体11可以是选择性地执行化学气相沉积法(或等离子体化学气相沉积法)和原子层沉积法(或等离子体原子层沉积法)的腔体。以下,以腔体11为等离子体化学气相沉积法用腔体的情况为中心进行详细说明。
开闭部12可以配置在腔体11的一侧。开闭部12可以选择性地开闭腔体11。例如,开闭部12可以包括门阀。在开闭部12开放了腔体11的状态下,机械臂可以将显示基板DS和掩模组装体15送入腔体11的内部或者从腔体11的内部送出显示基板DS和掩模组装体15。
基座14可以配置在腔体11的内部,支承显示基板DS的一面。基座14和显示基板DS可以是面接触。基座14可以沿着X轴方向和Y轴方向延伸,并且沿着上下方向(例如,Z轴方向)进行线性移动。随着基座14朝向上部方向(例如,+Z轴方向)移动,显示基板DS可以被安置于基座14,随着基座14朝向下部方向(例如,-Z轴方向)移动,显示基板DS可以与基座14间隔开。
第一支承部13可以配置在腔体11的内部,支承显示基板DS的一面。第一支承部13可以沿着上下方向(例如,Z轴方向)进行线性移动。第一支承部13可以被设置为多个,多个第一支承部13分别可以在与显示基板DS的角部相邻的位置处与显示基板DS接触。在基座14中可以配置多个孔,多个第一支承部13分别可以贯通配置在基座14中的多个孔。例如,第一支承部13可以被设置为沿着上下方向(例如,Z轴方向)延伸的形状。但是,这仅仅是一个例示,第一支承部13的形状并不限于此,第一支承部13也可以被设置为“T”字形状。
掩模组装体15可以配置在基座14上,配置有沉积区域。因此,沉积物质可以通过沉积区域而被沉积在显示基板DS上。掩模组装体15可以由金属物质形成。掩模组装体15可以包括掩模部151和阴影框152。
掩模部151可以配置在基座14上,配置有多个沉积孔。多个沉积孔可以与显示基板DS重叠。沉积物质可以通过多个沉积孔。
阴影框152可以配置在掩模部151上,配置有框开口OP152。框开口OP152可以与多个沉积孔重叠。框开口OP152可以配置在阴影框152的中心部。沉积物质可以通过框开口OP152。阴影框152的一面可以被掩模部151支承。随着掩模部151移动,被掩模部151支承的阴影框152也可以一同移动。
第二支承部16可以配置在腔体11的内部,支承掩模部151的一面。第二支承部16可以沿着上下方向(例如,Z轴方向)进行线性移动。随着第二支承部16移动,被第二支承部16支承的掩模部151也可以一同移动。即,掩模部151可以沿着上下方向(例如,Z轴方向)进行线性移动。
第二支承部16可以被设置为多个,多个第二支承部16分别可以在与掩模部151的角部相邻的位置处与掩模部151接触。在基座14中可以配置有多个孔,多个第二支承部16分别可以贯通配置在基座14中的多个孔。例如,第二支承部16可以被设置为沿着上下方向(例如,Z轴方向)延伸的形状。
第三支承部17可以配置在腔体11的内部,支承阴影框152的下表面(例如,朝向-Z轴的面)。第三支承部17可以被固定于腔体11。第三支承部17可以在与阴影框152的角部相邻的位置处与阴影框152接触。
板部18可以配置在掩模组装体15上。板部18的一面可以被掩模组装体15支承。随着掩模组装体15移动,被掩模组装体15支承的板部18也可以一同移动。例如,板部18可以配置在阴影框152上,与阴影框152接触。板部18可以由绝缘物质形成。例如,板部18可以包括陶瓷物质。
在板部18中可以配置板开口OP18。板开口OP18可以配置在板部18的中心部。沉积物质可以依次通过板开口OP18和掩模组装体15的沉积区域而被沉积到显示基板DS上。
在腔体11中可以配置收纳板部18的至少一部分的切口部110。切口部110可以具有槽形状,被配置成从腔体11的内表面开始凹陷。切口部110的形状可以对应于板部18的形状。通过切口部110,在板部18与腔体11之间可以形成空隙。在平面上,当板部18的形状为四边形的情况下,切口部110的形状也可以是四边形。
板部18可以在被收纳于切口部110的状态下在第一位置POS1与第二位置POS2之间移动。第一位置POS1可以与第二位置POS2间隔开。第一位置POS1可以配置在比第二位置POS2更靠上部的位置处。
