CN220561285U - 喷盘结构及喷砂设备 - Google Patents
喷盘结构及喷砂设备 Download PDFInfo
- Publication number
- CN220561285U CN220561285U CN202321670188.1U CN202321670188U CN220561285U CN 220561285 U CN220561285 U CN 220561285U CN 202321670188 U CN202321670188 U CN 202321670188U CN 220561285 U CN220561285 U CN 220561285U
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- nozzles
- spray
- row
- sand blasting
- section
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000007921 spray Substances 0.000 title claims abstract description 66
- 238000005488 sandblasting Methods 0.000 title claims abstract description 58
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims abstract description 21
- 238000005422 blasting Methods 0.000 claims description 28
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims description 26
- 238000005406 washing Methods 0.000 claims description 12
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 10
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 9
- 230000000694 effects Effects 0.000 abstract description 12
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 11
- 238000002347 injection Methods 0.000 abstract description 10
- 239000007924 injection Substances 0.000 abstract description 10
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 20
- 230000008569 process Effects 0.000 description 9
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 9
- 239000000463 material Substances 0.000 description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 5
- 230000002452 interceptive effect Effects 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 3
- -1 fluoride ions Chemical class 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 3
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 3
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 2
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 2
- 229910000040 hydrogen fluoride Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000000873 masking effect Effects 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 238000000889 atomisation Methods 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000005338 frosted glass Substances 0.000 description 1
