CN220703859U - 校准安装支架和长晶装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种校准安装支架和长晶装置，校准安装支架包括底座、支架、校准板和调节锁定机构，支架设于底座，且支架具有安装部，安装部相对于竖直方向倾斜设置且用于安装被校准结构，校准板设于底座且位于安装部的下方，校准板的上表面具有校准标识，校准标识构造成能被安装于安装部的被校准结构识别，调节锁定机构设于底座，调节锁定机构用于调节校准板的高度位置，并将校准板锁定在多个上下间隔设置的预设高度位置，相邻两个预设高度位置之间的高度差为预设值。根据本实用新型的校准安装支架，可以模拟被校准结构的实际应用场景，实现炉外校准，降低校准难度，提升校准准确性。

Description

校准安装支架和长晶装置

技术领域

本实用新型涉及校准技术领域，尤其是涉及一种校准安装支架和长晶装置。

背景技术

随着半导体市场的迅速发展，对半导体晶圆的需求越来越大；目前，国内外还是以直拉法生产半导体晶圆为主，在直拉法生产过程中，通常采用相机等来测量晶棒直径、监测液面位置等，从而控制拉晶工艺。

相关技术中，采用双目相机实现对长晶过程中相关参数的监测，双目相机相对于单目相机来说优势更加明显，单目相机需要在长晶炉的炉腔内设置标的物，同时要求视野角大，会影响到水冷组件的长度，从而影响拉晶效率；而双目相机不需要在炉腔内设置标的物，对水冷组件的长度影响小，双目相机需要在长晶炉上进行校准后才能应用于拉晶，但是校准时需要开炉，费时费力，校准难度较大。

实用新型内容

本实用新型旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本实用新型提出一种校准安装支架，所述校准安装支架可以模拟被校准结构的实际应用场景，实现炉外校准，降低校准难度，提升校准准确性。

本实用新型还提出一种具有上述校准安装支架的长晶装置。

根据本实用新型第一方面实施例的校准安装支架，包括：底座；支架，所述支架设于所述底座，且所述支架具有安装部，所述安装部相对于竖直方向倾斜设置且用于安装被校准结构；校准板，所述校准板设于所述底座且位于所述安装部的下方，所述校准板的上表面具有校准标识，所述校准标识构造成能被安装于所述安装部的所述被校准结构识别；调节锁定机构，所述调节锁定机构设于所述底座，所述调节锁定机构用于调节所述校准板的高度位置，并将所述校准板锁定在多个上下间隔设置的预设高度位置，相邻两个预设高度位置之间的高度差为预设值。

根据本实用新型实施例的校准安装支架，通过设置调节锁定机构，以用于调节并锁定校准板的高度位置，且校准板上的校准标识能被安装于安装部的被校准结构识别，以便通过改变校准板的高度位置，实现对被校准结构的校准，从而在被校准结构校准后能用于实际使用场景中；而且，安装于校准安装支架的被校准结构在被校准时，可以模拟被校准结构的实际使用场景，实现在长晶炉外校准，降低了校准的难度，提升校准准确性。

在一些实施例中，调节锁定机构包括调节组件和测量组件，调节组件构造成使校准板的高度位置可连续调节并可被实时锁定，测量组件用于测量校准板的高度变化量，以使相邻两个预设高度位置之间的高度差为预设值，测量组件包括测量尺和与测量尺上下滑移配合的游标，游标与校准板固定，测量尺用于测量游标的高度变化量；或者，调节锁定机构构造成使校准板的高度位置可连续调节并在预设高度位置时可被锁定。

在一些实施例中，所述支架安装于所述底座的上表面，所述校准板通过所述调节锁定机构安装于所述底座的上表面，所述校准安装支架还包括：第一调平机构，所述第一调平机构用于将所述底座的上表面调节至水平设置。

在一些实施例中，所述底座包括：支撑板，所述支撑板形成为多边形板且具有多个间隔设置的边角部；支撑脚，所述支撑脚设于所述支撑板的下侧，每个所述边角部分别设有支撑脚，所述第一调平机构包括多个间隔设置的升降地脚，每个所述支撑脚的下端分别设有所述升降地脚。

在一些实施例中，所述校准安装支架还包括：第二调平机构，所述第二调平机构设于所述校准板和所述调节锁定机构之间，以使所述调节锁定机构通过所述第二调平机构调节所述校准板的高度位置，所述第二调平机构用于将所述校准板的上表面调节至水平设置。

在一些实施例中，所述调节锁定机构安装于所述底座上侧，所述第二调平机构包括第一安装架、第一固定螺栓和第一调节螺栓，且所述第一安装架形成有多个间隔设置的第一安装孔，所述第一调节螺栓螺纹配合于对应所述第一安装孔，以使所述第一调节螺栓向上伸出所述第一安装孔的长度可调，所述第一调节螺栓的上端与所述校准板止抵，且所述第一调节螺栓形成有第一通孔，所述第一固定螺栓穿设于所述第一通孔且与所述第一调节螺栓滑移配合，所述第一固定螺栓的上端与所述校准板固定，其中，所述调节锁定机构与所述第一安装架相连以调节所述第一安装架的高度位置。