如图1和图2所示,板部18可以在第一位置POS1处与腔体11间隔开且与掩模组装体15接触。板部18可以在第一位置POS1处被掩模组装体15支承为不与腔体11接触。此外,在板部18位于第一位置POS1时,板部18与腔体11之间的距离可以比掩模组装体15与腔体11之间的距离小。
如图3所示,板部18可以在第二位置POS2处与腔体11接触且与掩模组装体15间隔开。板部18可以在第二位置POS2处被腔体11支承。
压力调节部PRC可以包括泵。此时,随着泵工作,外部气体可以流入腔体11的内部或者可以向外部排出腔体11的内部的气体。
喷射部NOZ可以配置在腔体11的内部,向腔体11的内部供给沉积物质。喷射部NOZ可以具备多个喷嘴,可以通过多个喷嘴向腔体11的内部喷射沉积物质。在此,沉积物质可以是包括作为将要形成在显示基板DS上的层的原料的成分的气体。
沉积物质供给部SUP可以向喷射部NOZ供给沉积物质。此外,沉积物质供给部SUP可以储存沉积物质。
电源部POW可以与喷射部NOZ电连接。电源部POW可以向喷射部NOZ供给交流电源。此时,基座14可以被接地。在该情况下,喷射部NOZ可以起到上部电极的功能,基座14可以起到下部电极的功能。因此,在喷射部NOZ与基座14之间可以形成等离子体。
排出流路FP可以提供向腔体11的外部排出供给至腔体11的内部的沉积物质的通路。因此,沉积物质可以通过喷射部NOZ被喷射到腔体11的内部,通过排出流路FP被排出到腔体11的外部。阀部VL可以开闭排出流路FP。根据阀部VL开闭排出流路FP的程度,可以调节腔体11的内部压力。
参照图1,可以在腔体11的内部配置显示基板DS。第二支承部16可以朝向上部方向(例如,+Z轴方向)移动,基座14可以朝向下部方向(例如,-Z轴方向)移动。随着第二支承部16朝向上部方向(例如,+Z轴方向)移动,被第二支承部16支承的掩模部151以及被掩模部151支承的阴影框152也可以朝向上部方向(例如,+Z轴方向)移动。此外,被掩模组装体15支承的板部18也可以移动到第一位置POS1。
此外,随着基座14朝向下部方向(例如,-Z轴方向)移动,第一支承部13也可以朝向下部方向(例如,-Z轴方向)移动。第一支承部13的端部可以位于比基座14的上表面更靠上部的位置处。开闭部12可以开放腔体11,显示基板DS可以通过开闭部12而被安置到第一支承部13。即,显示基板DS和第一支承部13的端部可以接触。
参照图2,沉积物质可以沉积在显示基板DS上。若显示基板DS被安置到第一支承部13,则基座14可以朝向上部方向(例如,+Z轴方向)移动。随着基座14朝向上部方向(例如,+Z轴方向)移动,显示基板DS也可以在被基座14支承的状态下朝向上部方向(例如,+Z轴方向)移动,第一支承部13也可以与基座14一同朝向上部方向(例如,+Z轴方向)移动。此外,基座14和掩模部151彼此接触,掩模部151可以在被基座14支承的状态下朝向上部方向(例如,+Z轴方向)移动,阴影框152也可以在被掩模部151支承的状态下朝向上部方向(例如,+Z轴方向)移动。此时,第二支承部16可以不移动,因此第二支承部16和掩模部151可以彼此间隔开。随着压力调节部PRC、喷射部NOZ、沉积物质供给部SUP、电源部POW、排出流路FP和阀部VL工作,沉积物质可以沉积在显示基板DS上。
腔体11的内部空间可以被划分为配置在板部18的下部的第一空间ARE1、配置在板部18的上部的第二空间ARE2以及配置在板部18与腔体11之间的第三空间ARE3。
喷射部NOZ可以向第二空间ARE2喷射一定流量的沉积物质。此外,在第一空间ARE1中,一定流量的沉积物质可以通过排出流路FP而被排出到腔体11的外部。喷射部NOZ所喷射的沉积物质的流量可以与通过排出流路FP排出的沉积物质的流量相同。
通过阀部VL的工作,在第一空间ARE1中可以将沉积物质的压力维持为恒定。通过配置板部18,板部18与腔体11之间的第三空间ARE3变窄,从而第三空间ARE3中的压力变化可以变大。第二空间ARE2中的压力是相加了第一空间ARE1中的压力和第三空间ARE3中的压力变化的值,因此通过配置板部18,第二空间ARE2中的压力可以变高。