- 238000009776 industrial production Methods 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 238000004064 recycling Methods 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-L terephthalate(2-) Chemical compound [O-]C(=O)C1=CC=C(C([O-])=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 230000007306 turnover Effects 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
Abstract
本申请提供一种喷盘结构及喷砂设备,涉及喷砂技术领域。喷盘结构,包括至少一个盘体和喷嘴,所述盘体设有作业面,所述作业面覆盖于待加工件上,所述喷嘴安装于所述作业面,所述喷嘴设有多个并以阵列分布形成喷嘴矩阵,所述喷嘴矩阵包括沿第一方向分布的至少两排所述喷嘴,相邻两排所述喷嘴中,一排所述喷嘴的喷射方向与所述作业面的垂线平行,另一排所述喷嘴的喷射方向与所述作业面的垂线相交并形成夹角α。本申请改善因垂直喷射而无法喷射到凸台侧壁导致该处蒙砂效果不佳的问题。
Description
技术领域
本申请涉及喷砂技术领域,尤其涉及一种喷盘结构及喷砂设备。
背景技术
近年来,电子面板除了陶瓷、金属、塑料等常规材质以外,玻璃也是一种被广泛应用的生产材料,其中电子级的蒙砂玻璃作为一种具有防眩效果好、触摸手感佳的产品,更是日益受到消费者的青睐。在实际生产过程中,为了得到更好的视觉效果,通常会对面板正面的不同区域采用不一样的处理工艺。
现有的蒙砂工艺,多为采用喷砂工艺或者氟化氢化学蒙砂工艺。但对于电子玻璃有凸台的部分,且凸台侧壁和产品大面的角度较大时,现有的喷砂工艺会因砂水垂直喷射,而无法喷射到凸台侧壁导致该处蒙砂效果不佳。另外,氟化氢化学蒙砂,采用带氟离子的蒙砂液,该类液体具有强腐蚀性和强挥发性,因此加工时对周围环境、工艺参数、夹持治具及设备耗材的要求较高,产生的刺激性气味给员工操作和废液处理带来了极大的安全隐患和环境危害。为此,现提供一种喷盘结构及喷砂设备。
实用新型内容
有鉴于此,本申请的目的在于提供了一种喷盘结构及喷砂设备,旨在解决现有技术中凸台产品的侧壁蒙砂效果不佳的技术问题。
为实现上述目的,本申请采用的技术方案如下:
第一方面,本申请实施例提供了一种喷盘结构,包括:
至少一个盘体,所述盘体设有作业面,所述作业面覆盖于待加工件上;
喷嘴,所述喷嘴安装于所述作业面,所述喷嘴设有多个并以阵列分布形成喷嘴矩阵,所述喷嘴矩阵包括沿第一方向分布的至少两排所述喷嘴;
相邻两排所述喷嘴中,一排所述喷嘴的喷射方向与所述作业面的垂线平行,另一排所述喷嘴的喷射方向与所述作业面的垂线相交并形成夹角α。
在第一方面的其中一个实施例中,所述待加工件包括主板和凸台结构,沿所述第一方向上的相邻两排所述喷嘴,其喷射方向的轴线相交于o点,o点与所述作业面的间距为z;
所述z大于或等于所述作业面与所述凸台结构的间距;
或,所述z大于或等于所述作业面与所述主板的间距。
在第一方面的其中一个实施例中,所述凸台结构具有第一喷砂面、第二喷砂面、第三喷砂面和第四喷砂面,所述第一喷砂面和所述第二喷砂面相对设置且均与第二方向平行,所述第三喷砂面和所述第四喷砂面相对设置且均与所述第一方向平行;
所述喷盘结构包括至少一个喷盘组,每个所述喷盘组包括依次排列的第一盘体、第二盘体、第三盘体和第四盘体,所述第一盘体、所述第二盘体、所述第三盘体和所述第四盘体分别与所述第一喷砂面、所述第二喷砂面、所述第三喷砂面和所述第四喷砂面一一对应;
所述第一方向与所述第二方向垂直。
在第一方面的其中一个实施例中,所述待加工件的输送方向与所述第一方向平行。
在第一方面的其中一个实施例中,所述喷嘴矩阵沿所述第一方向设置有2n-1排,n为大于1的正整数。
在第一方面的其中一个实施例中,n=3,所述喷嘴矩阵沿第一方向依次标记为第一至第五排,所述第一盘体和所述第二盘体上的所述喷嘴矩阵满足以下关系:
第一排的所述喷嘴与第二排的所述喷嘴紧邻设置,第三排的所述喷嘴与第四排的所述喷嘴紧邻设置,第二排的所述喷嘴与第三排的所述喷嘴的间距大于第一排的所述喷嘴与第二排的所述喷嘴的间距,第四排的所述喷嘴与第五排的所述喷嘴的间距大于第三排的所述喷嘴与第四排的所述喷嘴的间距。