在一些实施例中，所述调节锁定机构包括测量组件，所述测量组件包括测量尺和与所述测量尺上下滑移配合的游标，所述游标与所述第二调平机构固定，所述测量尺用于测量所述游标的高度变化量。

在一些实施例中，所述校准安装支架还包括：第三调平机构，所述第三调平机构设于所述调节锁定机构和所述底座之间，且用于将所述调节锁定机构调节至水平设置，所述第三调平机构与所述第二调平机构在水平方向上错位设置。

在一些实施例中，所述第三调平机构安装于所述底座的上表面，且包括第二安装架、第二固定螺栓和第二调节螺栓，所述调节锁定机构安装于所述第二安装架，所述第二安装架围绕所述第二调平机构设置且形成有多个间隔设置的第二安装孔，所述第二调节螺栓螺纹配合于对应所述第二安装孔，以使所述第二调节螺栓向下伸出所述第二安装孔的长度可调，所述第二调节螺栓的下端与所述底座的上表面止抵，且所述第二调节螺栓形成有第二通孔，所述第二固定螺栓穿设于所述第二通孔且与所述第二调节螺栓滑移配合，所述第二固定螺栓的下端与所述底座固定。

根据本实用新型第二方面实施例的长晶装置，包括：长晶炉，所述长晶炉上形成有观察口；校准安装支架，所述校准安装支架为根据本实用新型上述第一方面实施例的校准安装支架；被校准结构，所述被校准结构适于在所述校准安装支架上校准后安装在所述观察口处，所述被校准结构为双目相机且用于监测所述长晶炉内的熔汤液面位置。

根据本实用新型实施例的长晶装置，通过采用上述的校准安装支架，实现了双目相机的炉外校准，校准便利，提升双目相机的使用可靠性。

本实用新型的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本实用新型的实践了解到。

附图说明

本实用新型的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中：

图1是根据本实用新型一个实施例的校准安装支架的示意图；

图2是图1中所示的校准安装支架的另一个示意图；

图3是图1中所示的底座和第一调平机构的示意图；

图4是图1中所示的第三调平机构的示意图；

图5是图1中所示的校准安装支架的局部示意图；

图6-图7是图5中所示的第二调平机构、第三调平机构、调节锁定机构和校准板的示意图；

图8是图6中所示的第二调平机构、第三调平机构、调节锁定机构的示意图；

图9是图6中所示的第三调平机构的剖视图；

图10是图9中所示的第三调平机构的爆炸图；

图11是图6中所示的第二调平机构、调节锁定机构和校准板的示意图；

图12是图6中所示的第二调平机构的示意图；

图13是图11中所示的第二调平机构和校准板的局部示意图；

图14是图13中所示的第二调平机构的示意图；

图15是图11中所示的第二调平机构、调节锁定机构和校准板的剖视图；

图16是图12中所示的测量组件的示意图，其中(a)、(b)、(c)为测量组件不同视角的示意图；

图17是图1中所示的支架的示意图；

图18是图17中所示的支架的底部示意图；

图19-图20是根据本实用新型一个实施例的被校准结构的示意图；

图21是根据本实用新型一个实施例的长晶装置的剖视图。

附图标记：

长晶装置200、长晶炉101、观察口101a、被校准结构102、第二定位孔102a、水冷组件103、导流筒组件104、坩埚105、熔汤液面位置S、

校准安装支架100、底座1、支撑板11、边角部111、支撑脚12、连接件13、支架2、安装部21、定位销211、校准板3、校准标识R、第一定位孔2a、第一固定孔2b、第一板31、第二板32、调节锁定机构4、测量组件41、测量尺411、游标412、第二转接件413、第三转接件414、调节组件42、丝杠421、螺母422、第一转接件43、第一调平机构5、升降地脚51、第二调平机构6、第一安装架61、第一安装孔61a、第一固定螺栓62、第一调节螺栓63、第一通孔63a、第三调平机构7、第二安装架71、第二安装孔71a、第二固定螺栓72、第二调节螺栓73、第二通孔73a、固定板74。

具体实施方式

下面详细描述本实用新型的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，仅用于解释本实用新型，而不能理解为对本实用新型的限制。

下文的公开提供了许多不同的实施例或例子用来实现本实用新型的不同结构。为了简化本实用新型的公开，下文中对特定例子的部件和设置进行描述。当然，它们仅仅为示例，并且目的不在于限制本实用新型。此外，本实用新型可以在不同例子中重复参考数字和/或字母。这种重复是为了简化和清楚的目的，其本身不指示所讨论各种实施例和/或设置之间的关系。此外，本实用新型提供了的各种特定的工艺和材料的例子，但是本领域普通技术人员可以意识到其他工艺的可应用于性和/或其他材料的使用。

下面，参考附图，描述根据本实用新型实施例的校准安装支架100。

如图1-图3所示，校准安装支架100包括底座1和支架2，支架2设于底座1，且支架2具有安装部21，安装部21相对于竖直方向倾斜设置，且安装部21用于安装被校准结构102(例如后文所述的用于长晶炉101的被校准结构102)。可见，被校准结构102安装于安装部21时，被校准结构102大致倾斜安装，便于实现对被校准结构102实际安装姿态(或实际安装角度)的模拟；例如，被校准结构102在实际应用中通常安装于炉体的炉盖上，且被校准结构102偏离于炉盖的中心轴线设置，而本申请实施例将安装部21相对于竖直方向倾斜设置，使得被校准结构102安装于安装部21的姿态更加趋近于被校准结构102的实际安装姿态、或者被校准结构102安装于安装部21的姿态与被校准结构102的实际安装至炉盖的安装姿态相同。

