CN220812226U - 一种中性色可钢双银low-e镀膜玻璃 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及一种中性色可钢双银LOW‑E镀膜玻璃，包括玻璃基片、镀设在玻璃基片一表面的镀膜层，镀膜层包括自玻璃基片表面由内向外依次设置的第一介质层、第一种子层、第一功能层、第一保护层、第一AZO层、透过率调节层、第二介质层、第二种子层、第二功能层、第二保护层、第二AZO层、第三介质层、顶部保护层，透过率调节层为TiNx层；第一保护层、第二保护层为TiNx层、NiCr层、NiCrNx层、NiCrNxOy层中任意一个。本实用新型提供的镀膜玻璃，采用TiNx为透过率调节层，使产品透过色可调节范围广，实现透过色中性；TiNx有良好耐腐蚀性和抗氧化性，在热加工后仍能保持较好膜层状态，提高膜层耐加工性。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种中性色可钢双银LOW-E镀膜玻璃。
背景技术
为获得更高的节能性以及满足异地加工需求，目前市场已开发的可热加工双银膜系，为降低透光率,通常通过增加阻挡层NiCr厚度的方式来实现。但因NiCr材料对600nm附近的橙色光有明显的吸收作用，导致为获得低透光率而加厚阻挡层NiCr，导致出现透过色较差的问题，使用者在室内观察室外景物时色彩出现明显偏差，色彩失真，极大地影响观感。现有可钢双银银膜系透过色偏绿，颜色混浊，可视效果差，影响了产品的推广使用。
实用新型内容
本实用新型的目的是提供一种中性色可钢双银LOW-E镀膜玻璃，使玻璃产品透过色可调节范围广，实现透过色中性。
为达到上述目的，本实用新型采用的技术方案是：
一种中性色可钢双银LOW-E镀膜玻璃，包括玻璃基片、镀设在所述的玻璃基片一表面的镀膜层，所述的镀膜层包括自所述的玻璃基片表面由内向外依次设置的第一介质层、第一种子层、第一功能层、第一保护层、第一AZO层、透过率调节层、第二介质层、第二种子层、第二功能层、第二保护层、第二AZO层、第三介质层、顶部保护层，所述的透过率调节层为TiNx层；所述的第一保护层、第二保护层为TiNx层、NiCr层、NiCrNx层、NiCrNxOy层中的任意一个。
根据本实用新型的一些实施方面，所述的第一介质层、第二介质层、第三介质层均为SiNx层、SiNxOy层、SiOx层、TiOx层中的任意一个。
根据本实用新型的一些实施方面，其特征在于，所述的第一种子层、第二种子层均为ZnOx层。
根据本实用新型的一些实施方面，所述的顶部保护层为ZrOx层。
根据本实用新型的一些实施方面，所述的第一功能层、第二功能层均为Ag层、Ag+Cu层、Ag+Cu+Ag层中的任意一个。
根据本实用新型的一些实施方面，所述的第一功能层、第二功能层的厚度均为7-16nm；若所述的第一功能层、第二功能层为Ag+Cu层或Ag+Cu+Ag层，其中，Cu层的厚度范围为5-7nm。
根据本实用新型的一些实施方面，所述的透过率调节层的厚度范围为0-6nm。
根据本实用新型的一些实施方面，所述的第一保护层的厚度范围为0-6nm；所述的第二保护层的厚度为0-4nm；所述的顶部保护层的厚度范围为6-10nm。
根据本实用新型的一些实施方面，所述的第一种子层的厚度范围为5-8nm；所述的第二种子层的厚度范围为5-10nm；所述的第一AZO层的厚度范围为8-10nm；所述的第二AZO层的厚度范围为8-10nm。
根据本实用新型的一些实施方面，所述的第一介质层的厚度范围为25-50nm；所述的第二介质层的厚度范围为60-80nm；所述的第三介质层的厚度范围为30-50nm。
由于上述技术方案运用，本实用新型与现有技术相比具有下列优点：
