CN220740735U - 一种抛光机的防溢结构及抛光机 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及晶圆加工技术领域，尤其是一种抛光机的防溢结构及抛光机，包括盖体，所述盖体上开设有防溢槽和导水槽，所述导水槽与所述防溢槽连通，所述防溢槽内开设有通孔，所述盖体的底部设置有引流管组件，所述引流管组件的下端设置有集水组件，所述引流管组件用于将所述盖体上的液体引流到所述集水组件内，所述集水组件用于收集所述盖体上的液体。本实用新型通过设置通孔，通孔开设有多个，晶圆滴落的液体进入防溢槽后不会聚集，而是通过通孔流入引流管组件，再经过引流管组件流入集水组件被集中收集，即使有大量的液体从晶圆上滴落到盖体上，也不会导致液体在盖体聚集，避免再次出现漫溢的现象。

Description

一种抛光机的防溢结构及抛光机

技术领域

本实用新型涉及晶圆加工技术领域，尤其涉及一种抛光机的防溢结构及抛光机。

背景技术

为了去除位于晶圆的非凹陷区域上的金属层，常见的方法是化学机械抛光,化学抛光机包括清洗机构、晶圆输送机构、烘干机构等，晶圆被清洗后经由晶圆输送机构输送至烘干机构处烘干，晶圆被晶圆输送机构输送过程中，晶圆上的液体滴落，水滴打湿盖体下方的部件，造成化学抛光机报警停机的情况。

解决晶圆上滴落的液体易造成抛光机报警停机的问题，现在会在抛光机上加装防溢结构，如现有技术中，中国专利申请号：CN202121556250.5，公开了抛光机的防溢结构及抛光机。其中，所述防溢结构包括盖体，所述盖体具有防溢槽和至少一条导水槽，所述导水槽设于所述防溢槽一侧，沿靠近所述防溢槽方向，所述导水槽的深度逐渐变大；所述盖体顶面包括第一斜面和第二斜面，所述第一斜面为所述导水槽的底面，所述导水槽开设于所述第二斜面内，沿靠近所述防溢槽方向，所述第一斜面的高度和所述第二斜面的高度均逐渐变低，且所述第一斜面的坡度大于所述第二斜面的坡度。能够有效解决晶圆上滴落的液体易从盖体溢出造成抛光机报警停机的问题，减少抛光机报警停机的频次，保证抛光机的正常运行。

抛光机的防溢结构虽然可以防止晶圆上滴落的液体造成抛光机报警停机，但是，盖体本身不具备储水功能，如果一次性有大量晶圆被输送机构输送，那么必然会有大量的液体从晶圆上滴落，进而导致液体的总量超过盖体的承载和引流能力，从而可能再次出现漫溢的现象，造成抛光机报警停机。

实用新型内容

本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在上述缺点，而提出的一种抛光机的防溢结构及抛光机。

为了实现上述目的，本实用新型采用了如下技术方案：

设计一种抛光机的防溢结构，包括盖体，所述盖体上开设有防溢槽和导水槽，所述导水槽与所述防溢槽连通，所述防溢槽内开设有通孔，所述盖体的底部设置有引流管组件，所述引流管组件的下端设置有集水组件，所述引流管组件用于将所述盖体上的液体引流到所述集水组件内，所述集水组件用于收集所述盖体上的液体。

进一步的，所述盖体的表面设置有斜坡，所述盖体的四周固定连接有挡板。

进一步的，所述导水槽开设有多个，多个所述导水槽等距开设在所述斜坡上。

进一步的，所述引流管组件包括引水管、连接管、排水硬管、第一阀门和排水软管，所述引水管固定连接在所述盖体的底部，所述引水管与所述通孔连通，所述引水管的下端与所述连接管固定连通，所述排水硬管的上端与所述连接管固定连通，所述第一阀门安装在所述排水硬管上，所述排水软管固定套接在所述排水硬管的下端。

进一步的，所述集水组件包括集水箱、出水管和第二阀门，所述集水箱上开设有进水口，所述排水软管的下端通过所述进水口滑动插接在所述集水箱内，所述出水管固定连通在所述集水箱的一侧，所述第二阀门安装在所述出水管上。