如图1所示，校准安装支架100还包括校准板3，校准板3设于底座1，且校准板3位于安装部21的下方，校准板3的上表面具有校准标识R，校准标识R构造成能被安装于安装部21的被校准结构102识别；也就是说，对被校准结构102进行校准时，将被校准结构102安装在安装部21上，此时被校准结构102能构识别到校准板3上的校准标识R，以便通过校准板3来对被校准结构102进行校准。

校准安装支架100还包括调节锁定机构4，调节锁定机构4设于底座1，调节锁定机构4用于调节校准板3的高度位置，并将校准板3锁定在多个上下间隔设置的预设高度位置，相邻两个预设高度位置之间的高度差为预设值；其中，预设高度位置为三个或三个以上。

可见，当调节锁定机构4将校准板3锁定在任一个预设高度位置时，安装于安装部21的被校准结构102可以识别校准板3上的校准标识R。

可以理解的是，相邻两个预设高度位置之间的高度差为已知参数，即预设值为已知参数；对于调节锁定机构4来说，预设值可以是固定不变的、也可以是能变化的；任意相邻两个预设高度位置之间的高度差可以相等或不等，比如以预设高度位置为三个为例，三个预设高度位置分别为自上向下依次设置的第一预设高度位置、第二预设高度位置和第三预设高度位置，第一预设高度位置与第二预设高度位置之间的高度差为第一预设值，第二预设高度位置与第三预设高度位置之间的高度差为第二预设值，第一预设高度位置与第三预设高度位置之间的高度差为第三预设值，第三预设值为第一预设值和第二预设值之和，第一预设值和第二预设值可以相等或不等。

示例性地，以预设高度位置为三个为例、三个预设高度位置分别为自上向下依次设置的第一预设高度位置、第二预设高度位置和第三预设高度位置为例，任意相邻两个预设高度位置之间的高度差为已知参数，被校准结构102安装于安装部21后，将校准板3按照预设顺序被锁定在三个预设高度位置，被校准结构102获取对应于上述三个预设高度位置处的校准标识R，则被校准结构102可以获得校准标识R在上下方向上的高度变化为预设值时，校准标识R的变化，以便被校准结构102获取校准标识R在上下方向上的高度变化为单位高度时，校准标识R的变化，实现被校准结构102的校准；其中，校准板3按照预设顺序被锁定在三个预设高度位置过程中，校准板3可以被依次锁定在第一预设高度位置、第二预设高度位置和第三预设高度位置，或者校准板3被依次锁定在第三预设高度位置、第二预设高度位置和第一预设高度位置，或者校准板3被依次锁定在第一预设高度位置、第三预设高度位置和第二预设高度位置，等等。当然，校准逻辑不限于此。

例如，校准安装支架100可以用于对长晶装置200的被校准结构102进行校准，被校准结构102用于监测长晶炉101内的熔汤液面位置S，以被校准结构102为双目相机为例，被校准结构102安装于安装部21，调节锁定机构4将校准板3调节至某一预设高度位置，此时被校准结构102可以识别校准板3上的校准标识R，以利用校准标识R所在的高度位置来模拟熔汤液面位置S，即被校准结构102与校准标识R之间的高度距离跟被校准结构102用于长晶装置200时被校准结构102与熔汤液面之间的高度距离是一致的；而后，调节锁定机构4将校准板3调节至另一个预设高度位置，此时被校准结构102可以识别校准板3上的校准标识R，从而获取校准板3的高度变化量为一个已知数值时、校准标识R的变化；接着，调节锁定机构4将校准板3调节至再一个预设高度位置，此时被校准结构102仍可以识别校准板3上的校准标识R，从而获取校准板3的高度变化量为一个已知数值时、校准标识R的变化；如此依序进行；被校准结构102可以依据获取的信息，以便于最终能获取校准标识R的变化与校准板3的高度变化量之间的映射关系，以实现被校准结构102的校准，在被校准结构102用于长晶装置200时，被校准结构102可以根据熔汤液面的变化来得到熔汤液面位置S的变化。

根据本实用新型实施例的校准安装支架100，通过设置调节锁定机构4，以用于调节并锁定校准板3的高度位置，且校准板3上的校准标识R能被安装于安装部21的被校准结构102识别，以便通过改变校准板3的高度位置，实现对被校准结构102的校准，从而在被校准结构102校准后能用于实际使用场景中；而且，安装于校准安装支架100的被校准结构102在被校准时，可以模拟被校准结构102的实际使用场景，实现在长晶炉101外校准，降低了校准的难度，提升校准准确性。

以被校准结构102为双目相机为例，被校准结构102安装于校准安装支架100进行校准时，可以完全模拟被校准结构102在长晶过程中的相对安装位置，并根据校准逻辑调节并锁定校准板3的高度位置，实现被校准结构102的炉外校准，提升校准准确性。而相关技术中，被校准结构只能安装在长晶炉上校准，在校准时，需要打开炉盖，拆装比较费时费力，校准难度较大。