本实用新型提供的中性色可钢双银LOW-E镀膜玻璃，采用TiNx作为透过率调节层材料，使得产品透过色可调节范围广，实现透过色中性；且由于TiNx具有良好的耐腐蚀性和抗氧化性，具有较高的硬度，在经历热加工后仍能保持较好的膜层状态，极大地提高膜层的耐加工性。
附图说明
附图1为本实用新型提供的中性色可钢双银LOW-E镀膜玻璃的结构示意图。
以上附图中：
1-玻璃基片；2-第一介质层；3-第一种子层；4-第一功能层；5-第一保护层；6-第一AZO层；7-透过率调节层；8-第二介质层；9-第二种子层；10-第二功能层；11-第二保护层；12-第二AZO层；13-第三介质层；14-顶部保护层。
具体实施方式
下面将结合附图对本实用新型的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
在本实用新型的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。此外，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。
在本实用新型的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
参见图1所示的中性色可钢双银LOW-E镀膜玻璃，包括玻璃基片1、镀设在玻璃基片1一表面的镀膜层，镀膜层包括自玻璃基片1表面由内向外依次设置的第一介质层2、第一种子层3、第一功能层4、第一保护层5、第一AZO层6、透过率调节层7、第二介质层8、第二种子层9、第二功能层10、第二保护层11、第二AZO层12、第三介质层14、顶部保护层14，透过率调节层7为TiNx层；第一保护层5、第二保护层11为TiNx层、NiCr层、NiCrNx层、NiCrNxOy层中的任意一个。
第一介质层2、第二介质层8、第三介质层14均为SiNx层、SiNxOy层、SiOx层、TiOx层中的任意一个，优选为SiNx层，SiNx与玻璃具有良好的结合性能，且具有很强的抗腐蚀、抗机械划伤、抗高温氧化的性能，是一种化学稳定性极好的超强度、超硬度材料，可以起到提高功能银层对玻璃表面附着力、保护功能银层、调节颜色、提高膜系的硬度的作用。
因SiNx具有较低的扩散系数，在热加工过程中可以非常好的阻挡外界及玻璃内部的O-2和玻璃内部的Na+扩散破坏功能层，使整个膜层在高温下耐热性更好，机械性更好，具有可见光高透过及对中远红外线高反射的特性，以此来改善传统Low-E玻璃膜层结合力不足、易划伤的问题。
第一功能层4、第二功能层10均为Ag层、Ag+Cu层、Ag+Cu+Ag层中的任意一个，金属Ag具有非常好的导电性，可以使整个膜层的面电阻和辐射率降低，同时也起着调节膜层颜色和性能的作用。
透过率调节层7为TiNx层，TiNx对可见光反射较低，在红外线光区域呈现高反射的特性，使得膜层透过色调节范围广，可更好的实现中性透过色，且TiNx具有良好的耐腐蚀性和抗氧化性，具有较高的硬度，能够保护Ag层不被后续的溅射过程及加工过程氧化，提高Ag层的耐氧化性能。
第一保护层5、第二保护层11为TiNx层、NiCr层、NiCrNx层、NiCrNxOy层中的任意一个，优选为TiNx层，TiNx层在红外线光区域呈现高反射的特性，且具有良好的耐腐蚀性和抗氧化性，具有较高的硬度，能够保护Ag层不被后续的溅射过程及加工过程氧化，提高Ag层的耐氧化性能。
第一AZO层6、第二AZO层12均使用氧化锌铝陶瓷靶材在纯氩气氛围中进行溅射制备而来，溅射速率较高，使用过程不会产生掉渣，膜层表面光滑致密，能够防止前面保护层及功能层被后续溅射过程氧化，起到极好的保护作用。同时，还可以减少双银Low-E玻璃热加工后的光散射，使玻璃颜色更加清晰透彻。