在第二空间ARE2中,沉积物质的流量恒定,但是通过配置板部18,沉积物质的压力变高,因此沉积物质的流速可以减小。随着沉积物质的流速减小,在显示基板DS上流动的沉积物质的流速的变化可以减少。因此,可以提高沉积在显示基板DS上的膜的厚度均匀性。
由于掩模组装体15是导电体,因此假设掩模组装体15距腔体11近,则在等离子体工序中,可能会在掩模组装体15与腔体11之间形成不必要的等离子体。因此,可能会妨碍显示基板DS的沉积品质。但是,在本实施例中,由于在掩模组装体15上配置作为绝缘体的板部18,因此可以在一定程度上确保掩模组装体15与腔体11之间的距离,同时可以减小板部18与腔体11之间的距离。因此,可以将沉积物质稳定且均匀地沉积到显示基板DS上。
若结束参照图2说明的步骤,则可以再次返回参照图1说明的步骤。沉积了沉积物质的显示基板DS通过开闭部12被送出到腔体11的外部,新的显示基板DS可以通过开闭部12被送入腔体11的内部。
参照图3,掩模部151可以被送出到腔体11的外部。第二支承部16和基座14可以朝向下部方向(例如,-Z轴方向)移动。随着第二支承部16朝向下部方向(例如,-Z轴方向)移动,被第二支承部16支承的掩模部151以及被掩模部151支承的阴影框152可以朝向下部方向(例如,-Z轴方向)移动。
随着阴影框152朝向下部方向(例如,-Z轴方向)移动,板部18可以移动到第二位置POS2。此外,随着阴影框152朝向下部方向(例如,-Z轴方向)移动,阴影框152可以与第三支承部17接触。即,随着阴影框152被第三支承部17支承,阴影框152可以朝向下部方向(例如,-Z轴方向)仅移动到与第三支承部17接触的位置处。在如上所述的过程中,阴影框152和掩模部151可以彼此间隔开。此时,掩模部151可以通过开闭部12被送出到腔体11的外部。阴影框152也通过开闭部12被送出到腔体11的外部。此外,新的掩模部151和/或阴影框152可以被送入腔体11的内部。
图4是本实用新型的一实施例涉及的喷射部的平面图,图5和图6是本实用新型的一实施例涉及的喷射部的剖视图。
图5可以对应于图4的Ⅴ-Ⅴ′,图6可以对应于图4的Ⅵ-Ⅵ′。
参照图4至图6,喷射部NOZ可以包括上部部分NOZU、侧面部分NOZS以及下部部分NOZD。
上部部分NOZU可以配置在喷射部NOZ的上部。上部部分NOZU可以配置有上部开口OPHOZU以便供给沉积物质。下部部分NOZD可以配置在喷射部NOZ的下部。下部部分NOZD可以配置有多个下部孔HNOZD以便朝向显示基板DS喷射沉积物质。侧面部分NOZS可以配置在喷射部NOZ的侧面。侧面部分NOZS可以连接上部部分NOZU和下部部分NOZD。
通过上部部分NOZU的侧面、侧面部分NOZS以及下部部分NOZD,在喷射部NOZ中可以形成内部空间ANOZ。上部开口OPHOZU、喷射部NOZ的内部空间ANOZ和多个下部孔HNOZD可以彼此连通。沉积物质可以通过上部开口OPHOZU流入喷射部NOZ的内部空间ANOZ,从而被喷射到多个下部孔HNOZD。
如图4所示,在平面上,喷射部NOZ的内部空间ANOZ的形状可以是四边形。例如,喷射部NOZ的内部空间ANOZ的形状可以是正方形。此外,如图5和图6所示,在贯通喷射部NOZ的中心轴CL的截面上,喷射部NOZ的形状可以以中心轴CL为基准对称。
如图5和图6所示,上部部分NOZU的下表面可以包括曲面。例如,上部部分NOZU的下表面可以包括凹陷的面。此外,下部部分NOZD的上表面可以是平坦的。
如前所述,图5是对应于图4的Ⅴ-Ⅴ′的剖视图。即,图5是与喷射部NOZ的内部空间ANOZ的一侧面垂直的剖视图。如图5所示,在与喷射部NOZ的内部空间ANOZ的一侧面垂直的截面上,越远离喷射部NOZ的中心轴CL,上部部分NOZU的下表面与下部部分NOZD的上表面之间的距离可以渐进地增加。即,中心轴CL处的上部部分NOZU的下表面的高度(例如,H1)可以低于与侧面部分NOZS相邻的位置处的上部部分NOZU的下表面的高度(例如,H2)。