一种抛光机，包括机架、清洗件、输送件、烘干件和上述所述的抛光机的防溢结构，所述清洗件、所述输送件和所述烘干件均设置在所述机架上，所述盖体设置在所述清洗件与所述输送件之间。

本实用新型提出的一种抛光机的防溢结构及抛光机，有益效果在于：

1、本实用新型通过设置通孔，通孔开设有多个，晶圆滴落的液体进入防溢槽后不会聚集，而是通过通孔流入引流管组件，再经过引流管组件流入集水组件被集中收集，即使有大量的液体从晶圆上滴落到盖体上，也不会导致液体在盖体聚集，避免再次出现漫溢的现象。

2、本实用新型通过设置集水组件，集水组件可以对晶圆滴落的液体进行集中收集，从而不会出现液体长时间滞留在盖体上的现象，进一步保障了防溢效果，使盖体能够使用较长的时间而不需要对其进行清理和更换，进而对晶圆加工效率和抛光机的工作效率产生了积极影响。

附图说明

图1为本实用新型提出的一种抛光机的防溢结构的立体结构示意图；

图2为本实用新型提出的盖体的立体结构示意图；

图3为本实用新型图1的A部分的放大结构示意图；

图4为本实用新型提出的一种抛光机的立体结构示意图。

图中：1、盖体；2、防溢槽；3、导水槽；4、通孔；5、引流管组件；6、集水组件；7、斜坡；8、挡板；9、引水管；10、连接管；11、排水硬管；12、第一阀门；13、排水软管；14、集水箱；15、出水管；16、第二阀门；17、进水口；18、机架；19、清洗件；20、输送件；21、烘干件。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。

参照图1-4，一种抛光机的防溢结构，包括盖体1，盖体1上开设有防溢槽2和导水槽3，导水槽3与防溢槽2连通，防溢槽2内开设有通孔4，盖体1的底部设置有引流管组件5，引流管组件5的下端设置有集水组件6，引流管组件5用于将盖体1上的液体引流到集水组件6内，集水组件6用于收集盖体1上的液体，本实用新型实施例中，晶圆滴落的液体被盖体1接住，经由导水槽3导流，并通过导水槽3给液体一个向下流动的加速度，促使液体进入防溢槽2，为现有技术，通孔4开设有多个，晶圆滴落的液体进入防溢槽2后不会聚集，而是通过通孔4流入引流管组件5，再经过引流管组件5流入集水组件6被集中收集，即使有大量的液体从晶圆上滴落到盖体1上，也不会导致液体在盖体1聚集，避免了再次出现漫溢的现象，集水组件6可以对晶圆滴落的液体进行集中收集，从而不会出现液体长时间滞留在盖体1上的现象，进一步保障了防溢效果，使盖体1能够使用较长的时间而不需要对其进行清理和更换，进而对晶圆加工效率和抛光机的工作效率产生了积极影响。

参照图1和图2，盖体1的表面设置有斜坡7，盖体1的四周固定连接有挡板8，更具体的为，斜坡7给液体一个向下流动的加速度，使其更快地进入防溢槽2，挡板8进一步减小了液体从盖体1上漫溢的可能性。

参照图2，导水槽3开设有多个，多个导水槽3等距开设在斜坡7上，更具体的为，多个导水槽3可以进一步加速液体进入防溢槽2的过程。

参照图3，引流管组件5包括引水管9、连接管10、排水硬管11、第一阀门12和排水软管13，引水管9固定连接在盖体1的底部，引水管9与通孔4连通，引水管9的下端与连接管10固定连通，排水硬管11的上端与连接管10固定连通，第一阀门12安装在排水硬管11上，排水软管13固定套接在排水硬管11的下端，更具体的为，引水管9有多个，并且与多个通孔4一一对应，进入防溢槽2的液体经过通孔4流入引水管9，再经过连接管10流入排水硬管11，第一阀门12在开启状态下，液体最终经过排水软管13流入集水组件6内。