可选地，校准标识R可以根据实际需求具体设置；示例性地，校准标识R可以包括校准图案和校准文字中的至少一种。

在一些实施例中，任意相邻两个预设高度位置之间的高度差相等，则被校准结构102可以直接获得多个变化参数，每个变化参数分别为校准标识R在上下方向上的高度变化为定值时校准标识R的变化，有利于简化被校准结构102的校准逻辑。

当然，在本申请其他实施例中，校准安装支架100还可以构造成至少相邻两个预设高度位置之间的高度差与其余相邻两个预设高度位置之间的高度差不等。

在一些实施例中，如图1、图5-图8和图15所示，调节锁定机构4包括调节组件42和测量组件41，调节组件42构造成使校准板3的高度位置可连续调节并可被实时锁定，测量组件41用于测量校准板3的高度变化量，以使相邻两个预设高度位置之间的高度差为预设值。

示例性地，调节组件42包括丝杠421和与丝杠421螺纹配合的螺母422，螺母422与校准板3固定相连，丝杠421竖直设置，转动丝杠421以实现螺母422在上下方向上位置的调节，从而调节校准板3的高度位置，同时丝杠421静止不动，即可实现螺母422上下位置的锁定，从而实现校准板3高度位置的锁定。

其中，测量组件41包括测量尺411和与测量尺411上下滑移配合的游标412，游标412与校准板3固定，测量尺411用于测量游标412的高度变化量，从而实现对校准板3高度变化量的测量，即实现对预设值的直观测量。可见，本申请上述技术方案中可以直接显示校准板3在两个预设高度位置之间的高度差，无需操作人员记录调节锁定机构4的设计参数等，提升校准便利性。

可见，在上述技术方案中，两次校准过程中，所采用的多个预设高度位置可以相同或不同；比如，以校准过程需要三个预设高度位置为例，一次校准过程中，调节锁定机构4将校准板3依次锁定在与底座1下端面相距h1的第一个预设高度位置、与底座1下端面相距h2的第二个预设高度位置、与底座1下端面相距h3的第三个预设高度位置，而下次校准过程中，调节锁定机构4可以将校准板3依次锁定在第四个预设高度位置、第五个预设高度位置和第六个预设高度位置，其中第四个预设高度位置、第五个预设高度位置和第六个预设高度位置中的至少一个与上述校准过程中的第一个至第三个预设高度位置中的任意一个都不同。

当然，本申请不限于此。在其他实施例中，调节锁定机构4构造成使校准板3的高度位置可连续调节并在预设高度位置时可被锁定，则调节锁定机构4构造成使校准板3的高度位置可连续调节并被不连续锁定；可见，在本申请上述技术方案中，调节锁定机构4的设计参数对应于相邻两个预设高度位置之间的高度差，操作人员可以根据调节锁定机构4的设计参数获取预设值。

示例性地，调节锁定机构4包括固定件和移动件，移动件可相对固定件上下移动，移动件与校准板3固定，移动件和固定件中的其中一个上形成有多个上下间隔设置的限位槽，另一个上形成有多个限位凸起，每个限位凸起适于与任一个限位槽上下限位配合，以实现移动件和固定件的上下限位，从而使得调节锁定机构4能通过移动件3上下移动来调节校准板3的高度位置，同时能通过移动件和固定件的限位配合来实现校准板3高度位置的锁定。

显然，在本申请实施例中，预设值的获取方式不限于此；例如，还可以通过设于校准安装支架100外的测量机构对相邻两个预设高度位置的高度差进行测量以获取预设值。

在一些实施例中，如图1和图3所示，支架2安装于底座1的上表面，校准板3通过调节锁定机构4安装于底座1的上表面，也就是说，校准板3通过调节锁定机构4与底座1间接固定；校准安装支架100还包括第一调平机构5，第一调平机构5用于将底座1的上表面调节至水平设置。

可见，本申请实施例中，通过设置第一调平机构5，可以实现底座1上表面的调平，以便减小校准安装支架100的放置面对校准准确性的影响，使得本申请实施例中的校准安装支架100不仅可以适用于水平放置面，还可以适用于不同水平度或不同平整度的放置面，有效提升校准安装支架100的适用性。

可选地，第一调平机构5在调节底座1上表面的水平度的过程中，可以采用水平仪等其他辅助结构实现底座1上表面水平度的调节反馈，有利于提升调节效率。

在一些实施例中，如图3所示，底座1包括支撑板11和支撑脚12，支撑板11形成为呈多边形板，且支撑板11具有多个间隔设置的边角部111，支撑脚12设于支撑板11的下侧，每个边角部111分别设有支撑脚12，则多个支撑脚12分别支撑于多个边角部111处，以实现多个支撑脚12对支撑板11的稳定支撑，有利于提升底座1稳定性；可见，支撑板11的上表面即为底座1的上表面，支架2安装于支撑板11，校准板3通过调节锁定机构4安装于支撑板11。示例性地，支撑板11大致形成为三角形板，支撑板11具有三个边角部111，每个边角部111的下侧设有支撑脚12，以便利于较少数量的支撑脚12实现对支撑板11的稳定支撑。

