CN220796475U - 一种具有刻度线的电容膜 - Google Patents
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- 239000003990 capacitor Substances 0.000 claims abstract description 53
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 claims abstract description 19
- 239000004519 grease Substances 0.000 claims abstract description 16
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 claims abstract description 16
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims abstract description 8
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims abstract description 8
- 230000003014 reinforcing effect Effects 0.000 claims abstract description 7
- 229910021392 nanocarbon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 239000010410 layer Substances 0.000 claims description 60
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims description 23
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 claims description 10
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 claims description 10
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N disiloxane Chemical class [SiH3]O[SiH3] KPUWHANPEXNPJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 claims description 2
- 239000003973 paint Substances 0.000 claims description 2
- 239000004447 silicone coating Substances 0.000 claims description 2
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 abstract 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 51
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 10
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 3
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 3
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 3
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 3
- 230000003628 erosive effect Effects 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 238000003854 Surface Print Methods 0.000 description 2
- 239000012467 final product Substances 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 1
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000012938 design process Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000002035 prolonged effect Effects 0.000 description 1
- 230000002787 reinforcement Effects 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- -1 silicon lipid Chemical class 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
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- Fixed Capacitors And Capacitor Manufacturing Machines (AREA)
Abstract
本实用新型公开了一种具有刻度线的电容膜,包括电容膜层,所述电容膜层由上至下依次设置有导热硅脂片、纳米碳散热膜和黏贴层,所述电容膜层的上端设置有加强层,所述加强层的上端通过粘合剂粘贴有离型膜层,所述离型膜层的表面印刷有刻度线。该具有刻度线的电容膜,通过离型膜层和刻度线的设计,离型膜层上的刻度线可以增加该电容膜的可视性,刻度线可以提供一个明显的参考标志,通过观察刻度线可以更快的对电容膜进行定位,可以更精准的确定电容膜的位置,便于将电容膜对其粘贴在固定区域,减小误差,提高最终产品的质量,将电容膜固定后,方便将离型膜层撕掉,提高了电容膜的实用性。
Description
技术领域
本实用新型涉及电容膜技术领域,具体为一种具有刻度线的电容膜。
背景技术
电容膜是一种薄膜材料,主要用作电容器的一层,能够储存电荷并在电路中起到绝缘作用。它的作用是通过提高电容器两极板之间的绝缘性能,提高电容器的电容量和耐电压性能,电容膜在电容器中扮演着至关重要的角色,不仅能够提高电容器的电容量和耐压性能,还能够保证电容器在各种工作环境下的稳定性和安全性。
现有的电容膜在设计和制造过程中,往往存在一些缺陷和不足,由于没有刻度线的设计,从而不便于将电容膜对齐固定在特定区域,往往会导致使用时的定位不准确,影响电容膜的精度和使用效果,同时由于现有的电容膜缺乏有效的散热结构设计,无法有效地将产生的热量散去,从而影响了电容膜的使用效果和寿命。因此,我们提出了一种具有刻度线的电容膜。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种具有刻度线的电容膜,以解决上述背景技术中提出由于没有刻度线的设计,从而不便于将电容膜对齐固定在特定区域,往往会导致使用时的定位不准确,影响电容膜的精度和使用效果,同时由于现有的电容膜缺乏有效的散热结构设计,无法有效地将产生的热量散去,从而影响了电容膜使用效果和寿命的问题。
为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种具有刻度线的电容膜,包括电容膜层,所述电容膜层由上至下依次设置有导热硅脂片、纳米碳散热膜和黏贴层,所述电容膜层的上端设置有加强层,所述加强层的上端通过粘合剂粘贴有离型膜层,所述离型膜层的表面印刷有刻度线,所述加强层由底部至顶部依次设置有硅氧烷涂料层、聚酰亚胺层和氧化硅层。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:
