CN220553406U - 测量装置及晶圆测量系统 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及一种测量装置及晶圆测量系统，测量装置包括固定组件、活动组件及测量组件，固定组件用于连接至移载装置，活动组件设置于固定组件，并能够相对于固定组件运动；测量组件相对于活动组件固定，测量组件能够运动至测量基准面平行于陶瓷盘的方位。该测量装置能够适用于处于不同状态的陶瓷盘，即使陶瓷盘倾斜设置，也能够通过活动组件相对于固定组件运动，使得活动组件能够稳定地支撑于陶瓷盘上，从而使得测量组件也能够稳定地与陶瓷盘或晶圆接触，保证对晶圆的测量精度，同时降低对陶瓷盘的位置精度要求。

Description

测量装置及晶圆测量系统

技术领域

本实用新型涉及晶圆生产技术领域，特别是一种测量装置及晶圆测量系统。

背景技术

在晶圆的生产加工过程中，为了保证晶圆的加工精度，通常需要多次测量晶圆的厚度、斜度等参数。现有的自动测量晶圆参数的装置中，通常需要将陶瓷盘放置于水平的检测位上，然后将多个在同一水平高度上的探针下压，以测量晶圆的参数。

但是，这种测量方式对陶瓷盘的位置精度要求较高，陶瓷盘必须要处于水平状态才能够保证晶圆的测量精度。

实用新型内容

基于此，有必要针对上述问题，提供一种测量装置及晶圆测量系统，该测量装置能够在保证测量精度的同时，降低对陶瓷盘的位置精度要求。

本实用新型首先提供一种测量装置，用于测量固定于陶瓷盘的晶圆的参数，包括：固定组件，用于连接至移载装置；活动组件，设置于所述固定组件，并能够相对于所述固定组件运动；以及，测量组件，相对于所述活动组件固定，所述测量组件能够运动至测量基准面平行于所述陶瓷盘的方位。

上述测量装置中，测量装置能够沿第一方向运动靠近陶瓷盘，当活动组件支撑于陶瓷盘时，活动组件会相对于固定组件运动，使得测量组件的测量基准面与陶瓷盘平行。因此，该测量装置能够适用于处于不同状态的陶瓷盘，即使陶瓷盘倾斜设置，也能够通过活动组件相对于固定组件运动，使得活动组件能够稳定地支撑于陶瓷盘上，从而使得测量组件也能够稳定地与陶瓷盘或晶圆接触，保证对晶圆的测量精度，同时降低对陶瓷盘的位置精度要求。

在其中一个实施例中，所述固定组件包括固定板及自所述固定板沿第一方向延伸的限位件；所述活动组件包括设置于所述限位件的活动板及设置于所述活动板的支撑件，所述活动板能够相对于所述限位件运动至平行于所述陶瓷盘的位置，并通过所述支撑件支撑于所述陶瓷盘。

如此设置，当支撑件支撑于陶瓷盘时，活动板与陶瓷盘平行，限位件用于连接固定板及活动板，并能够限制活动板相对于固定板的活动范围，避免活动板与固定板脱离。

在其中一个实施例中，所述活动组件还包括设置于所述活动板的导向件，所述固定板设有与所述导向件对应的导向孔，所述导向孔用于对所述导向件滑动导向，并能够限制所述导向件脱出所述导向孔。

如此设置，导向件与导向孔配合能够限制活动板相对于固定板的活动范围，并且还能够避免活动板自固定组件脱落。

在其中一个实施例中，所述导向件包括滑动穿设于所述导向孔的导向部及设置于所述导向部远离所述活动板的一端的抵挡部，所述导向孔的直径大于所述导向部的外径，且小于所述抵挡部的外径。

如此设置，导向部与导向孔配合能够限制活动板相对于固定板的活动范围；抵挡部支撑于固定板背离活动板的一侧面能够避免活动板脱落。

在其中一个实施例中，所述限位件的数量为多个，多个所述限位件沿所述固定板的周向间隔布置，所述限位件的内侧设有限位槽，所述活动板限位于多个所述限位槽内，并能够在多个所述限位槽内相对于所述限位件运动；及/或，所述支撑件的数量为三个，三个所述支撑件的支撑端形成等腰三角形的三个顶点，所述等腰三角形的外接圆的直径大于所述晶圆的直径，三个所述支撑件的测量基准面平行于所述活动板。