其中，第一调平机构5包括多个间隔设置的升降地脚51，每个支撑脚12的下端分别设有升降地脚51，升降地脚51可以调节对应支撑脚12的高度位置，则多个升降地脚51可以调节多个支撑脚12的相对高度位置，以便调节支撑板11的上表面的水平度，从而达到将底座1上表面调节至水平设置的目的，且第一调平机构5的结构简单、调节便利。

例如，如图3所示，底座1还包括连接件13，连接件13延伸为长条形，且连接件13连接相邻两个支撑脚12，以进一步提升底座1的稳定性。

在一些实施例中，如图1、图7、图11和图14所示，校准安装支架100还包括第二调平机构6，第二调平机构6设于校准板3和调节锁定机构4之间，以使调节锁定机构4通过第二调平机构6调节校准板3的高度位置，即调节锁定机构4通过调节第二调平机构6的高度位置来间接调节校准板3的高度位置；其中，第二调平机构6用于将校准板3的上表面调节至水平设置，则第二调平机构6可以用于将校准标识R调节至水平设置，以便使得对被校准结构102校准过程中、校准标识R水平设置，有利于使得校准标识R更好地模拟被校准结构102的实际使用场景，从而有利于提升被校准结构102的校准准确性。

可选地，第二调平机构6在调节校准板3上表面的水平度的过程中，可以采用水平仪等其他辅助结构实现校准板3上表面水平度的调节反馈，有利于提升调节效率。

可选地，校准安装支架100包括第一调平机构5和第二调平机构6，第一调平机构5用于将底座1的上表面调节至水平设置，第二调平机构6用于将校准板3的上表面调节至水平设置，可以实现多层调平功能，以便提升对校准板3上表面的调平准确性；此时，第二调平机构6在调节校准板3上表面水平度的过程中，可以采用水平仪等其他辅助结构实现调节反馈，或者还可以以底座1上表面为基准进行调节，以在底座1上表面调平完成后，利用第二调平机构6将校准板3上表面调节至与底座1上表面平行即可，此时可以无需再采用水平仪等辅助结构。

在一些实施例中，如图1、图7、图11和图15所示，调节锁定机构4安装于底座1上侧，校准板3和第二调平机构6也可以均设于底座1上侧；第二调平机构6包括第一安装架61、第一固定螺栓62和第一调节螺栓63，且第一安装架61形成有多个间隔设置的第一安装孔61a，第一调节螺栓63螺纹配合于对应第一安装孔61a，以使第一调节螺栓63向上伸出第一安装孔61a的长度可调，第一调节螺栓63的上端与校准板3止抵，且第一调节螺栓63形成有第一通孔63a，第一固定螺栓62穿设于第一通孔63a且与第一调节螺栓63滑移配合，第一固定螺栓62的上端与校准板3固定，其中，调节锁定机构4与第一安装架61相连以调节第一安装架61的高度位置。

其中，第一固定螺栓62与第一调节螺栓63滑移配合，可以理解为第一固定螺栓62和第一调节螺栓63在第一安装孔61a的周向和第一安装孔61a的轴向上分别滑移配合，则第一调节螺栓63可以相对于第一固定螺栓62转动、且第一调节螺栓63可以相对于第一固定螺栓62沿第一安装孔61a的轴向移动。

显然，第一调节螺栓63可以大致呈筒状结构，第一调节螺栓63的外周壁形成有外螺纹，第一安装孔61a的孔壁形成有内螺纹，该内螺纹与第一调节螺栓63的外螺纹螺纹配合；第一调节螺栓63套设于第一固定螺栓62外，以将第一固定螺栓62与第一安装孔61a的孔壁隔开设置。

可见，在上述技术方案中，第一固定螺栓62和第一调节螺栓63分别为多个，每个第一安装孔61a可以设有一个第一调节螺栓63和一个第一固定螺栓62；由于第一调节螺栓63的上端与校准板3止抵，而第一固定螺栓62的上端与校准板3固定，则旋转第一调节螺栓63时，第一调节螺栓63向上伸出第一安装孔61a的长度可调，而第一固定螺栓62的上端与校准板3固定且第一固定螺栓62与第一调节螺栓63滑移配合，从而可以调节第一安装架61在第一安装孔61a处与校准板3的上下间隔距离，继而实现对校准板3水平度的调节，实现对校准板3上表面的调平；而且，第二调平机构6的结构简单、调节便利。

例如，第一调节螺栓63的上下两端分别伸出第一安装孔61a，操作人员可以通过旋转第一调节螺栓63的下端来调节第一调节螺栓63伸出第一安装孔61a上侧的长度，以便进一步提升第二调平机构6的调节便利性。

可选地，多个第一安装孔61a可以分别对应位于多边形的多个顶点位置处，以便利用较少数量的第一调节螺栓63实现校准板3的调平；例如，在图14的示例中，第一安装架61大致呈三角形结构，第一安装孔61a为三个，且三个第一安装孔61a分别位于三角形的三个顶点位置处，每个第一安装孔61a分别设有一个第一调节螺栓63和一个第一固定螺栓62，通过旋转第一调节螺栓63即可调节第一安装架61在对应第一安装孔61a处与校准板3之间的上下间距；当然，多个第一安装孔61a还可以分别对应位于四边形或五边形等的多个顶点位置处。