该具有刻度线的电容膜,通过离型膜层和刻度线的设计,离型膜层上的刻度线可以增加该电容膜的可视性,刻度线可以提供一个明显的参考标志,通过观察刻度线可以更快的对电容膜进行定位,可以更精准的确定电容膜的位置,便于将电容膜对其粘贴在固定区域,减小误差,提高最终产品的质量,将电容膜固定后,方便将离型膜层撕掉,提高了电容膜的实用性,硅氧烷涂料层、聚酰亚胺层和氧化硅层的设计,可以增加该电容膜的使用温度范围,提高其耐热性能,增强电容膜的机械强度,增加其耐磨性、耐刺穿性,从而提高电容膜的使用寿命,同时可以保护电容膜不受化学物质的侵蚀,如酸、碱、溶剂,从而提高电容膜的耐腐蚀性能,导热硅脂片和纳米碳散热膜的设计,导热硅脂片可以有效地将电容膜层产生的热量传导到纳米碳散热膜上,而纳米碳散热膜具有高导热性和良好的散热性能,可以快速将热量散发到环境中,可以避免电容膜过热,从而提高其电气性能的稳定性和可靠性。
附图说明
图1为本实用新型结构示意图;
图2为本实用新型加强层的结构剖视图;
图3为本实用新型离型膜层的结构俯视图;
图4为本实用新型导热硅脂片的结构仰视图。
图中:1、电容膜层;2、导热硅脂片;3、纳米碳散热膜;4、黏贴层;5、加强层;6、离型膜层;7、刻度线;8、硅氧烷涂料层;9、聚酰亚胺层;10、氧化硅层。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
请参阅图1-4,本实用新型提供一种技术方案:一种具有刻度线的电容膜,包括电容膜层1,电容膜层1由上至下依次设置有导热硅脂片2、纳米碳散热膜3和黏贴层4,电容膜层1的上端设置有加强层5,加强层5的上端通过粘合剂粘贴有离型膜层6,离型膜层6的表面印刷有刻度线7,加强层5由底部至顶部依次设置有硅氧烷涂料层8、聚酰亚胺层9和氧化硅层10。
导热硅脂片2通过粘合剂与电容膜层1的底部固定粘接,导热硅脂片2等距均匀分布于电容膜层1的底部,可对电容膜层1进行导热。
导热硅脂片2的底部通过粘合剂与纳米碳散热膜3的上端面固定粘接,导热硅脂片2的下端涂刷有黏贴层4,通过导热硅脂片2将电容膜层1的热量传导至纳米碳散热膜3上进行散热。
刻度线7位于离型膜层6上端面的四边处,便于从多方位对电容膜进行刻度观察。
硅氧烷涂料层8涂刷于电容膜层1的上端,具有出色的耐候性,能够抵抗紫外线的照射、风雨侵蚀自然环境因素,保持电容膜的外观和性能稳定,同时能够有效抵抗酸、碱、盐化学物质的侵蚀,保护电容膜不受损害。
聚酰亚胺层9涂刷于硅氧烷涂料层8的上端,具有很高的热分解温度和熔点,能够保证在高温环境下使用时,电容膜的稳定性和可靠性。
氧化硅层10涂刷于聚酰亚胺层9的上端,可以抵抗腐蚀和氧化,从而延长电容膜的使用寿命。
综上所述:该具有刻度线的电容膜,通过离型膜层6和刻度线7的设计,离型膜层6上的刻度线7可以增加该电容膜的可视性,刻度线7可以提供一个明显的参考标志,通过观察刻度线7可以更快的对电容膜进行定位,可以更精准的确定电容膜的位置,便于将电容膜对其粘贴在固定区域,减小误差,提高最终产品的质量,将电容膜固定后,方便将离型膜层6撕掉,提高了电容膜的实用性,硅氧烷涂料层8、聚酰亚胺层9和氧化硅层10的设计,可以增加该电容膜的使用温度范围,提高其耐热性能,增强电容膜的机械强度,增加其耐磨性、耐刺穿性,从而提高电容膜的使用寿命,同时可以保护电容膜不受化学物质的侵蚀,如酸、碱、溶剂,从而提高电容膜的耐腐蚀性能,导热硅脂片2和纳米碳散热膜3的设计,导热硅脂片2可以有效地将电容膜层1产生的热量传导到纳米碳散热膜3上,而纳米碳散热膜3具有高导热性和良好的散热性能,可以快速将热量散发到环境中,可以避免电容膜过热,从而提高其电气性能的稳定性和可靠性。
需要说明的是,在本文中,诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来,而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且,术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含,从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素,而且还包括没有明确列出的其他要素,或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。
尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例,对于本领域的普通技术人员而言,可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型,本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。
Claims (7)
1.一种具有刻度线的电容膜,包括电容膜层(1),其特征在于:所述电容膜层(1)由上至下依次设置有导热硅脂片(2)、纳米碳散热膜(3)和黏贴层(4),所述电容膜层(1)的上端设置有加强层(5),所述加强层(5)的上端通过粘合剂粘贴有离型膜层(6),所述离型膜层(6)的表面印刷有刻度线(7),所述加强层(5)由底部至顶部依次设置有硅氧烷涂料层(8)、聚酰亚胺层(9)和氧化硅层(10)。
2.根据权利要求1所述的一种具有刻度线的电容膜,其特征在于:所述导热硅脂片(2)通过粘合剂与电容膜层(1)的底部固定粘接,所述导热硅脂片(2)等距均匀分布于电容膜层(1)的底部。
3.根据权利要求1所述的一种具有刻度线的电容膜,其特征在于:所述导热硅脂片(2)的底部通过粘合剂与纳米碳散热膜(3)的上端面固定粘接,所述导热硅脂片(2)的下端涂刷有黏贴层(4)。
4.根据权利要求1所述的一种具有刻度线的电容膜,其特征在于:所述刻度线(7)位于离型膜层(6)上端面的四边处。
5.根据权利要求1所述的一种具有刻度线的电容膜,其特征在于:所述硅氧烷涂料层(8)涂刷于电容膜层(1)的上端。
6.根据权利要求1所述的一种具有刻度线的电容膜,其特征在于:所述聚酰亚胺层(9)涂刷于硅氧烷涂料层(8)的上端。
7.根据权利要求1所述的一种具有刻度线的电容膜,其特征在于:所述氧化硅层(10)涂刷于聚酰亚胺层(9)的上端。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202322505019.9U CN220796475U (zh) | 2023-09-15 | 2023-09-15 | 一种具有刻度线的电容膜 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202322505019.9U CN220796475U (zh) | 2023-09-15 | 2023-09-15 | 一种具有刻度线的电容膜 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN220796475U true CN220796475U (zh) | 2024-04-16 |
Family
ID=90664775
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202322505019.9U Active CN220796475U (zh) | 2023-09-15 | 2023-09-15 | 一种具有刻度线的电容膜 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN220796475U (zh) |
-
2023
- 2023-09-15 CN CN202322505019.9U patent/CN220796475U/zh active Active
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