如此设置，限位槽远离固定板的一侧内壁能够支撑活动板，并且，限位槽还能够限制活动板相对于固定板及限位件沿第一方向的活动范围。三个支撑件能够稳定地支撑于陶瓷盘上，并且活动板与陶瓷盘平行。等腰三角形的外接圆的直径大于晶圆的直径，以保证三个支撑件始终支撑于陶瓷盘上，而不会与晶圆接触，避免磨损晶圆或影响测量精度。

在其中一个实施例中，所述测量装置还包括设置于所述固定组件及所述活动组件之间的弹性件，所述活动组件相对于所述固定组件运动时，所述弹性件能够被压缩并对所述活动组件施加背离所述固定组件的弹性力。

如此设置，支撑件与陶瓷盘分离时，活动板能够在弹性件的弹性力的作用下向远离固定板的一侧运动复位。

在其中一个实施例中，所述固定组件设有用于穿设所述测量组件的避让孔，所述避让孔的直径大于所述测量组件的外径。

如此设置，避让孔能够避免活动组件相对于固定组件运动时测量组件与固定板相互干涉，从而避免影响传感器的测量精度。

在其中一个实施例中，所述固定组件及所述活动组件均设有开槽。

如此设置，开槽能够减轻测量装置的整体重量，便于装配或运输该测量装置。

在其中一个实施例中，所述测量组件包括至少两个传感器，至少两个所述传感器沿第二方向间隔布置，并用于测量所述晶圆的斜度。

如此设置，至少两个传感器能够分别与同一个晶圆的不同位置接触并将测量数据传输至控制组件，控制组件能够根据任意两个传感器的测量数据之差计算出该晶圆的斜度。

本实用新型还提供一种晶圆测量系统，包括上述的测量装置。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例或传统技术中的技术方案，下面将对实施例或传统技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员而言，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本实用新型一种实施方式的晶圆测量系统的立体结构示意图；

图2为本实用新型提供的图1中测量装置的立体结构示意图；

图3为本实用新型提供的图2的剖视图一；

图4为本实用新型提供的图2的剖视图二；

图5为本实用新型提供的陶瓷盘和晶圆的结构示意图。

附图标记：1、视觉装置；11、摄像机；12、架体；2、移载装置；21、移动组件；22、旋转组件；3、测量装置；31、固定组件；311、固定板；3111、导向孔；3112、避让孔；312、限位件；3121、限位槽；32、活动组件；321、活动板；322、支撑件；3221、螺纹段；3222、支撑段；323、导向件；3231、导向部；3232、抵挡部；324、螺母；33、测量组件；331、传感器；34、弹性件；35、连接件；301、开槽；4、陶瓷盘；5、晶圆。

具体实施方式

为使本申请的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本申请的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本申请。但是本申请能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本申请内涵的情况下做类似改进，因此本申请不受下面公开的具体实施例的限制。

需要说明的是，当组件被称为“固定于”或“设置于”另一个组件，它可以直接在另一个组件上或者也可以存在居中的组件。当一个组件被认为是“连接”另一个组件，它可以是直接连接到另一个组件或者可能同时存在居中组件。本申请的说明书所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“上”、“下”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的，并不表示是唯一的实施方式。

此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本申请的描述中，“多个”的含义是至少两个，例如两个，三个等，除非另有明确具体的限定。

在本申请中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征“上”、“下”可以是第一特征直接和第二特征接触，或第一特征和第二特征间接地通过中间媒介接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”可是第一特征在第二特征正上方或斜上方，或仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”可以是第一特征在第二特征正下方或斜下方，或仅表示第一特征水平高度小于第二特征。

除非另有定义，本申请的说明书所使用的所有的技术和科学术语与属于本申请的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。在本申请的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施方式的目的，不是旨在于限制本申请。本申请的说明书所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。