如前所述,图6是对应于图4的Ⅵ-Ⅵ′的剖视图。即,图6是贯通喷射部NOZ的内部空间ANOZ的两个顶点的剖视图。在此,两个顶点表示在其间夹着中心轴CL而彼此远离的顶点。如图6所示,在贯通喷射部NOZ的内部空间ANOZ的两个顶点的截面上,越远离喷射部NOZ的中心轴CL,上部部分NOZU的下表面与下部部分NOZD的上表面之间的距离可以渐进地增加之后再次减小。
因此,如图6所示,中心轴CL与相邻于侧面部分NOZS的位置之间的上部部分NOZU的下表面的高度(例如,H3)可以高于中心轴CL处的上部部分NOZU的下表面的高度(例如,H1)以及与侧面部分NOZS相邻的位置处的上部部分NOZU的下表面的高度(例如,H4)。中心轴CL处的上部部分NOZU的下表面的高度以及与侧面部分NOZS相邻的位置处的上部部分NOZU的下表面的高度可以彼此相同。
以下,如图4所示,在平面上,将从中心轴CL朝向到达喷射部NOZ的内部空间ANOZ的侧面为止的最短距离的方向称为第一方向D1,将从中心轴CL朝向喷射部NOZ的内部空间ANOZ的顶点的方向称为第二方向D2。此外,在平面上,将具有以喷射部NOZ的内部空间ANOZ的相向的两个侧面之间的距离作为直径的圆形的形状的边界称为第一边界CR。
根据参照图4至图6说明的实施例,通过多个下部孔HNOZD喷射的沉积物质的流量可以变得均匀。对此,将在以下进行说明。
假设上部部分NOZU的下表面平坦的情况下,沿着第一方向D1越远离中心轴CL,沉积物质扩散得越宽,从而喷射到多个下部孔HNOZD的沉积物质的流量可能会减少。但是,如图5和图6所示,上部部分NOZU的下表面的高度沿着第一方向D1变高的实施例的情况下,沉积物质的横向流动变得顺畅,同时喷射到多个下部孔HNOZD的沉积物质的流量可以变得均匀。
在沿着第一方向D1流动的沉积物质到达侧面部分NOZS时,沿着第二方向D2流动的沉积物质可能还未到达侧面部分NOZS。
因此,若沿着第一方向D1流动的沉积物质到达侧面部分NOZS,则可能会与沿着第二方向D2流动的沉积物质一同集中在喷射部NOZ的内部空间ANOZ的顶点部分处。假设上部部分NOZU的下表面平坦的情况下,沉积物质原本从中心轴CL朝向侧面部分NOZS流动,但是若沉积物质越过了第一边界CR,则喷射到多个下部孔HNOZD的沉积物质的流量可能会增加。但是,如图6所示,在越过第一边界CR的同时上部部分NOZU的下表面的高度再次变低的情况下,沉积物质的横向流动受限,同时喷射到多个下部孔HNOZD的沉积物质的流量可以变得均匀。
图7是示意性表示本实用新型的一实施例涉及的显示装置的平面图。
参照图7,根据本实用新型的一实施例制造出的显示装置2可以包括显示区域DA以及位于显示区域DA的外侧的周边区域PA。显示装置2可以通过在显示区域DA中二维排列的多个像素PX的阵列来提供图像。
周边区域PA是不提供图像的区域,可以将显示区域DA整体地或部分地包围。在周边区域PA中可以配置用于向与各个像素PX对应的像素电路提供电信号或电源的驱动器等。在周边区域PA中可以配置作为能够与电子元件或印刷电路基板等电连接的区域的焊盘。
以下,说明显示装置2包括有机发光二极管(Organic Light Emitting Diode)OLED(参照图8)作为发光元件(Light emitting element)的情况,但是本实用新型的显示装置2并不限于此。作为其他实施例,显示装置2可以是包括无机发光二极管的发光显示装置(即,无机发光显示装置(Inorganic Light Emitting Display))。无机发光二极管可以包括含有基于无机物半导体的材料的PN结二极管。若向PN结二极管朝向正向施加电压,则可以注入空穴和电子,将通过该空穴与电子的复合产生的能量变换为光能,从而可以射出预定颜色的光。前述的无机发光二极管可以具有几~几百微米的宽度,在一些实施例中,无机发光二极管可以被称为微型LED。作为又一实施例,显示装置2可以是量子点发光显示装置(Quantum dot Light Emitting Display)。
