CN220746051U - 低粉尘破空的真空镀膜设备 - Google Patents
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Abstract
本申请公开了一种真空镀膜设备，包括：真空室，具有相对的顶壁和底壁，以及设置在所述顶壁和底壁之间带有进料口的侧壁；破空管路，设置在真空室的内部靠近所述顶壁和侧壁的位置，且具有朝向所述顶壁的第一出气孔和朝向所述侧壁的第二出气孔。本申请在破空过程中，破空气流从第一出气孔和第二出气孔中流出并流向真空室顶部，远离真空室底部的粉尘聚集处。并且破空气流通过第一出气孔、第二出气孔分别流向顶壁和侧壁，从而将破空气流的冲击面积控制的顶壁和侧壁之间较小区域，并将大部分的气流冲击力进行缓冲，减少了真空室内粉尘的扬起，保证本道工序中产品的洁净度。
Description
技术领域
本申请涉及镀膜设备的技术领域，特别是涉及一种低粉尘破空的真空镀膜设备。
背景技术
在现有的真空镀膜设备中，待镀工件在上下料过程中，需要先将真空室破空，解除外界大气对真空室门板的压力，才能打开真空室，因而破空管路在这一工序中非常重要。
现有的真空室中，破空管路一般安装在真空室的底部，破空气流从破空管侧面的一排小孔流出，进行破空。但这样的破空方式会导致真空室底部因重力而沉积的粉尘被破空气流扬起，甚至粉尘被附着在产品上，从而影响产品的品质。
实用新型内容
为了解决上述的技术问题，本申请提供一种低粉尘破空的真空镀膜设备，包括：
真空室，具有相对的顶壁和底壁，以及设置在所述顶壁和底壁之间带有进料口的侧壁；
破空管路，设置在真空室的内部靠近所述顶壁和侧壁的位置，且具有朝向所述顶壁的第一出气孔和朝向所述侧壁的第二出气孔。
以下还提供了若干可选方式，但并不作为对上述总体方案的额外限定，仅仅是进一步的增补或优选，在没有技术或逻辑矛盾的前提下，各可选方式可单独针对上述总体方案进行组合，还可以是多个可选方式之间进行组合。
可选的，所述第二出气孔朝向所述进料口且沿所述进料口的延伸方向间隔排布。
可选的，所述破空管路位于所述进料口的上方，并沿水平方向延伸。
可选的，所述第二出气孔的排布跨度至少占所述进料口长度的80％。
可选的，所述破空管路包括内管和外管，所述内管的管壁上设置有连通内管、外管管腔的连通孔。
可选的，所述连通孔与第一出气孔、第二出气孔的朝向和分布位置均交错设置。
可选的，所述外管的截面呈方形，所述内管的截面呈圆形。
可选的，包括固定在破空管路上对所述第一出气孔、第二出气孔输出气体进行过滤的滤芯。
可选的，所述底壁上设置有进气孔，所述进气孔和破空管路之间设置有衔接管。
可选的，所述侧壁上设置有固定所述破空管路的支架。
在破空过程中，本申请的破空气流从第一出气孔和第二出气孔中流出并流向真空室顶部，远离真空室底部的粉尘聚集处，并且破空气流通过第一出气孔、第二出气孔分别流向顶壁和侧壁，从而将破空气流的冲击面积控制的顶壁和侧壁之间较小区域，并将大部分的气流冲击力进行缓冲，减少了真空室内粉尘的扬起，保证本道工序中产品的洁净度。
附图说明
图1为本申请的结构示意图；
图2为本申请的剖视图；
图3为图1中去除顶壁的结构示意图；
图4为本申请中破空管路的剖视图；
图5为本申请中破空管路的结构示意图。
图中附图标记说明如下：
1、真空室；11、顶壁；12、底壁；13、侧壁；131、侧壁；132、侧壁；14、进气孔；15、进料口；16、出料口；2、破空管路；21、第一出气孔；22、第二出气孔；23、外管；24、内管；241、连通孔；25、滤芯；3、衔接管；4、支架。
具体实施方式
下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。
需要说明的是，当组件被称为与另一个组件“连接”时，它可以直接与另一个组件连接或者也可以存在居中的组件。当一个组件被认为是“设置于”另一个组件，它可以是直接设置在另一个组件上或者可能同时存在居中组件。
除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本申请的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本申请的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是在于限制本申请。本文所使用的术语“和/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。
参考图1至图5，本申请一实施例提供一种低粉尘破空的真空镀膜设备，包括真空室1、破空管路2，其中，真空室1具有相对的顶壁11和底壁12，以及设置在顶壁和底壁之间四个侧壁13，其中一侧壁131带有进料口15，与该侧壁相对的另一侧壁132可设置有出料口16。本申请的真空室为真空镀膜设备的镀膜腔室前面的低真空的进出腔，为镀膜工序的前一道工序，在真空镀膜设备的镀膜过程中，真空室1处于低真空环境，侧壁131外侧为外部大气环境，侧壁132的外侧与镀膜腔室相连通。