可选地，在图6的示例中，校准板3包括上下叠置的第一板31和第二板32，第一板31设于第二板32的上侧，第一板31的上表面形成有校准标识R；其中，第二板32的下表面与第一调节螺栓63止抵，且第二板32与第一固定螺栓62通过螺纹连接方式固定相连。

在一些实施例中，如图5-图8和图16所示，调节锁定机构4包括测量组件41，测量组件41包括测量尺411和与测量尺411上下滑移配合的游标412，游标412与第二调平机构6固定，测量尺411用于测量游标412的高度变化量，则测量尺411可以用于测量第二调平机构6的高度变化量，测量尺411可以用于测量校准板3的高度变化量，以更加直观获取所需的预设值。其中，图16中的(a)、(b)、(c)为测量组件41不同视角的示意图。

示例性地，调节锁定机构4还包括调节组件42，调节组件42通过第一转接件43与第二调平机构6固定，以通过第一转接件43调节第二调平机构6的高度位置，游标412与第二转接件413固定，且游标412通过第二转接件413与第一转接件43和第二调平机构6中的至少一个固定，则游标412的高度变化量即为校准板3的高度变化量；测量尺411通过第三转接件414与底座1固定，使得测量尺411相对于底座1固定，例如，测量尺411可以通过第三转接件414与后文所述的第二安装架71上的固定板74固定相连(参照图12)，而第二安装架71固设于底座1，以实现测量尺411间接固设于底座1。

在一些实施例中，如图5-图10所示，校准安装支架100还包括第三调平机构7，第三调平机构7设于调节锁定机构4和底座1之间，以使调节锁定机构4通过第三调平机构7间接安装于底座1；其中，第三调平机构7用于将调节锁定机构4调节至水平设置，第三调平机构7与第二调平机构6在水平方向上错位设置，则第二调平机构6在水平面上的正投影与第三调平机构7在水平面上的正投影并未具有重叠部分，便于使得第二调平机构6在升降过程中不会与第三调平机构7发生干涉，即第三调平机构7不会影响调节锁定机构4的调节范围。

可见，在本申请实施例中，通过设置第二调平机构6和第三调平机构7，可以实现多层调平功能，以便提升对校准板3上表面的调平准确性。

可选地，第三调平机构7在调节调节锁定机构4的水平度的过程中，可以采用水平仪等其他辅助结构实现调节锁定机构4水平度的调节反馈，有利于提升调节效率；或者，还可以以校准板3上表面为基准进行调节，以在校准板3上表面调平完成后，利用第三调平机构7将调节锁定机构4调节至与校准板3上表面平行即可，此时可以无需再采用水平仪等辅助结构。

示例性地，校准安装支架100包括第一调平机构5、第二调平机构6和第三调平机构7，第一调平机构5用于将底座1的上表面调节至水平设置，第二调平机构6用于将校准板3的上表面调节至水平设置，第三调平机构7可以将调节锁定机构4调节至水平设置，以实现多层调平功能；校准板3包括上下叠置的第一板31和第二板32，校准标识R形成在第一板31的上表面。此时具体调试过程可以为：将水平仪放置到底座1上表面，并通过第一调平机构5调整底座1上表面至水平设置，然后将水平仪放置到第二板32的上表面，并通过调节第二调平机构6和第三调平机构7调整第二板32的上表面至水平设置，然后将第一板31居中放置在第二板32上表面，实现校准板3上表面的调平；通过调节锁定机构4将校准板3上下移动到设定的高度位置(即被校准结构102与校准板3的上下距离与实际生产中被校准结构102距离熔汤液面距离一致)；最后将被校准结构102安装到安装部21上，即完成校准安装支架100的安装和调试，以为被校准结构102的校准做好准备。

在一些实施例中，如图5、图9和图10所示，第三调平机构7安装于底座1的上表面，且第三调平机构7包括第二安装架71、第二固定螺栓72和第二调节螺栓73，调节锁定机构4安装于第二安装架71，第二安装架71形成有多个间隔设置的第二安装孔71a，第二调节螺栓73螺纹配合于对应第二安装孔71a，以使第二调节螺栓73向下伸出第二安装孔71a的长度可调，第二调节螺栓73的下端与底座1的上表面止抵，且第二调节螺栓73形成有第二通孔73a，第二固定螺栓72穿设于第二通孔73a且与第二调节螺栓73滑移配合，第二固定螺栓72的下端与底座1固定。

其中，第二固定螺栓72与第二调节螺栓73滑移配合，可以理解为第二固定螺栓72和第二调节螺栓73在第二安装孔71a的周向和第二安装孔71a的轴向上分别滑移配合，则第二调节螺栓73可以相对于第二固定螺栓72转动、且第二调节螺栓73可以相对于第二固定螺栓72沿第二安装孔71a的轴向移动。

显然，第二调节螺栓73可以大致呈筒状结构，第二调节螺栓73的外周壁形成有外螺纹，第二安装孔71a的孔壁形成有内螺纹，该内螺纹与第二调节螺栓73的外螺纹螺纹配合；第二调节螺栓73套设于第二固定螺栓72外，以将第二固定螺栓72与第二安装孔71a的孔壁隔开设置。