另一方面,显示装置2不仅可以用作如移动电话(mobile phone)、智能电话(smartphone)、平板PC(tablet personal computer)、移动通信终端机、电子手册、电子书、PMP(portable multimedia player)、导航仪、UMPC(Ultra Mobile PC)等这样的便携式电子设备的显示屏幕,还可以用作电视机、笔记本、监视器、广告板、物联网(internet of things,IOT)装置等各种产品的显示屏幕。此外,一实施例涉及的显示装置2可以利用在如智能手表(smart watch)、手表电话(watch phone)、眼镜型显示器和头戴式显示器(head mounteddisplay,HMD)这样的可穿戴装置(wearabledevice)中。此外,一实施例涉及的显示装置2可用作汽车的仪表盘、汽车的仪表中央盒(center fascia)或配置在仪表盘的CID(CenterInformation Display,中央信息显示器)、代替汽车的后视镜的室内镜显示器(roommirror display)、作为汽车的后座用娱乐设备而配置在前座的背面的显示屏幕。
图8是示意性表示本实用新型的一实施例涉及的显示装置的剖视图,可以对应于沿着图7的Ⅷ-Ⅷ′线截取的显示装置的截面。
参照图8,显示装置2可以包括基板100、像素电路层PCL、显示元件层DEL以及封装层300的层叠结构。
基板100可以是包括含有高分子树脂的基底层和无机层的多层结构。例如,基板100可以包括含有高分子树脂的基底层以及作为无机绝缘层的阻挡层。例如,基板100可以包括依次层叠的第一基底层101、第一阻挡层102、第二基底层103以及第二阻挡层104。第一基底层101和第二基底层103可以包括聚酰亚胺(polyimide:PI)、聚醚砜(PES,polyethersulfone)、聚芳酯(polyarylate)、聚醚酰亚胺(PEI,polyetherimide)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN,polyethylene naphthalate)、聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET,polyethylene terephthalate)、聚苯硫醚(polyphenylene sulfide:PPS)、聚碳酸酯、三乙酸纤维素(TAC)和/或醋酸丙酸纤维素(cellulose acetate propionate:CAP)等。第一阻挡层102和第二阻挡层104可以包括如硅氧化物、硅氮氧化物和/或硅氮化物这样的无机绝缘物。基板100可以具有柔性特性。
在基板100上配置像素电路层PCL。图8示出了像素电路层PCL包括薄膜晶体管TFT以及配置在薄膜晶体管TFT的构成元件的下方和/或上方的缓冲层111、第一栅极绝缘层112、第二栅极绝缘层113、层间绝缘层114、第一平坦化绝缘层115和第二平坦化绝缘层116的情况。
缓冲层111可以减少或阻断来自基板100的下部的异物、湿气或外部气体的渗透,可以在基板100上提供平坦面。缓冲层111可以包括如硅氧化物、硅氮氧化物、硅氮化物这样的无机绝缘物,可以由包括前述的物质的单层结构或多层结构形成。
缓冲层111上的薄膜晶体管TFT可以包括半导体层Act,半导体层Act可以包括多晶硅(poly-Si)。或者,半导体层Act可以包括非晶硅(a-Si)、包括氧化物半导体或者包括有机半导体等。半导体层Act可以包括沟道区域C以及分别配置在沟道区域C的两侧的漏极区域D和源极区域S。栅电极GE可以与沟道区域C重叠。
栅电极GE可以包括低电阻金属物质。栅电极GE可以包括含有钼(Mo)、铝(Al)、铜(Cu)、钛(Ti)等的导电物质,可以由包括上述的材料的多层或单层形成。
半导体层Act与栅电极GE之间的第一栅极绝缘层112可以包括如硅氧化物(SiO2)、硅氮化物(SiNX)、硅氮氧化物(SiON)、铝氧化物(Al2O3)、钛氧化物(TiO2)、钽氧化物(Ta2O5)、铪氧化物(HfO2)或锌氧化物(ZnOX)等这样的无机绝缘物。锌氧化物(ZnOX)可以包括氧化锌(ZnO)和/或过氧化锌(ZnO2)。