在晶圆的生产加工过程中，为了保证晶圆的加工精度，通常需要多次测量晶圆的厚度、斜度等参数。现有的自动测量晶圆参数的装置中，通常需要将陶瓷盘放置于水平的检测位上，然后将多个在同一水平高度上的探针下压，以测量晶圆的参数。例如，在测量晶圆的厚度时，基准探针用于测量陶瓷盘作为基准值，测量探针用于测量晶圆作为检测值，晶圆的实际厚度即为测量探针的数值与基准探针的数值之差。但是，这种测量方式对陶瓷盘的位置精度要求较高，陶瓷盘必须要处于水平状态才能够保证晶圆的测量精度，这导致用户在操作时还需要检测陶瓷盘是否处于水平状态，测量过程较为繁琐。

为了解决上述问题，如图1至图5所示，本实用新型首先提供一种测量装置，该测量装置能够在保证测量精度的同时，降低对陶瓷盘的位置精度要求。

参考图1至图2所示的坐标系，定义第一方向为±Z轴方向，第二方向为±X轴方向，第三方向为±Y轴方向。如图5所示，晶圆5均匀粘贴于陶瓷盘4上，且晶圆5的分布半径为确定值。

如图1、图2及图5所示，具体地，测量装置3用于测量固定于陶瓷盘4的晶圆5的参数，测量装置3包括固定组件31、活动组件32及测量组件33，其中：固定组件31用于连接至移载装置2，活动组件32设置于固定组件31，并能够相对于固定组件31运动；测量组件33相对于活动组件32固定，测量组件33能够运动至测量基准面平行于陶瓷盘4的方位。

其中，测量组件33的测量端所在平面为测量基准面，测量组件33的测量端与陶瓷盘4或晶圆5接触时，测量基准面与陶瓷盘4重合。

如前所述，现有的自动测量晶圆参数的装置对陶瓷盘的位置精度要求较高，陶瓷盘必须要处于水平状态才能够保证晶圆的测量精度。而本实用新型实施例提供的测量装置3中，移载装置2等外部设备带动测量装置3沿-Z轴方向运动时，测量装置3靠近陶瓷盘4，当活动组件32支撑于陶瓷盘4时，活动组件32会相对于固定组件31运动，使得测量组件33的测量基准面与陶瓷盘4平行。因此，该测量装置3能够适用于处于不同状态的陶瓷盘4，即使陶瓷盘4倾斜设置，也能够通过活动组件32相对于固定组件31运动，使得活动组件32能够稳定地支撑于陶瓷盘4上，从而使得测量组件33也能够稳定地与陶瓷盘4或晶圆5接触，保证对晶圆5的测量精度，同时降低对陶瓷盘4的位置精度要求。

如图2所示，固定组件31包括设置于旋转组件22的固定板311及自固定板311沿±Z轴方向延伸的限位件312；活动组件32包括设置于限位件312的活动板321及设置于活动板321的支撑件322，活动板321能够相对于限位件312运动至平行于陶瓷盘4的位置，并通过支撑件322支撑于陶瓷盘4。当支撑件322支撑于陶瓷盘4时，活动板321与陶瓷盘4平行，限位件312用于连接固定板311及活动板321，并能够限制活动板321相对于固定板311的活动范围，避免活动板321与固定板311脱离。

其中，固定板311可以通过连接件35安装至移载装置2上，并通过法兰、螺钉等紧固件使三者固定连接；或者，也可以直接将固定板311固定安装至移载装置2上。限位件312与固定板311之间能够通过螺钉等紧固件固定连接；或者，也可以将限位件312与固定板311设置为一体式结构，只要能够保证两者之间连接的稳定性及可靠性即可，本实用新型实施例在此不做具体限制。