参照图1，集水组件6包括集水箱14、出水管15和第二阀门16，集水箱14上开设有进水口17，排水软管13的下端通过进水口17滑动插接在集水箱14内，出水管15固定连通在集水箱14的一侧，第二阀门16安装在出水管15上，更具体的为，排水软管13与集水箱14通过进水口17实现可拆卸连接，使用较为灵活，液体最终经过排水软管13流入集水箱14内，当集水箱14内液体较多时，可以开启第二阀门16，通过出水管15将液体排走。

参照图4，一种抛光机，包括机架18、清洗件19、输送件20、烘干件21和抛光机的防溢结构，清洗件19、输送件20和烘干件21均设置在机架18上，盖体1设置在清洗件19与输送件20之间，更具体的为，抛光机为现有技术，在此不做赘述，晶圆从清洗件19被输送件20输送至烘干件21之前，滴落的液体会被被盖体1接住，起到了防溢作用。

工作方式：工作时，晶圆从清洗件19被输送件20输送至烘干件21之前，滴落的液体会被被盖体1接住，晶圆滴落的液体被盖体1接住以后，经由导水槽3导流，并通过导水槽3给液体一个向下流动的加速度，促使液体进入防溢槽2，进入防溢槽2的液体经过通孔4流入引水管9，再经过连接管10流入排水硬管11，第一阀门12在开启状态下，液体最终经过排水软管13流入集水箱14内，即使有大量的液体从晶圆上滴落到盖体1上，也不会导致液体在盖体1聚集，避免了再次出现漫溢的现象，集水箱14可以对晶圆滴落的液体进行集中收集，从而不会出现液体长时间滞留在盖体1上的现象，进一步保障了防溢效果，使盖体1能够使用较长的时间而不需要对其进行清理和更换，进而对晶圆加工效率和抛光机的工作效率产生了积极影响，当集水箱14内液体较多时，可以开启第二阀门16，通过出水管15将液体排走。

以上所述，仅为本实用新型较佳的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。

Claims (6)

1.一种抛光机的防溢结构，包括盖体(1)，其特征在于：所述盖体(1)上开设有防溢槽(2)和导水槽(3)，所述导水槽(3)与所述防溢槽(2)连通，所述防溢槽(2)内开设有通孔(4)，所述盖体(1)的底部设置有引流管组件(5)，所述引流管组件(5)的下端设置有集水组件(6)，所述引流管组件(5)用于将所述盖体(1)上的液体引流到所述集水组件(6)内，所述集水组件(6)用于收集所述盖体(1)上的液体。

2.根据权利要求1所述的一种抛光机的防溢结构，其特征在于：所述盖体(1)的表面设置有斜坡(7)，所述盖体(1)的四周固定连接有挡板(8)。

3.根据权利要求2所述的一种抛光机的防溢结构，其特征在于：所述导水槽(3)开设有多个，多个所述导水槽(3)等距开设在所述斜坡(7)上。

4.根据权利要求1所述的一种抛光机的防溢结构，其特征在于：所述引流管组件(5)包括引水管(9)、连接管(10)、排水硬管(11)、第一阀门(12)和排水软管(13)，所述引水管(9)固定连接在所述盖体(1)的底部，所述引水管(9)与所述通孔(4)连通，所述引水管(9)的下端与所述连接管(10)固定连通，所述排水硬管(11)的上端与所述连接管(10)固定连通，所述第一阀门(12)安装在所述排水硬管(11)上，所述排水软管(13)固定套接在所述排水硬管(11)的下端。

5.根据权利要求4所述的一种抛光机的防溢结构，其特征在于：所述集水组件(6)包括集水箱(14)、出水管(15)和第二阀门(16)，所述集水箱(14)上开设有进水口(17)，所述排水软管(13)的下端通过所述进水口(17)滑动插接在所述集水箱(14)内，所述出水管(15)固定连通在所述集水箱(14)的一侧，所述第二阀门(16)安装在所述出水管(15)上。

6.一种抛光机，其特征在于：包括机架(18)、清洗件(19)、输送件(20)、烘干件(21)和权利要求1-5任一项所述的抛光机的防溢结构，所述清洗件(19)、所述输送件(20)和所述烘干件(21)均设置在所述机架(18)上，所述盖体(1)设置在所述清洗件(19)与所述输送件(20)之间。