第二栅极绝缘层113可以被设置成覆盖所述栅电极GE。第二栅极绝缘层113可以与所述第一栅极绝缘层112类似地包括如硅氧化物(SiO2)、硅氮化物(SiNX)、硅氮氧化物(SiON)、铝氧化物(Al2O3)、钛氧化物(TiO2)、钽氧化物(Ta2O5)、铪氧化物(HfO2)或锌氧化物(ZnOX)等这样的无机绝缘物。锌氧化物(ZnOX)可以是氧化锌(ZnO)和/或过氧化锌(ZnO2)。
在第二栅极绝缘层113的上部可以配置储能电容器Cst的上部电极Cst2。上部电极Cst2可以与其下方的栅电极GE重叠。此时,夹着第二栅极绝缘层113而重叠的栅电极GE和上部电极Cst2可以形成储能电容器Cst。即,栅电极GE可以起到储能电容器Cst的下部电极Cst1的功能。
如上所述,储能电容器Cst和薄膜晶体管TFT可以重叠地形成。在一些实施例中,储能电容器Cst也可以形成为不与薄膜晶体管TFT重叠。
上部电极Cst2可以包括铝(Al)、铂(Pt)、钯(Pd)、银(Ag)、镁(Mg)、金(Au)、镍(Ni)、钕(Nd)、铱(Ir)、铬(Cr)、钙(Ca)、钼(Mo)、钛(Ti)、钨(W)和/或铜(Cu),可以是前述的物质的单层或多层。
层间绝缘层114可以覆盖上部电极Cst2。层间绝缘层114可以包括硅氧化物(SiO2)、硅氮化物(SiNX)、硅氮氧化物(SiON)、铝氧化物(Al2O3)、钛氧化物(TiO2)、钽氧化物(Ta2O5)、铪氧化物(HfO2)或锌氧化物(ZnOX)等。锌氧化物(ZnOX)可以是氧化锌(ZnO)和/或过氧化锌(ZnO2)。层间绝缘层114可以是包括前述的无机绝缘物的单层或多层。
漏电极DE和源电极SE分别可以位于层间绝缘层114上。漏电极DE和源电极SE分别可以通过形成在其下部的多个绝缘层(例如,层间绝缘层114、第二栅极绝缘层113、第一栅极绝缘层112等)中的接触孔而与漏极区域D及源极区域S连接。漏电极DE和源电极SE可以包括传导性出色的材料。漏电极DE和源电极SE可以包括含有钼(Mo)、铝(Al)、铜(Cu)、钛(Ti)等的导电物质,可以由包括上述的材料的多层或单层形成。作为一实施例,漏电极DE和源电极SE可以具有Ti/Al/Ti的多层结构。
第一平坦化绝缘层115可以覆盖漏电极DE和源电极SE。第一平坦化绝缘层115可以包括如聚甲基丙烯酸甲酯(Polymethylmethacrylate,PMMA)或聚苯乙烯(Polystyrene,PS)这样的一般通用高分子、具有酚基的高分子衍生物、丙烯酸系高分子、酰亚胺系高分子、芳基醚系高分子、酰胺系高分子、氟系高分子、对二甲苯系高分子、乙烯醇系高分子和它们的混合物这样的有机绝缘物。
第二平坦化绝缘层116可以配置在第一平坦化绝缘层115上。第二平坦化绝缘层116可以包括与第一平坦化绝缘层115相同的物质,可以包括如聚甲基丙烯酸甲酯(Polymethylmethacrylate,PMMA)或聚苯乙烯(Polystyrene,PS)这样的一般通用高分子、具有酚基的高分子衍生物、丙烯酸系高分子、酰亚胺系高分子、芳基醚系高分子、酰胺系高分子、氟系高分子、对二甲苯系高分子、乙烯醇系高分子和它们的混合物这样的有机绝缘物。
在前述结构的像素电路层PCL上可以配置显示元件层DEL。显示元件层DEL可以包括有机发光二极管OLED作为显示元件(即,发光元件)并且可以包括堤层117,有机发光二极管OLED可以包括像素电极210、中间层220以及公共电极230的层叠结构。有机发光二极管OLED例如可以射出红色、绿色或蓝色的光、或者射出红色、绿色、蓝色或白色的光。有机发光二极管OLED可以通过发光区域射出光,可以将发光区域定义为像素PX。
有机发光二极管OLED的像素电极210可以通过形成在第二平坦化绝缘层116和第一平坦化绝缘层115中的接触孔以及配置在第一平坦化绝缘层115上的接触金属CM而与薄膜晶体管TFT电连接。