如图2所示，在图示的实施方式中，由于三个点能够形成一个平面，并且三角形的稳定性好，因此，支撑件322的数量为三个，三个支撑件322的支撑端形成的测量基准面平行于活动板321，从而三个支撑件322能够稳定地支撑于陶瓷盘4上，并且活动板321与陶瓷盘4平行。三个支撑件322中，其中一个支撑件322位于活动板321靠近连接件35的一侧的中间位置，其余两个支撑件322位于活动板321的另一侧的两端，三个支撑件322的支撑端形成等腰三角形的三个顶点，等腰三角形的外接圆的直径大于晶圆5的直径，当对测量组件33进行校零或通过测量组件33测量晶圆5的参数时，三个支撑件322始终支撑于陶瓷盘4上，而不会与晶圆5接触，避免磨损晶圆5或影响测量精度。

当然，在其他实施方式中，支撑件322的数量也可以是一个、两个或更多，支撑件322的支撑端也可以是与活动板321平行的平面，只要能够保证活动组件32支撑于陶瓷盘4上时的稳定性及可靠性即可，本实用新型实施例在此不做具体限制。

如图3所示，支撑件322露出活动板321背离固定板311的一侧的长度能够根据需要进行调节，并且，三个支撑件322的支撑端所在平面平行于活动板321。在图示的实施方式中，支撑件322包括螺纹段3221及支撑段3222，螺纹段3221穿过活动板321后，通过两个螺母324分别在活动板321的两侧面与螺纹段3221螺纹连接，以实现支撑件322稳定地固定于活动板321上。当然，在其他实施方式中，也可以在活动板321上开设螺纹孔，螺纹段3221与螺纹孔螺纹连接，只要能够在调节支撑件322露出活动板321背离固定板311的一侧的长度的同时，保证支撑件322与活动板321之间连接的稳定性与可靠性即可，本实用新型实施例在此不做具体限制。

如图2及图4所示，在图示的实施方式中，限位件312的数量为多个，多个限位件312沿固定板311的周向间隔布置，限位件312的内侧设有限位槽3121，活动板321限位于多个限位槽3121内，并能够在多个限位槽3121内相对于限位件312运动。当活动板321在重力或外力的作用下与限位槽3121远离固定板311的一侧内壁贴合时，限位槽3121远离固定板311的一侧内壁能够支撑活动板321，且活动板321与固定板311平行。当支撑件322支撑于陶瓷盘4时，活动板321与限位槽3121远离固定板311的一侧内壁分离，并相对于限位件312运动。限位槽3121能够限制活动板321相对于固定板311及限位件312沿±Z轴的活动范围。

在另一种实施方式中，限位件312也可以设置为沿±Z轴方向延伸的限位柱，活动板321设有活动口，活动板321通过活动口套设于限位柱，活动口的内径大于活动柱的外径，以使得活动板321能够相对于活动柱运动。

如图2至图3所示，活动组件32还包括设置于活动板321的导向件323，固定板311设有与导向件323对应的导向孔3111，导向孔3111用于对导向件323滑动导向。同时，导向孔3111还能够限制导向件323完全脱出导向孔3111，从而能够避免活动板321自固定板311脱落。导向件323穿设于导向孔3111，导向孔3111与导向件323同心设置。导向件323能够在导向孔3111内活动，同时，导向件323与导向孔3111配合还能够限制活动板321相对于固定板311在XOY平面内的活动范围，避免活动板321从侧面脱出固定组件31。

如图3所示，导向件323包括穿设于导向孔3111的导向部3231及设置于导向部3231穿过导向孔3111的一端的抵挡部3232，导向孔3111的直径大于导向部3231的外径，且小于抵挡部3232的外径。导向部3231与导向孔3111配合能够限制活动板321相对于固定板311在XOY平面内的活动范围。当活动板321在重力或外力的作用下与限位槽3121远离固定板311的一侧内壁贴合时，抵挡部3232支撑于固定板311背离活动板321的一侧面，从而进一步避免活动板321脱落。

其中，导向部3231与活动板321之间、抵挡部3232与导向部3231之间均能够通过螺钉等紧固件固定连接；或者，也可以将活动板321、导向部3231及抵挡部3232设置为一体式结构，只要能够保证三者之间连接的稳定性及可靠性即可，本实用新型实施例在此不做具体限制。