破空管路2设置在真空室的内部，用于对真空室输送破空气流。如图2所示，破空管路2靠近顶壁和侧壁的位置，且破空管路具有朝向顶壁的第一出气孔21和朝向侧壁的第二出气孔22，破空管路2的两端是封闭的，可通过现有的管件封堵头等结构进行封堵。在破空过程中，破空气流从第一出气孔和第二出气孔中流出并破空气流流向真空室顶部，远离真空室底部的粉尘聚集处。并且破空气流通过第一出气孔、第二出气孔分别流向顶壁和侧壁，将破空气流的冲击面积控制的顶壁和侧壁之间较小区域，并将大部分的气流冲击力进行缓冲，从而减少了真空室内粉尘的扬起，保证本道工序中产品的洁净度。
在一些实施例中，由于进料口为待镀工件的输入位置，也是大部分粉尘进入的位置，为了阻挡部分的粉尘进入，如图4所示，第二出气孔22朝向进料口15且沿进料口15的延伸方向间隔排布。作为优选，破空管路2位于进料口的上方，并沿水平方向延伸。且第二出气孔22的排布跨度至少占进料口长度的80％。
在一些实施例中，为了增强缓冲破空气流冲击力的效果，破空管路2包括内管24和外管23，内管24的管壁上设置有连通内管、外管管腔的连通孔241，从而破空气流输入内管管腔，经由连通孔流向外管管腔，最终从各个出气孔流出，可见破空气流在双层管内腔经过多次缓冲，卸去大部分冲击力，从而最终从各出气孔流出的破空气流更均匀、缓和。
作为优选，连通孔241与第一出气孔21、第二出气孔22的朝向和分布位置均交错设置，如图5所示，第一出气孔和第二出气孔沿外管长度方向的排布位置大致相同，连通孔和各出气孔沿外管长度方向的排布位置错开。另外，连通孔的朝向与各出气孔的朝向也不同，与第一出气孔21的朝向呈90°，与第二出气孔22的朝向呈180°，以增强破空气路的缓冲效果。
在一些实施例中，外管23的截面呈方形，内管24的截面呈圆形，方形的外管不仅便于夹持固定，也便于排布出气孔。圆形的内管使得外管和内管之间的间隙更均匀，破空气路的间隙内流动时没有小角度的拐角，而是沿圆弧面流动，整体的流动效果更高。
在一些实施例中，真空镀膜设备包括固定在破空管路上对第一出气孔21、第二出气孔22输出气体进行过滤的滤芯25。该滤芯可采用由金属烧结的管状滤芯，适用于真空的环境。
在一些实施例中，底壁上设置有进气孔14，以便于进气设备的装配，进气孔和破空管路之间设置有衔接管3，如图3、图5所示，衔接管由底壁的进气孔14开始，经过多次弯曲，最终连接到破空组件的一端(也即内管的一端)。
在一些实施例中，侧壁131上设置有固定破空管路2的支架4，支架的数量为2个并分别对应安装的破空管路的两端。支架可采用L形片状结构，L形的一端与破空管路的端部连接，另一端通过螺栓固定在侧壁上。
以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。不同实施例中的技术特征体现在同一附图中时，可视为该附图也同时披露了所涉及的各个实施例的组合例。
以上所述实施例仅表达了本申请的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对申请专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本申请构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本申请的保护范围。
Claims (10)
1.低粉尘破空的真空镀膜设备，其特征在于，包括：
真空室，具有相对的顶壁和底壁，以及设置在所述顶壁和底壁之间带有进料口的侧壁；
破空管路，设置在真空室的内部靠近所述顶壁和侧壁的位置，且具有朝向所述顶壁的第一出气孔和朝向所述侧壁的第二出气孔。
2.根据权利要求1所述的真空镀膜设备，其特征在于，所述第二出气孔朝向所述进料口且沿所述进料口的延伸方向间隔排布。
3.根据权利要求1所述的真空镀膜设备，其特征在于，所述破空管路位于所述进料口的上方，并沿水平方向延伸。
4.根据权利要求3所述的真空镀膜设备，其特征在于，所述第二出气孔的排布跨度至少占所述进料口长度的80％。
5.根据权利要求1所述的真空镀膜设备，其特征在于，所述破空管路包括内管和外管，所述内管的管壁上设置有连通内管、外管管腔的连通孔。
6.根据权利要求5所述的真空镀膜设备，其特征在于，所述连通孔与第一出气孔、第二出气孔的朝向和分布位置均交错设置。
7.根据权利要求5所述的真空镀膜设备，其特征在于，所述外管的截面呈方形，所述内管的截面呈圆形。
8.根据权利要求1所述的真空镀膜设备，其特征在于，包括固定在破空管路上对所述第一出气孔、第二出气孔输出气体进行过滤的滤芯。
9.根据权利要求1所述的真空镀膜设备，其特征在于，所述底壁上设置有进气孔，所述进气孔和破空管路之间设置有衔接管。
10.根据权利要求9所述的真空镀膜设备，其特征在于，所述侧壁上设置有固定所述破空管路的支架。
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