像素电极210可以包括如铟锡氧化物(ITO;indium tin oxide)、铟锌氧化物(IZO;indium zinc oxide)、锌氧化物(ZnO;zinc oxide)、铟氧化物(In2O3:indium oxide)、铟镓氧化物(IGO;indium gallium oxide)或铝锌氧化物(AZO;aluminum zinc oxide)这样的导电性氧化物。作为其他实施例,像素电极210可以包括含有银(Ag)、镁(Mg)、铝(Al)、铂(Pt)、钯(Pd)、金(Au)、镍(Ni)、钕(Nd)、铱(Ir)、铬(Cr)或它们的化合物的反射膜。作为其他实施例,像素电极210还可以在前述的反射膜的上方/下方包括由ITO、IZO、ZnO或In2O3形成的膜。
在像素电极210上配置具有使像素电极210的中央部露出的开口117OP的堤层117。堤层117可以包括有机绝缘物和/或无机绝缘物。开口117OP可以定义从有机发光二极管OLED射出的光的发光区域。例如,开口117OP的大小/宽度可以相当于发光区域的大小/宽度。因此,像素PX的大小和/或宽度可以依赖于相应的堤层117的开口117OP的大小和/或宽度。
中间层220可以包括与像素电极210对应地形成的发光层222。发光层222可以包括射出预定颜色的光的高分子有机物或低分子有机物。或者,发光层222可以包括无机发光物质或者包括量子点。
作为一实施例,中间层220可以包括分别配置在发光层222的下方和上方的第一功能层221和第二功能层223。第一功能层221例如可以包括空穴传输层(HTL:Hole TransportLayer)或者包括空穴传输层和空穴注入层(HIL:Hole Injection Layer)。第二功能层223是配置在发光层222的上方的构成元件,可以包括电子传输层(ETL:Electron TransportLayer)和/或电子注入层(EIL:Electron Injection Layer)。第一功能层221和/或第二功能层223可以与后述的公共电极230同样地是形成为将基板100整体覆盖的公共层。
公共电极230可以配置在像素电极210上,与像素电极210重叠。公共电极230可以由功函数低的导电性物质形成。例如,公共电极230可以包括含有银(Ag)、镁(Mg)、铝(Al)、铂(Pt)、钯(Pd)、金(Au)、镍(Ni)、钕(Nd)、铱(Ir)、铬(Cr)、锂(Li)、钙(Ca)或它们的合金等的(半)透明层。或者,公共电极230可以在包括前述物质的(半)透明层上还包括如ITO、IZO、ZnO或In2O3这样的层。公共电极230可以形成为一体以便将基板100整体覆盖。
封装层300可以配置在显示元件层DEL上,覆盖显示元件层DEL。封装层300可以包括至少一个无机封装层和至少一个有机封装层,作为一实施例,图8示出了封装层300包括依次层叠的第一无机封装层310、有机封装层320以及第二无机封装层330的情况。
第一无机封装层310和第二无机封装层330可以包括铝氧化物、钛氧化物、钽氧化物、铪氧化物、锌氧化物、硅氧化物、硅氮化物以及硅氮氧化物之中的一种以上的无机物。有机封装层320可以包括聚合物(polymer)系的物质。作为聚合物系的物质,可以包括丙烯酸系树脂、环氧系树脂、聚酰亚胺系树脂和聚乙烯系树脂等。作为一实施例,有机封装层320可以包括丙烯酸酯(acrylate)系树脂。有机封装层320可以使单体固化或者涂布聚合物来形成。有机封装层320可以具有透明性。
虽然未图示,但是在封装层300上可以配置触摸传感器层,在触摸传感器层上可以配置光学功能层。触摸传感器层可以获得与外部的输入(例如,触摸事件)相关的坐标信息。光学功能层可以减小从外部朝向显示装置2入射的光(外部光)的反射率,和/或,可以提高从显示装置2射出的光的色纯度。作为一实施例,光学功能层可以包括相位延迟器(retarder)和/或偏振器(polarizer)。相位延迟器可以是膜类型或液晶涂敷类型,可以包括λ/2相位延迟器和/或λ/4相位延迟器。偏振器也可以是膜类型或液晶涂敷类型。膜类型可以包括延伸型合成树脂膜,液晶涂敷类型可以包括以预定排列排列的液晶。相位延迟器和偏振器还可以包括保护膜。