在第一方面的其中一个实施例中,所述α满足:10°≤α≤30°。
在第一方面的其中一个实施例中,所述喷嘴矩阵沿第一方向分布的相邻两排所述喷嘴的间距为d,所述d满足:30mm≤d≤60mm。
第二方面,本申请实施例还提供了一种喷砂设备,包括:
上料段;
喷砂段,所述喷砂段与所述上料段相邻设置;
下料段,所述下料段设置于所述喷砂段远离所述上料段的一侧;
上述任一实施例中所述的喷盘结构,所述喷盘结构安装于所述喷砂段。
在第二方面的其中一个实施例中,所述喷砂设备还包括水洗段和烘干段,所述水洗段设置于所述喷砂段远离所述上料段的一侧,所述烘干段设置于所述水洗段远离所述喷砂段的一侧。
相对于现有技术,本申请的有益效果是:本申请提出一种喷盘结构及喷砂设备,用于带有凸台的待加工件喷砂作业。喷盘结构包括盘体与喷嘴,其中,盘体覆盖于待加工件的一个非喷砂面,喷嘴安装于盘体上,喷嘴设有多个并沿第一方向分布至少两排,在相邻两排喷嘴中,一排喷嘴的喷射方向与盘体作业面的垂线平行,另一排喷嘴的喷射方向与盘体作业面的垂线相交。如此一来,在待加工件的喷砂过程中,喷射方向与盘体作业面垂线相交的喷嘴沿一定倾斜角度向待加工件的喷射面进行喷砂作业,改善因垂直喷射而无法喷射到凸台侧壁导致该处蒙砂效果不佳的问题。同时,喷射方向与盘体作业面垂直的喷嘴向待加工件的非喷砂面垂直喷射,使待加工件受到来自垂直方向的压力,同时待加工件下方的托辊提供支撑,使待加工件保持稳定,避免待加工件因受力不均而导致翻片掉落。
附图说明
为了更清楚地说明本申请实施例的技术方案,下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍,应当理解,以下附图仅示出了本申请的某些实施例,因此不应被看作是对范围的限定,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他相关的附图。
图1示出了本申请一些实施例中喷盘结构的结构示意图;
图2示出了本申请一些实施例中第一盘体的俯视结构示意图;
图3示出了本申请一些实施例中第二盘体的俯视结构示意图;
图4示出了本申请一些实施例中第三盘体的俯视的结构示意图;
图5示出了本申请一些实施例中第三盘体的侧视的结构示意图;
图6示出了本申请一些实施例中第四盘体的俯视的结构示意图;
图7示出了本申请一些实施例中第四盘体的侧视的结构示意图;
图8示出了本申请一些实施例中偶数排喷嘴的结构示意图;
图9示出了本申请一些实施例中第三盘体上奇数排喷嘴的结构示意图;
图10示出了本申请一些实施例中第四盘体上奇数排喷嘴的结构示意图;
图11示出了本申请一些实施例中喷砂设备的结构示意图;
图12示出了本申请一些实施例中待加工件的结构示意图。
主要元件符号说明:
100-喷盘结构;110-第一盘体;120-第二盘体;130-第三盘体;140-第四盘体;150-喷嘴;200-上料段;300-喷砂段;400-水洗段;500-烘干段;600-待加工件;610-主板;620-凸台结构;621-第一喷砂面;622-第二喷砂面;623-第三喷砂面;624-第四喷砂面;
a-第一方向;b-第二方向。
具体实施方式
下面详细描述本申请的实施例,所述实施例的示例在附图中示出,其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的,仅用于解释本申请,而不能理解为对本申请的限制。
在本申请的描述中,需要理解的是,术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本申请和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本申请的限制。
此外,术语“第一”、“第二”仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此,限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本申请的描述中,“多个”的含义是两个或两个以上,除非另有明确具体的限定。
在本申请中,除非另有明确的规定和限定,术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或成一体;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言,可以根据具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。