如图3至图4所示，测量装置3还包括设置于固定组件31的固定板311以及活动组件32的活动板321之间的弹性件34，活动组件32相对于固定组件31运动时，弹性件34能够被压缩并对活动板321施加背离固定板311的弹性力。当移载装置2带动测量装置3沿+Z轴方向运动时，支撑件322与陶瓷盘4分离，活动板321能够在弹性件34的弹性力的作用下向远离固定板311的一侧运动复位，即使活动板321与固定板311处于水平间隔布置的状态，活动板321也能够在弹性件34的作用下复位。同时，弹性件34还能够提高活动板321在未检测状态下的稳定性，即活动板321与限位槽3121远离固定板311的一侧内壁贴合时的稳定性。

如图3至图4所示，固定组件31的固定板311设有用于穿设测量组件33的传感器331的避让孔3112，避让孔3112与传感器331同心设置，且避让孔3112的直径大于测量组件33的外径。传感器331能够在避让孔3112内活动，避让孔3112能够避免活动组件32相对于固定组件31运动时测量组件33与固定板311相互干涉，从而避免影响传感器331的测量精度。

如图2至图3所示，固定组件31的固定板311、限位件312以及活动组件32的活动板321等元件上均设有开槽301。开槽301能够减轻测量装置3的整体重量，便于装配或运输该测量装置3。

如图2至图3所示，测量组件33包括至少两个传感器331，至少两个传感器331沿±X轴方向间隔布置，并用于测量晶圆5的斜度。当支撑件322支撑于陶瓷盘4时，至少两个传感器331能够分别与同一个晶圆5的不同位置接触并将测量数据传输至控制组件，控制组件能够根据任意两个传感器331的测量数据之差计算出该晶圆5的斜度。相比于现有技术中需要在同一个晶圆5上的不同位置测量至少两次才能够计算出晶圆5的斜度，本实用新型实施例的晶圆测量系统只需要对同一个晶圆5测量一次就能够得到多个数据，从而能够进一步提高测量效率。

如图1所示，本实用新型还提供一种晶圆测量系统，包括视觉装置1、移载装置2及上述的测量装置3，其中：视觉装置1包括用于拍摄形成图像信息的摄像机11及用于调整摄像机11的视野的架体12，摄像机11拍摄的图像信息能够用于确定陶瓷盘4的圆心O；用户能够通过架体12来调节摄像机11与陶瓷盘4的相对位置，使得摄像机11的视野能够覆盖整个陶瓷盘4。移载装置2包括移动组件21及设置于移动组件21的旋转组件22，移动组件21用于带动旋转组件22移动至第一预设位置，在第一预设位置，旋转组件22的回转轴线a经过圆心O；测量装置3设置于旋转组件22，并能够随旋转组件22转动至与每片晶圆5对应的位置，并测量对应位置的晶圆5的参数。该晶圆测量系统能够通过视觉装置1及控制装置实现对测量装置3的自动定位，不需要人工对位或调整。

如图2及图5所示，根据拍摄形成的所述图像，还能够确定与陶瓷盘4上没有晶圆5的位置对应的参考线L0，以及与每片晶圆5对应的测量线LX，并计算参考线L0与测量线LX之间以及相邻的测量线LX之间的圆心角角度。本实用新型实施例以一个陶瓷盘4上均匀布置有五片晶圆5为例，测量晶圆5的参数之前，通过移动组件21带动旋转组件22及测量装置3移动至旋转组件22的回转轴线a经过圆心O的位置，并通过旋转组件22带动测量装置3旋转至与陶瓷盘4对应的位置，即与图5所示的参考线L0对齐，然后对测量装置3校零。测量晶圆5的参数时，通过旋转组件22带动测量装置3旋转至与参考线L0相邻的第一片待测量的晶圆5对应的位置，即与图5所示的第一测量线L1对齐，然后控制测量装置3测量该晶圆5的厚度、斜度等参数；测量完成后，通过旋转组件22带动测量装置3旋转至与第二片待测量的晶圆5对应的位置，即与第二测量线L2对齐，并控制测量装置3测量第二片晶圆5的参数；然后通过依次测量装置3旋转至与第三测量线L3、第四测量线L4及第五测量线L5对齐，并控制测量装置3依次测量第三片、第四片及第五片晶圆5的参数，直至五片晶圆5都测量完成。