可见，在上述技术方案中，第二固定螺栓72和第二调节螺栓73分别为多个，每个第二安装孔71a可以设有一个第二调节螺栓73和一个第二固定螺栓72；由于第二调节螺栓73的下端与底座1上表面止抵，而第二固定螺栓72的上端与底座1固定，则旋转第二调节螺栓73时，第二调节螺栓73向下伸出第二安装孔71a的长度可调，而第二固定螺栓72的下端与底座1固定且第二固定螺栓72与第二调节螺栓73滑移配合，从而可以调节第二安装架71在第二安装孔71a处与底座1的上下间隔距离，继而实现对第二安装架71水平度的调节，实现对调节锁定机构4的调平；而且，第三调平机构7的结构简单、调节便利。

此外，第二安装架71围绕第二调平机构6设置，便于实现第二调平机构6与第三调平机构7在水平方向上的错位设置。示例性地，第二安装架71上设有竖直布置的固定板74，调节锁定机构4安装于固定板74；固定板74的背离调节锁定机构4的一侧设有加强筋，以在调节锁定机构4和校准板3通过固定板74悬臂设置时，同样便于实现调节锁定机构4和校准板3的可靠安装。

例如，第二调节螺栓73的上下两端分别伸出第一安装孔61a，操作人员可以通过旋转第二调节螺栓73的上端来调节第二调节螺栓73伸出第二安装孔71a下侧的长度，以便进一步提升第三调平机构7的调节便利性。

可选地，多个第二安装孔71a可以分别对应位于多边形的多个顶点位置处，以便利用较少数量的第二调节螺栓73实现校准板3的调平；例如，在图4和图8的示例中，第二安装架71大致呈三角形结构，第二安装孔71a为三个，且三个第二安装孔71a分别位于三角形的三个顶点位置处，每个第二安装孔71a分别设有一个第二调节螺栓73和一个第二固定螺栓72，通过旋转第二调节螺栓73即可调节第二安装架71在对应第二安装孔71a处与底座1上表面之间的上下间距；当然，多个第二安装孔71a还可以分别对应位于四边形或五边形等的多个顶点位置处。

在一些实施例中，如图9、图10、图13和图14所示，第二调平机构6包括第一安装架61、第一固定螺栓62和第一调节螺栓63，第三调平机构7包括第二安装架71、第二固定螺栓72和第二调节螺栓73，其中第一安装架61上第一安装孔61a的数量与第二安装架71上第二安装孔71a的数量相等，且第一安装架61和第二安装架71的结构相似，例如第一安装架61限定出的多边形结构与第二安装架71限定出的多边形结构相似，以便于第二调平机构6更加合理利用第一调平机构7的内部空间。

当然，在本申请其他实施例中，第一安装孔61a的数量还可以与第二安装孔71a的数量不等。

在一些实施例中，如图17-图20所示，支架2的底部形成有第一定位孔2a和第一固定孔2b，底座1上形成有定位凸起和第二固定孔，定位凸起配合于第一定位孔2a，以实现支架2和底座2的定位，紧固件(例如螺纹连接件等)穿设于第一固定孔2b和第二固定孔以将支架2和底座1固定。示例性地，支架2包括底板、支柱和顶板，支柱连接底板和顶板，安装部21形成在顶板上，第一定位孔2a和第一固定孔2b均形成在底板上；其中，底板的外周沿可以形成有避让口，以用于避让第三调平机构7设置。

根据本实用新型第二方面实施例的长晶装置200，包括长晶炉101、校准安装支架100和被校准结构102，长晶炉101上形成有观察口101a，被校准结构102适于在校准安装支架100上校准后安装在观察口101a处，被校准结构102为双目相机(如图19和图20所示)，且被校准结构102用于监测长晶炉101内的熔汤液面位置S。

可见，被校准结构102在校准安装支架100上校准后，被校准结构102可以获取到校准标识R的变化与校准标识R的高度变化量之间的关系，则在被校准结构102安装于观察口101a处时，被校准结构102可以根据熔汤液面的变化获取熔汤液面位置S的变化，以便获取熔体液面位置，提升对熔汤液面位置的监测准确性。

根据本实用新型实施例的长晶装置200，通过采用上述的校准安装支架100，实现了双目相机的炉外校准，校准便利，提升双目相机的使用可靠性。

例如，如图21所示，观察口101a形成在长晶炉101的炉盖上，长晶炉101包括水冷组件103、导流筒组件104和坩埚105，导流筒组件104和水冷组件103均设于坩埚105的上侧，水冷组件103用于对晶体进行冷却，导流筒组件104用于将晶体与加热器隔开且导引长晶炉内气流流动，被校准结构102安装于炉盖且用于监测坩埚105内熔汤液面位置S。安装部21具有定位销211，被校准结构102形成有第二定位孔102a，定位销211配合于第二定位孔102a，以实现被校准结构102与安装部21的定位，便于被校准结构102通过螺纹紧固件与安装部21固定。