在本申请中,除非另有明确的规定和限定,第一特征在第二特征“上”或“下”可以是第一和第二特征直接接触,或第一和第二特征通过中间媒介间接接触。而且,第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”可是第一特征在第二特征正上方或斜上方,或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”可以是第一特征在第二特征正下方或斜下方,或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
本申请的实施例提供了一种喷盘结构100及喷砂设备,可用于玻璃面板的喷砂作业,具体针对带有凸台结构620的面板喷砂作业。本申请提供的喷盘结构100及喷砂设备,可沿一定倾斜角度向待加工件600的喷射面进行喷砂作业,改善因垂直喷射而无法喷射到凸台侧壁导致该处蒙砂效果不佳的问题。
如图1所示,本申请的实施例提供了一种喷盘结构100,喷盘结构100包括至少一个盘体和喷嘴150。其中,盘体设有一个作业面,作业面覆盖于待加工件600上,喷嘴150安装于作业面,喷嘴150设有多个并以阵列分布形成喷嘴150矩阵,喷嘴150矩阵包括沿第一方向a分布的至少两排喷嘴150。
相邻两排喷嘴150中,一排喷嘴150的喷射方向与作业面的垂线平行,另一排喷嘴150的喷射方向与作业面的垂线相交并形成夹角α。
盘体可由塑胶材料制成,例如PVC(Polyvinyl chloride,聚氯乙烯)、PP(polypropylene,聚丙烯)、PET(polyethylene glycol terephthalate,聚对苯二甲酸乙二醇酯)等,本实施例中,盘体可由PVC材料制成。
喷嘴150之间留有一定的间距,以避免喷射方向不同的两排喷嘴150喷射的浆料,在未到达待加工件600的喷砂面前发生干涉,使喷射浆料无法作用于喷砂面。
每个喷嘴150均通过安装座安装于盘体上,进而通过调节安装的倾斜角度,以控制喷嘴150的喷射方向。通过喷射角度不同的相邻两排喷嘴150,以针对需要进行侧面喷砂的待加工件600。以待加工件600最接近盘体并与作业面平行的一个面为顶面,在待加工件600的加工过程中,喷射方向与作业面垂线平行的喷嘴150向待加工件600的顶面喷砂浆料,喷射方向与作业面垂线相交的喷嘴150向待加工件600的侧面喷射浆料,改善因垂直喷射而无法喷射到待加工件600侧壁导致该处蒙砂效果不佳的问题。喷射方向与作业面垂线平行的喷嘴150在对待加工件600进行喷砂的同时,向待加工件600的顶面提供向下的压力,待加工件600受到来自垂直方向的压力,同时待加工件600下方的托辊提供支撑,使待加工件600保持稳定,避免待加工件600因受力不均而导致翻片掉落。
在一些实施例中,盘体的作业面可设置呈格栅结构,喷嘴150安装于隔板上,通过设置通孔的宽度,以限定相邻两排喷嘴150的间隔大小。
如图7所示,在一些实施例中,待加工件600包括主板610和凸台结构620,沿第一方向a上的相邻两排喷嘴150,其喷射方向的轴线相交于o点,o点与作业面的间距为z。
具体的,凸台为棱柱结构,其顶面与作业面平行,并有多个与顶面垂直的侧面。
在一个实施例中,当仅需对凸台结构620进行喷砂作业时,此时,可限定z大于或等于作业面与凸台结构620的间距。本实施例中,作业面与凸台结构620的间距指,作业面与顶面之间的最短直线距离;作业面与主板610的间距指,作业面与主板610之间的最短直线距离。
本实施例提供的喷盘结构100可针对待加工件600的凸台结构620进行加工,在作业过程中,由于z大于或等于作业面与凸台结构620的间距,则喷射方向与作业面垂直的喷嘴150向凸台顶面垂直喷射浆料,对顶面进行作业的同时,保障待加工件600的平稳;另外,喷射方向与作业面垂线相交的喷嘴150以一定的倾斜角度向凸台的侧面喷射浆料,对凸台侧面进行蒙砂处理,以保障相邻两个喷射方向不同的喷嘴150,其喷射的浆料不会在作业面与凸台顶面之间发生干涉。
在另一个实施例中,当需对凸台结构620与主板610同时进行喷砂作业时,此时,可限定z大于或等于作业面与主板610的间距。本实施例中,作业面与主板610的间距指,作业面与主板610之间的最短直线距离。
在作业过程中,由于z大于或等于作业面与主板610的间距,在对主板610进行加工时,喷射方向与作业面垂直的喷嘴150可向主板610顶面垂直喷射浆料,对主板610进行作业,同时避免喷射方向与作业面垂线相交的喷嘴150在未接触主板610时与喷射方向与作业面垂直的喷嘴150发生干涉,保障主板610的正常喷砂作业。另外,本实施例可同时满足对凸台结构620的喷砂作业,在凸台结构620输送至盘体下方时,喷射方向与作业面垂直的喷嘴150向凸台顶面垂直喷射浆料,喷射方向与作业面垂线相交的喷嘴150以一定的倾斜角度向凸台的侧面喷射浆料,对凸台侧面进行蒙砂处理。
如图12所示,在一些实施例中,凸台结构620具有第一喷砂面621、第二喷砂面622、第三喷砂面623和第四喷砂面624,第一喷砂面621和第二喷砂面622相对设置且均与第二方向b平行,第三喷砂面623和所述第四喷砂面624相对设置且均与第一方向a平行,第一方向a与第二方向b垂直。