第一种子层3、第二种子层9材质均为ZnOx，ZnOx作为种子层可提高膜层的平整度，为功能层提供一个没有污染的洁净表面，增强功能层金属在膜层中的附着力，使其更好的发挥性能。ZnOx在提高了可见光通过的同时对红外线有高的反射，以达到保温或隔热的效果。
顶部保护层14为ZrOx层，其具有优良的耐热性能和化学稳定性,可提高膜层的热加工性。同时ZrOx层具有较高的强度和良好的耐磨损性，有效提高整体膜层的强度，防止出现膜面划伤等情况。
本例的中性色可钢双银LOW-E镀膜玻璃通过以下方法制备得到：
1：将待镀膜的玻璃基板进行清洗干燥；
2：真空过渡；
3：自玻璃基板向外依次真空磁控溅射形成以下各溅射层，具体溅射方法为：
S1：第一介质层2为SiNx层，采用磁控溅射工艺溅射镀膜，膜层厚度范围是25-50nm；
S2：第一种子层3为ZnOx层，采用磁控溅射工艺溅射镀膜，膜层厚度范围是5-8nm；
S3：第一功能层4为Ag层或Ag+Cu层，采用磁控溅射工艺溅射镀膜，膜层厚度总范围是7-16nm(如有Cu，Cu的厚度范围是5-7nm)；
S4：第一保护层5为TiNx层，采用磁控溅射工艺溅射镀膜，膜层厚度范围是0-6nm；
S5：第一AZO层6，采用磁控溅射工艺溅射镀膜，膜层厚度范围是8-10nm；
S6：透过率调节层7为TiNx层，采用磁控溅射工艺溅射镀膜，膜层厚度范围是0-6nm；
S7：第二介质层8为SiNx层，采用磁控溅射工艺溅射镀膜，膜层厚度范围是60-80nm；
S8：第二种子层9为ZnOx层，采用磁控溅射工艺溅射镀膜，膜层厚度范围是5-10nm；
S9：第二功能层10为Ag层或Ag+Cu层，采用磁控溅射工艺溅射镀膜，膜层厚度总范围是7～16nm(如有Cu，Cu的厚度范围是5～7nm)；
S10：第二保护层11为TiNx层，采用磁控溅射工艺溅射镀膜，膜层厚度范围是0-4nm；
S11：第二AZO层12，采用磁控溅射工艺溅射镀膜，膜层厚度范围是8-10nm；
S12：第三介质层14为SiNx层，采用磁控溅射工艺溅射镀膜，膜层厚度范围是30-50nm；
S13：顶部保护层14为ZrOx层，采用磁控溅射工艺溅射镀膜，膜层厚度范围是6-10nm。
其中，第一介质层2、第二介质层8、第三介质层14的溅射方法为：采用交流中频电源，使用靶材为SiAl靶或者纯Si靶，靶材纯度大于99.7％(如果采用SiAl靶，SiAl靶中中Al含量为8～15wt％，SiAl材料中掺杂的Al主要作用是增加膜层材料的导电性，下同)，在氩气、氮气混合气体中溅射而成。
第一种子层3、第二种子层9的溅射方法为：采用交流中频电源，使用靶材为ZnAl靶，靶材纯度大于99.8％，靶材中Al含量为1.5～2.5wt％，在氩气、氧气混合气体中溅射而成。
第一功能层4、第二功能层10的溅射方法为：采用直流电源，使用靶材为Ag+Cu靶或Ag靶，靶材纯度大于99.99％，在纯氩气工作气体中进行溅射。
第一保护层5、第二保护层11、透过率调节层7的溅射方法为：采用直流电源，使用靶材为Ti靶，靶材纯度大于99.9％，在氩气、氮气混合气体中进行溅射。
第一AZO层6、第二AZO层12的溅射方法为：采用交流中频电源，使用靶材为AZO靶(AZO靶为氧化物陶瓷掺铝氧化锌靶，靶材中Al2O3含量范围是2～3wt％)靶材纯度大于99.8％，在纯氩气工作气体中进行溅射。
顶部保护层14的溅射方法为：采用交流中频电源，使用靶材为Zr靶，靶材纯度大于99.9％，在氩气、氧气混合气体中溅射而成。
实施例1
在本实施例中，具体的膜层结构及厚度为：
S1：第一介质层2为SiNx层，采用磁控溅射工艺溅射镀膜，膜层厚度是32.7nm；
S2：第一种子层3为ZnOx层，采用磁控溅射工艺溅射镀膜，膜层厚度是6.2nm；
S3：第一功能层4为Ag+Cu层，采用磁控溅射工艺溅射镀膜，膜层厚度是6.1+5.2nm；