根据本实用新型实施例的长晶装置200的其他构成以及操作对于本领域普通技术人员而言都是已知的，这里不再详细描述。

在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。此外，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本实用新型的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上。

在本实用新型的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

在本说明书的描述中，参考术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示意性实施例”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本实用新型的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施例或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。

尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，本领域的普通技术人员可以理解：在不脱离本实用新型的原理和宗旨的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由权利要求及其等同物限定。

Claims (10)

1.一种校准安装支架，其特征在于，包括：

底座；

支架，所述支架设于所述底座，且所述支架具有安装部，所述安装部相对于竖直方向倾斜设置且用于安装被校准结构；

校准板，所述校准板设于所述底座且位于所述安装部的下方，所述校准板的上表面具有校准标识，所述校准标识构造成能被安装于所述安装部的所述被校准结构识别；

调节锁定机构，所述调节锁定机构设于所述底座，所述调节锁定机构用于调节所述校准板的高度位置，并将所述校准板锁定在多个上下间隔设置的预设高度位置，所述预设高度位置为三个或三个以上，相邻两个预设高度位置之间的高度差为预设值。

2.根据权利要求1所述的校准安装支架，其特征在于，

所述调节锁定机构包括调节组件和测量组件，所述调节组件构造成使所述校准板的高度位置可连续调节并可被实时锁定，所述测量组件用于测量所述校准板的高度变化量，以使相邻两个所述预设高度位置之间的高度差为所述预设值，所述测量组件包括测量尺和与所述测量尺上下滑移配合的游标，所述游标与所述校准板固定，所述测量尺用于测量所述游标的高度变化量；或者，

所述调节锁定机构构造成使所述校准板的高度位置可连续调节并在所述预设高度位置时可被锁定。

3.根据权利要求1所述的校准安装支架，其特征在于，所述支架安装于所述底座的上表面，所述校准板通过所述调节锁定机构安装于所述底座的上表面，

所述校准安装支架还包括：

第一调平机构，所述第一调平机构用于将所述底座的上表面调节至水平设置。

4.根据权利要求3所述的校准安装支架，其特征在于，所述底座包括：

支撑板，所述支撑板形成为多边形板且具有多个间隔设置的边角部；

支撑脚，所述支撑脚设于所述支撑板的下侧，每个所述边角部分别设有支撑脚，所述第一调平机构包括多个间隔设置的升降地脚，每个所述支撑脚的下端分别设有所述升降地脚。

5.根据权利要求1-4中任一项所述的校准安装支架，其特征在于，所述校准安装支架还包括：

第二调平机构，所述第二调平机构设于所述校准板和所述调节锁定机构之间，以使所述调节锁定机构通过所述第二调平机构调节所述校准板的高度位置，所述第二调平机构用于将所述校准板的上表面调节至水平设置。

6.根据权利要求5所述的校准安装支架，其特征在于，所述调节锁定机构安装于所述底座上侧，

所述第二调平机构包括第一安装架、第一固定螺栓和第一调节螺栓，且所述第一安装架形成有多个间隔设置的第一安装孔，所述第一调节螺栓螺纹配合于对应所述第一安装孔，以使所述第一调节螺栓向上伸出所述第一安装孔的长度可调，所述第一调节螺栓的上端与所述校准板止抵，且所述第一调节螺栓形成有第一通孔，所述第一固定螺栓穿设于所述第一通孔且与所述第一调节螺栓滑移配合，所述第一固定螺栓的上端与所述校准板固定，其中，所述调节锁定机构与所述第一安装架相连以调节所述第一安装架的高度位置。

7.根据权利要求5所述的校准安装支架，其特征在于，所述调节锁定机构包括测量组件，所述测量组件包括测量尺和与所述测量尺上下滑移配合的游标，所述游标与所述第二调平机构固定，所述测量尺用于测量所述游标的高度变化量。

8.根据权利要求5的所述校准安装支架，其特征在于，所述校准安装支架还包括：

第三调平机构，所述第三调平机构设于所述调节锁定机构和所述底座之间，且用于将所述调节锁定机构调节至水平设置，所述第三调平机构与所述第二调平机构在水平方向上错位设置。

9.根据权利要求8所述的校准安装支架，其特征在于，所述第三调平机构安装于所述底座的上表面，且包括第二安装架、第二固定螺栓和第二调节螺栓，所述调节锁定机构安装于所述第二安装架，所述第二安装架围绕所述第二调平机构设置且形成有多个间隔设置的第二安装孔，所述第二调节螺栓螺纹配合于对应所述第二安装孔，以使所述第二调节螺栓向下伸出所述第二安装孔的长度可调，所述第二调节螺栓的下端与所述底座的上表面止抵，且所述第二调节螺栓形成有第二通孔，所述第二固定螺栓穿设于所述第二通孔且与所述第二调节螺栓滑移配合，所述第二固定螺栓的下端与所述底座固定。

10.一种长晶装置，其特征在于，包括：

长晶炉，所述长晶炉上形成有观察口；

校准安装支架，所述校准安装支架为根据权利要求1-9中任一项所述的校准安装支架；

被校准结构，所述被校准结构适于在所述校准安装支架上校准后安装在所述观察口处，所述被校准结构为双目相机且用于监测所述长晶炉内的熔汤液面位置。