喷盘结构100包括至少一个喷盘组,每个喷盘组包括依次排列的第一盘体110、第二盘体120、第三盘体130和第四盘体140,第一盘体110、第二盘体120、第三盘体130和第四盘体140分别与第一喷砂面621、第二喷砂面622、第三喷砂面623和第四喷砂面624一一对应。
具体的,凸台结构620为直四棱柱,其顶面和底面均与作业面平行,四个侧面均与作业面垂直,四个侧面即本实施例中的第一喷砂面621、第二喷砂面622、第三喷砂面623和第四喷砂面624。通过第一盘体110、第二盘体120、第三盘体130和第四盘体140分别与第一喷砂面621、第二喷砂面622、第三喷砂面623和第四喷砂面624的一一对应关系,在对凸台结构620进行加工时,第一盘体110、第二盘体120、第三盘体130和第四盘体140依次排布,待加工件600依次通过,四个盘体上喷射方向相较于作业面倾斜的喷嘴150分别向与其对应的喷砂面作业,保障凸台的多个侧面均能形成相同的蒙砂效果。
喷盘组的个数可以为一个、两个、三个、四个等,具体可根据待加工件600需要达到的蒙砂效果、输送速率、喷嘴150的喷射功率等参数进行选择。如,在保障同样的蒙砂效果时,若选择一个喷盘组,则需控制待加工件600的输送速率,使其在每个盘体的通行时间增长,而选择多个喷盘组,则可提升待加工件600的输送速率,使其经过多个喷盘组的重复作业,达到相同的蒙砂效果,但在工业生产中,其上下料速率提升,生产效率提高。本实施例中,喷盘组的个数可为两个。
在一个实施例中,待加工件600的输送方向与第一方向a平行。
具体的,在对与第一方向a平行的第三喷砂面623和第四喷砂面624进行作业时,与第三喷砂面623和第四喷砂面624对应设置的第三盘体130和第四盘体140中,喷射方向与作业面垂线相交的喷嘴150,其喷射方向朝向第二方向b倾斜,而不会与沿第一方向a分布的相邻喷嘴150发生干涉。因此,第三盘体130与第四盘体140上的喷嘴150间距无需特殊设置,均能满足对第三喷砂面623和第四喷砂面624的作业。
而在对与第二方向b平行的第一喷砂面621和第二喷砂面622进行作业时,与第一喷砂面621和第二喷砂面622对应设置的第一盘体110和第二盘体120中,喷射方向与作业面垂线相交的喷嘴150,其喷射方向朝向第一方向a倾斜,进而与沿第一方向a分布的相邻喷嘴150发生干涉。因此,第一盘体110与第二盘体120上的喷嘴150间距需要根据实际情况进行设置,避免其相邻两排喷嘴150喷射的浆料在与凸台结构620接触前就发生干涉。
在一些实施例中,喷嘴150矩阵沿第一方向a设置有2n-1排,n为大于1的正整数。即,喷嘴150矩阵沿第一方向a设为奇数排。
如图8所示,喷嘴150矩阵沿第一方向a的偶数排喷嘴150喷射方向与作业面垂直。
一并结合图9和图10所示,喷嘴150矩阵沿第一方向a的奇数排喷嘴150喷射方向与作业面呈一定的倾斜角度。以满足在喷射方向与作业面垂直的喷嘴150对凸台顶面作业时,至少有一排喷射方向倾斜的喷嘴150对凸台的侧面作业。
在一个实施例中,n=3,喷嘴150矩阵沿第一方向a依次标记为第一至第五排,第一盘体110和第二盘体120上的喷嘴150矩阵满足以下关系:
第一排的喷嘴150与第二排的喷嘴150紧邻设置,第三排的喷嘴150与第四排的喷嘴150紧邻设置,第二排的喷嘴150与第三排的喷嘴150的间距大于第一排的喷嘴150与第二排的喷嘴150的间距,第四排的喷嘴150与第五排的喷嘴150的间距大于第三排的喷嘴150与第四排的喷嘴150的间距。
具体的,第一盘体110与第二盘体120轴对称设置,以最靠近第一盘体110与第二盘体120对称轴的喷嘴150为第一排,依次将逐渐远离该对称轴的喷嘴150命名为第二至第五排。第一排喷嘴150沿朝向对应的喷砂面倾斜作业,第二排喷嘴150为垂直喷射,其喷射浆料不会与第一排喷嘴150的喷射浆料发生干涉,第三排喷嘴150继续沿朝向对应的喷砂面倾斜作业,但此时,第三排喷嘴150的喷射浆料会与第二排喷嘴150的喷射浆料发生干涉。因此,需要调整第三排喷嘴150与第二排喷嘴150的间距,使第三排喷嘴150喷射的浆料不会与第二喷嘴150喷射的浆料在作业面与凸台顶面之间发生干涉。同理,第四排喷嘴150不会与第三排喷嘴150发生干涉,第四排喷嘴150可与第三排喷嘴150紧邻设置,第五排喷嘴150会与第四排喷嘴150发生干涉,进而调节第五排喷嘴150与第四排喷嘴150的间距。通过上述设置,可精准设置相应的喷嘴150间距,在满足喷砂作业的情况下,精简设备空间。