S4：第一保护层5为TiNx层，采用磁控溅射工艺溅射镀膜，膜层厚度是0.9nm；
S5：第一AZO层6，采用磁控溅射工艺溅射镀膜，膜层厚度是9nm；
S6：透过率调节层7为TiNx层，采用磁控溅射工艺溅射镀膜，膜层厚度是0.9nm；
S7：第二介质层8为SiNx层，采用磁控溅射工艺溅射镀膜，膜层厚度是60.2nm；
S8：第二种子层9为ZnOx层，采用磁控溅射工艺溅射镀膜，膜层厚度是8.3nm；
S9：第二功能层10为Ag层，采用磁控溅射工艺溅射镀膜，膜层厚度是12.5nm；
S10：第二保护层11为TiNx层，采用磁控溅射工艺溅射镀膜，膜层厚度是1.9nm；
S11：第二AZO层12，采用磁控溅射工艺溅射镀膜，膜层厚度是9nm；
S12：第三介质层14为SiNx层，采用磁控溅射工艺溅射镀膜，膜层厚度是33.1nm；
S13：顶部保护层14为ZrOx层，采用磁控溅射工艺溅射镀膜，膜层厚度是6.7nm。
本实施例的热加工前和热加工后的玻璃的透过色数据如下表1：
表1实施例1的热加工前和热加工后的玻璃的透过色数据
| 透过率 | 透过色a* | 透过色b* | |
| 热加工前 | 63.5 | -0.4 | 0.9 |
| 热加工后 | 68.8 | -0.8 | 0.3 |
由以上数据可知，本实施例所示的热加工后的玻璃产品透过颜色呈中性色，其颜色接近自然色。
实施例2
在本实施例中，具体的膜层结构及厚度为：
S1：第一介质层2为SiNx层，采用磁控溅射工艺溅射镀膜，膜层厚度是31.3nm；
S2：第一种子层3为ZnOx层，采用磁控溅射工艺溅射镀膜，膜层厚度是9.2nm；
S3：第一功能层4为Ag+Cu层，采用磁控溅射工艺溅射镀膜，膜层厚度是6.2+5.4nm；
S4；第一保护层5为TiNx层，采用磁控溅射工艺溅射镀膜，膜层厚度是0.8nm；
S5：第一AZO层6，采用磁控溅射工艺溅射镀膜，膜层厚度范围是9nm；
S6：透过率调节层7为TiNx层，采用磁控溅射工艺溅射镀膜，膜层厚度是0.8nm；
S7：第二介质层8为SiNx层，采用磁控溅射工艺溅射镀膜，膜层厚度是65.5nm；
S8：第二种子层9为ZnOx层，采用磁控溅射工艺溅射镀膜，膜层厚度是9.7nm；
S9：第二功能层10为Ag层，采用磁控溅射工艺溅射镀膜，膜层厚度是9.4nm；
S10：第二保护层11为TiNx层，采用磁控溅射工艺溅射镀膜，膜层厚度是2nm；
S11：第二AZO层12，采用磁控溅射工艺溅射镀膜，膜层厚度是9nm；
S12：第三介质层14为SiNx层，采用磁控溅射工艺溅射镀膜，膜层厚度是42.9nm；
S13：顶部保护层14为ZrOx层，采用磁控溅射工艺溅射镀膜，膜层厚度是8.6nm。
本实施例的热加工前和热加工后的玻璃的透过色数据如下表2：
表2实施例2的热加工前和热加工后的玻璃的透过色数据
| 透过率 | 透过色a* | 透过色b* | |
| 热加工前 | 64.2 | 0.9 | 0.6 |
| 热加工后 | 69.1 | -0.3 | -0.1 |
由以上数据可知，本实施例所示的热加工后的玻璃产品透过颜色呈中性色，其颜色接近自然色。
实施例1-2的经热加工后的玻璃产品的透过颜色呈现中性灰色，其中透过色a*值的范围是[-1.5，1.5]，b*值的范围是[-1，1]。
备注：为了能定量的说明和衡量颜色，在国际上一般采用CIE1976L*a*b*色度空间来测量颜色：一般用L或者R来表示亮度，两者有一定的换算关系，数值在0-100范围内，数值越大表示亮度越高；用a*表示红绿度，a*为负表示绿，a*为正表示红，绝对值越大表示绿或者红的程度越大；用b*表示黄蓝度，b*为负表示蓝，b*为正表示黄，绝对值越大表示黄或者蓝的程度越大；a*和b*越接近于零表示透过色越中性)。