其中，移动组件21及架体12均可以设置为三轴机械手、连杆滑块结构、球坐标式机械手或关节式机械手等其他类型的移位结构，只要能够分别带动测量装置3及摄像机11在三维空间内移动即可，在此不做具体限制。

以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

以上所述实施例仅表达了本申请的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对申请专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本申请构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本申请的保护范围。因此，本申请的专利保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (10)

1.一种测量装置，用于测量固定于陶瓷盘(4)的晶圆(5)的参数，其特征在于，包括：

固定组件(31)，用于连接至移载装置(2)；

活动组件(32)，设置于所述固定组件(31)，并能够相对于所述固定组件(31)运动；以及，

测量组件(33)，相对于所述活动组件(32)固定，所述测量组件(33)能够运动至测量基准面平行于所述陶瓷盘(4)的方位。

2.根据权利要求1所述的测量装置，其特征在于，所述固定组件(31)包括固定板(311)及自所述固定板(311)沿第一方向延伸的限位件(312)；

所述活动组件(32)包括设置于所述限位件(312)的活动板(321)及设置于所述活动板(321)的支撑件(322)，所述活动板(321)能够相对于所述限位件(312)运动至平行于所述陶瓷盘(4)的位置，并通过所述支撑件(322)支撑于所述陶瓷盘(4)。

3.根据权利要求2所述的测量装置，其特征在于，所述活动组件(32)还包括设置于所述活动板(321)的导向件(323)，所述固定板(311)设有与所述导向件(323)对应的导向孔(3111)，所述导向孔(3111)用于对所述导向件(323)滑动导向，并能够限制所述导向件(323)脱出所述导向孔(3111)。

4.根据权利要求3所述的测量装置，其特征在于，所述导向件(323)包括滑动穿设于所述导向孔(3111)的导向部(3231)及设置于所述导向部(3231)远离所述活动板(321)的一端的抵挡部(3232)，所述导向孔(3111)的直径大于所述导向部(3231)的外径，且小于所述抵挡部(3232)的外径。

5.根据权利要求2所述的测量装置，其特征在于，所述限位件(312)的数量为多个，多个所述限位件(312)沿所述固定板(311)的周向间隔布置，所述限位件(312)的内侧设有限位槽(3121)，所述活动板(321)限位于多个所述限位槽(3121)内，并能够在多个所述限位槽(3121)内相对于所述限位件(312)运动；及/或，

所述支撑件(322)的数量为三个，三个所述支撑件(322)的支撑端形成等腰三角形的三个顶点，所述等腰三角形的外接圆的直径大于所述晶圆(5)的直径，三个所述支撑件(322)的测量基准面平行于所述活动板(321)。

6.根据权利要求1所述的测量装置，其特征在于，所述测量装置还包括设置于所述固定组件(31)及所述活动组件(32)之间的弹性件(34)，所述活动组件(32)相对于所述固定组件(31)运动时，所述弹性件(34)能够被压缩并对所述活动组件(32)施加背离所述固定组件(31)的弹性力。

7.根据权利要求1所述的测量装置，其特征在于，所述固定组件(31)设有用于穿设所述测量组件(33)的避让孔(3112)，所述避让孔(3112)的直径大于所述测量组件(33)的外径。

8.根据权利要求1所述的测量装置，其特征在于，所述固定组件(31)及所述活动组件(32)均设有开槽(301)。

9.根据权利要求1所述的测量装置，其特征在于，所述测量组件(33)包括至少两个传感器(331)，至少两个所述传感器(331)沿第二方向间隔布置，并用于测量所述晶圆(5)的斜度。

10.一种晶圆测量系统，其特征在于，包括如权利要求1-9任一项所述的测量装置。