可以理解的是,在喷盘结构100中,第一盘体110和第二盘体120上的喷嘴150矩阵满足:以最靠近第一盘体110与第二盘体120对称轴的喷嘴150为第一排,依次将逐渐远离该对称轴的喷嘴150命名为第二至第m排,m为大于2的自然数,一个偶数排喷嘴150与紧邻并小于其序号的喷嘴150的间距小于其紧邻并大于其序号的喷嘴150的间距。
如图5所示,在一些实施例中,喷嘴150矩阵沿第一方向a上偶数排的喷嘴150的喷射方向与作业面垂直,喷嘴150矩阵沿第一方向a上奇数排的喷嘴150的喷射方向与作业面垂线的夹角为α,喷嘴150矩阵沿第一方向a分布的相邻两排喷嘴150的间距为d。
其中,α的大小与d的取值相关,以便于调节喷射方向与作业面垂线相交的喷嘴150喷射角度,使其喷射浆料在未到达待加工件600的喷砂面前,避免与喷射方向和作业面垂线相交的喷嘴150发生干涉。
本实施例中,α的取值可为10°≤α≤85°,例如10°、15°、20°、30°、40°、50°、60°、70°、75°、80°、85°等,d的取值可为10mm≤d≤80mm,例如10mm、15mm、20mm、25mm、30mm、40mm、50mm、60mm、80mm等。
优选的,α的取值范围为10°≤α≤30°。相应的,d的取值范围为30mm≤d≤60mm。
在一个实施例中,在第一盘体110对第一喷砂面621的作业过程中,第一盘体110沿第一方向a上奇数排的喷嘴150的喷射方向朝向第一喷砂面621的方向倾斜,倾斜角度α满足顺时针10°≤α≤顺时针30°。
在第二盘体120对第二喷砂面622的作业过程中,第二盘体120沿第一方向a上奇数排的喷嘴150的喷射方向朝向第二喷砂面622的方向倾斜,倾斜角度α满足逆时针10°≤α≤逆时针30°。
在第三盘体130对第三喷砂面623的作业过程中,第三盘体130沿第一方向a上奇数排的喷嘴150的喷射方向朝向第三喷砂面623的方向倾斜,倾斜角度α满足顺时针10°≤α≤顺时针30°。
在第四盘体140对第四喷砂面624的作业过程中,第四盘体140沿第一方向a上奇数排的喷嘴150的喷射方向朝向第四喷砂面624的方向倾斜,倾斜角度α满足逆时针10°≤α≤逆时针30°。
本实施例中,相邻两排喷嘴150的间距d,满足30mm≤d≤60mm。
一并结合图2和图3所示,第一盘体110与第二盘体120对称设置。
一并结合图4和图6所示,第三盘体130与第四盘体140对称设置,且四个盘体中,喷嘴150的倾斜角度的值相同,以保证凸台四个喷砂面的作业效果相同。另外,在实验中,发明人发现,当喷嘴150倾斜角度α<10°时,喷嘴150对作业面的上砂量较少,无法达到预设的蒙砂标准;当喷嘴150倾斜角度α>30°时,砂水会喷到待加工件600以外的其它位置,导致砂水循环使用的寿命减小。当10°≤α≤30°度时,既可以对凸台侧壁进行上砂,又可以保证砂水的使用寿命较长。
如图11所示,本申请的实施例还提供了一种喷砂设备,包括上料段200、喷砂段300、下料段及上述任一实施例中的喷盘结构100,喷砂段300与上料段200相邻设置,下料段设置于喷砂段300远离上料段200的一侧,喷盘结构100安装于喷砂段300。
本实施例中,喷盘结构100设有两个喷盘组,以提升生产线的加工效率。上料段200为待加工件600的起始输送段,经过人工或机器作业,将待加工件600放于上料段200,然后输送至喷砂段300进行喷砂作业。在喷盘结构100的作用下,砂砾颗粒尖锐的棱角撞击待加工件600表面,在待加工件600表面形成一个个细小的凹坑,达到细腻的雾化效果。下料段用于将加工好的产品输送至指定工位,通过上述工序实现待加工件600的一体化作业,提升生产效率。
在一些实施例中,喷砂设备还包括水洗段400和烘干段500,水洗段400设置于喷砂段300远离上料段200的一侧,烘干段500设置于水洗段400远离喷砂段300的一侧。
水洗段400用于将待加工件600表面少量残砂冲洗干净,烘干段500用于烘干待加工件600表面水分,以使待加工件600达到存储条件。
本实施例中具有上述任一实施例中的喷盘结构100,因此,具有上述任一实施例中喷盘结构100的全部有益效果,在此就不一一赘述。
在本说明书的描述中,参考术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本申请的至少一个实施例或示例中。在本说明书中,对上述术语的示意性表述不必须针对的是相同的实施例或示例。而且,描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。此外,在不相互矛盾的情况下,本领域的技术人员可以将本说明书中描述的不同实施例或示例以及不同实施例或示例的特征进行结合和组合。
尽管上面已经示出和描述了本申请的实施例,可以理解的是,上述实施例是示例性的,不能理解为对本申请的限制,本领域的普通技术人员在本申请的范围内可以对上述实施例进行变化、修改、替换和变型。
Claims (10)