上述实施例只为说明本实用新型的技术构思及特点，其目的在于让熟悉此项技术的人士能够了解本实用新型的内容并据以实施，并不能以此限制本实用新型的保护范围。凡根据本实用新型精神实质所作的等效变化或修饰，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。
Claims (10)
1.一种中性色可钢双银LOW-E镀膜玻璃，其特征在于，包括玻璃基片、镀设在所述的玻璃基片一表面的镀膜层，所述的镀膜层包括自所述的玻璃基片表面由内向外依次设置的第一介质层、第一种子层、第一功能层、第一保护层、第一AZO层、透过率调节层、第二介质层、第二种子层、第二功能层、第二保护层、第二AZO层、第三介质层、顶部保护层，所述的透过率调节层为TiNx层；所述的第一保护层、第二保护层为TiNx层、NiCr层、NiCrNx层、NiCrNxOy层中的任意一个。
2.根据权利要求1所述的中性色可钢双银LOW-E镀膜玻璃，其特征在于，所述的第一介质层、第二介质层、第三介质层均为SiNx层、SiNxOy层、SiOx层、TiOx层中的任意一个。
3.根据权利要求1所述的中性色可钢双银LOW-E镀膜玻璃，其特征在于，所述的第一种子层、第二种子层均为ZnOx层。
4.根据权利要求1所述的中性色可钢双银LOW-E镀膜玻璃，其特征在于，所述的顶部保护层为ZrOx层。
5.根据权利要求1所述的中性色可钢双银LOW-E镀膜玻璃，其特征在于，所述的第一功能层、第二功能层均为Ag层、Ag+Cu层、Ag+Cu+Ag层中的任意一个。
6.根据权利要求5所述的中性色可钢双银LOW-E镀膜玻璃，其特征在于，所述的第一功能层、第二功能层的厚度均为7-16nm；若所述的第一功能层、第二功能层为Ag+Cu层或Ag+Cu+Ag层，其中，Cu层的厚度范围为5-7nm。
7.根据权利要求1所述的中性色可钢双银LOW-E镀膜玻璃，其特征在于，所述的透过率调节层的厚度范围为0-6nm。
8.根据权利要求1所述的中性色可钢双银LOW-E镀膜玻璃，其特征在于，所述的第一保护层的厚度范围为0-6nm；所述的第二保护层的厚度为0-4nm；所述的顶部保护层的厚度范围为6-10nm。
9.根据权利要求1所述的中性色可钢双银LOW-E镀膜玻璃，其特征在于，所述的第一种子层的厚度范围为5-8nm；所述的第二种子层的厚度范围为5-10nm；所述的第一AZO层的厚度范围为8-10nm；所述的第二AZO层的厚度范围为8-10nm。
10.根据权利要求1所述的中性色可钢双银LOW-E镀膜玻璃，其特征在于，所述的第一介质层的厚度范围为25-50nm；所述的第二介质层的厚度范围为60-80nm；所述的第三介质层的厚度范围为30-50nm。
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
| CN202322642673.4U CN220812226U (zh) | 2023-09-27 | 2023-09-27 | 一种中性色可钢双银low-e镀膜玻璃 |
Applications Claiming Priority (1)
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ID=90672992
Family Applications (1)
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2023
- 2023-09-27 CN CN202322642673.4U patent/CN220812226U/zh active Active
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