在所述触摸传感器层与所述光学功能层之间可以配置粘合部件。所述粘合部件可以无限制地采用在本领域公知的材料。所述粘合部件可以是压敏粘合剂(pressuresensitive adhesive,PSA)。
图9是本实用新型的一实施例涉及的显示装置之中的任一个像素的等效电路图。
各像素PX可以包括像素电路PC以及与像素电路PC连接的显示元件(例如,有机发光二极管OLED)。像素电路PC可以包括第一薄膜晶体管T1、第二薄膜晶体管T2以及储能电容器Cst。各像素PX可以通过有机发光二极管OLED射出例如红色、绿色、蓝色或白色的光。
第二薄膜晶体管T2是开关薄膜晶体管,可以与扫描线SL及数据线DL连接,基于从扫描线SL输入的开关电压来将从数据线DL输入的数据电压传递给第一薄膜晶体管T1。储能电容器Cst可以与第二薄膜晶体管T2及驱动电压线PL连接,存储与从第二薄膜晶体管T2接收到的电压和供给至驱动电压线PL的第一电源电压ELVDD之差相应的电压。
第一薄膜晶体管T1是驱动薄膜晶体管,可以与驱动电压线PL及储能电容器Cst连接,与存储在储能电容器Cst中的电压值对应地控制从驱动电压线PL流向有机发光二极管OLED的驱动电流。有机发光二极管OLED可以通过驱动电流射出具有预定亮度的光。有机发光二极管OLED的对置电极(例如,阴极)可以接收第二电源电压ELVSS。
图9说明了像素电路PC包括两个薄膜晶体管和一个储能电容器的情况,但是本实用新型并不限于此。薄膜晶体管的数量和储能电容器的数量可以根据像素电路PC的设计而以各种方式变更。例如,像素电路PC除了前述的两个薄膜晶体管以外还可以包括四个、五个或其以上的薄膜晶体管。
如上所述,本实用新型参照图示的实施例进行了说明,但是这仅仅是例示,本领域技术人员应当能够理解可以由此实现各种变形以及实施例的变形。因此,本实用新型的真正的技术保护范围应通过权利要求书的技术思想来确定。

Claims (10)

1.一种显示装置的制造装置,其特征在于,包括:
腔体;
基座,配置在所述腔体的内部,支承显示基板;
掩模组装体,配置在所述基座上,配置有沉积区域;
板部,配置在所述掩模组装体上,配置有板开口;以及
喷射部,配置在所述腔体的内部,喷射沉积物质以使所述沉积物质依次通过所述板开口和所述沉积区域而沉积到所述显示基板上,
在所述腔体中配置有收纳所述板部的至少一部分的切口部。
2.根据权利要求1所述的显示装置的制造装置,其特征在于,
所述板部在第一位置处与所述腔体间隔开且与所述掩模组装体接触。
3.根据权利要求2所述的显示装置的制造装置,其特征在于,
在所述板部位于所述第一位置时,所述板部与所述腔体之间的距离比所述掩模组装体与所述腔体之间的距离小。
4.根据权利要求3所述的显示装置的制造装置,其特征在于,
所述板部在与所述第一位置间隔开的第二位置处与所述腔体接触且与所述掩模组装体间隔开。
5.根据权利要求1所述的显示装置的制造装置,其特征在于,
所述喷射部包括:
上部部分,配置有上部开口以便供给所述沉积物质;
下部部分,配置有多个下部孔以便朝向所述显示基板喷射所述沉积物质;以及
侧面部分,连接所述上部部分和所述下部部分,
在平面上,所述喷射部的内部空间的形状是四边形,
所述上部部分的下表面包括曲面。
6.根据权利要求5所述的显示装置的制造装置,其特征在于,
所述上部部分的所述下表面包括凹陷的面。
7.根据权利要求6所述的显示装置的制造装置,其特征在于,
在与所述喷射部的所述内部空间的一侧面垂直的截面上,越远离所述喷射部的中心轴,所述上部部分的所述下表面与所述下部部分的上表面之间的距离渐进地增加。
8.根据权利要求6所述的显示装置的制造装置,其特征在于,
在贯通所述喷射部的所述内部空间的两个顶点的截面上,越远离所述喷射部的中心轴,所述上部部分的所述下表面与所述下部部分的上表面之间的距离渐进地增加之后再次减小。
9.根据权利要求5所述的显示装置的制造装置,其特征在于,
所述下部部分的上表面是平坦的。
10.根据权利要求5所述的显示装置的制造装置,其特征在于,
在贯通所述喷射部的中心轴的截面上,所述喷射部的形状是对称的。
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