1.一种喷盘结构(100),其特征在于,包括:
至少一个盘体,所述盘体设有作业面,所述作业面覆盖于待加工件(600)上;
喷嘴(150),所述喷嘴(150)安装于所述作业面,所述喷嘴(150)设有多个并以阵列分布形成喷嘴(150)矩阵,所述喷嘴(150)矩阵包括沿第一方向(a)分布的至少两排所述喷嘴(150);
相邻两排所述喷嘴(150)中,一排所述喷嘴(150)的喷射方向与所述作业面的垂线平行,另一排所述喷嘴(150)的喷射方向与所述作业面的垂线相交并形成夹角α。
2.根据权利要求1所述的喷盘结构(100),其特征在于,所述待加工件(600)包括主板(610)和凸台结构(620),沿所述第一方向(a)上的相邻两排所述喷嘴(150),其喷射方向的轴线相交于o点,o点与所述作业面的间距为z;
所述z大于或等于所述作业面与所述凸台结构(620)的间距;
或,所述z大于或等于所述作业面与所述主板(610)的间距。
3.根据权利要求2所述的喷盘结构(100),其特征在于,所述凸台结构(620)具有第一喷砂面(621)、第二喷砂面(622)、第三喷砂面(623)和第四喷砂面(624),所述第一喷砂面(621)和所述第二喷砂面(622)相对设置且均与第二方向(b)平行,所述第三喷砂面(623)和所述第四喷砂面(624)相对设置且均与所述第一方向(a)平行;
所述喷盘结构(100)包括至少一个喷盘组,每个所述喷盘组包括依次排列的第一盘体(110)、第二盘体(120)、第三盘体(130)和第四盘体(140),所述第一盘体(110)、所述第二盘体(120)、所述第三盘体(130)和所述第四盘体(140)分别与所述第一喷砂面(621)、所述第二喷砂面(622)、所述第三喷砂面(623)和所述第四喷砂面(624)一一对应;
所述第一方向(a)与所述第二方向(b)垂直。
4.根据权利要求1至3中任一项所述的喷盘结构(100),其特征在于,所述待加工件(600)的输送方向与所述第一方向(a)平行。
5.根据权利要求3中所述的喷盘结构(100),其特征在于,所述喷嘴(150)矩阵沿所述第一方向(a)设置有2n-1排,n为大于1的正整数。
6.根据权利要求5所述的喷盘结构(100),其特征在于,n=3,所述喷嘴(150)矩阵沿第一方向(a)依次标记为第一至第五排,所述第一盘体(110)和所述第二盘体(120)上的所述喷嘴(150)矩阵满足以下关系:
第一排的所述喷嘴(150)与第二排的所述喷嘴(150)紧邻设置,第三排的所述喷嘴(150)与第四排的所述喷嘴(150)紧邻设置,第二排的所述喷嘴(150)与第三排的所述喷嘴(150)的间距大于第一排的所述喷嘴(150)与第二排的所述喷嘴(150)的间距,第四排的所述喷嘴(150)与第五排的所述喷嘴(150)的间距大于第三排的所述喷嘴(150)与第四排的所述喷嘴(150)的间距。
7.根据权利要求1至3中任一项所述的喷盘结构(100),其特征在于,所述α满足:10°≤α≤30°。
8.根据权利要求7所述的喷盘结构(100),其特征在于,所述喷嘴(150)矩阵沿第一方向(a)分布的相邻两排所述喷嘴(150)的间距为d,所述d满足:30mm≤d≤60mm。
9.一种喷砂设备,其特征在于,包括:
上料段(200);
喷砂段(300),所述喷砂段(300)与所述上料段(200)相邻设置;
下料段,所述下料段设置于所述喷砂段(300)远离所述上料段(200)的一侧;
权利要求1至8中任一项所述的喷盘结构(100),所述喷盘结构(100)安装于所述喷砂段(300)。
10.根据权利要求9所述的喷砂设备,其特征在于,所述喷砂设备还包括水洗段(400)和烘干段(500),所述水洗段(400)设置于所述喷砂段(300)远离所述上料段(200)的一侧,所述烘干段(500)设置于所述水洗段(400)远离所述喷砂段(300)的一侧。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202321670188.1U CN220561285U (zh) | 2023-06-28 | 2023-06-28 | 喷盘结构及喷砂设备 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202321670188.1U CN220561285U (zh) | 2023-06-28 | 2023-06-28 | 喷盘结构及喷砂设备 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN220561285U true CN220561285U (zh) | 2024-03-08 |
Family
ID=90087897
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202321670188.1U Active CN220561285U (zh) | 2023-06-28 | 2023-06-28 | 喷盘结构及喷砂设备 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN220561285U (zh) |
-
2023
- 2023-06-28 CN CN202321670188.1U patent/CN220561285U/zh active Active
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN101740664B (zh) | 喷砂方法和装置,薄膜太阳能电池板及其加工方法 | |
EP2277663B1 (en) | Nozzle, nozzle unit, and blasting machine | |
US9039487B2 (en) | Blasting method and apparatus having abrasive recovery system, processing method of thin-film solar cell panel, and thin-film solar cell panel processed by the method | |
CN105107654A (zh) | 一种面向大型工件的机器人连续式自动喷漆设备 | |
JP2019072834A (ja) | 流体キャビテーション研磨表面仕上げのための方法および装置 | |
KR102032208B1 (ko) | 배터리용 기판을 제조하기 위한 장치 | |
CN101642896B (zh) | 喷砂方法和装置,薄膜太阳能电池板及其加工方法 | |
CN103503112A (zh) | 半导体元件用基板的弯曲矫正装置及弯曲矫正方法 | |
CN220561285U (zh) | 喷盘结构及喷砂设备 | |
JP6414926B2 (ja) | 基板周縁部を加工するブラスト加工装置およびこの装置を用いたブラスト加工方法 | |
KR101944315B1 (ko) | 스크라이빙 방법 및 스크라이빙을 위한 블라스팅 장치 | |
CN102179154A (zh) | 一种气体洗涤塔 | |
CN207629264U (zh) | 干冰冷却清洁龙门铣床 | |
US3561163A (en) | Low pressure abrasive blasting system | |
CN109129210B (zh) | 浆料喷射体和湿喷砂处理方法 | |
JP2006326560A (ja) | 表面処理装置、表面処理方法及び表面処理が施されてなる基材 | |
KR20140003420U (ko) | 노즐 간격 조절이 가능한 나이프 | |
KR101597262B1 (ko) | 원료 처리장치 | |
CN1276861A (zh) | 多室分隔型流化床反应炉 | |
CN220216144U (zh) | 一种清洗槽及晶圆槽式清洗机 | |
CN111015524B (zh) | 一种半自动喷砂装置 | |
KR101224016B1 (ko) | 노즐 유닛과 이를 이용한 스케일 제거장치 | |
WO2022113839A1 (ja) | ノズル清掃装置、断熱材の製造装置、ノズル清掃方法、及び断熱材の製造方法 | |
KR102099609B1 (ko) | 습식 에칭 방법 | |
CN106944285A (zh) | 一种汽车装饰件双侧工位旋转式喷涂上光装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant | ||
TR01 | Transfer of patent right |
Effective date of registration: 20240412 Address after: 523808 No.2, Kaohsiung Road, Songshanhu high tech Industrial Development Zone, Dongguan City, Guangdong Province Patentee after: LENS TECHNOLOGY (DONGGUAN) Co.,Ltd. Country or region after: China Address before: 410311 Liuyang Biomedical Park, Changsha City, Hunan Province Patentee before: Lens Technology Co.,Ltd. Country or region before: China |