CN220472185U - 一种用于二极管加工的吸水装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种用于二极管加工的吸水装置，包括吹水组件，设置在吹水组件顶部左右两侧上的驱动辊和从动辊，且驱动辊和从动辊之间设置有镂空传送带；所述镂空传送带的外表面上开设有若干个等距离排布且放置有二极管工件的矩形放置槽。本实用新型所提供的技术方案中，将待吸水处理的二极管工件放入到镂空传送带中，在传动带运转作用下，二极管与吸水辊接触，同时吸水辊上的吸水棉垫将二极管表面上的水分进行吸收；同时，在二极管被传送带运输的过程中，吹水组件向上产生的风力将透过圆形通风孔吹向二极管，从而迫使二极管表面的水分向上流动，此时配合吸水辊就能更好地将二极管表面携带的水分进行吸收。

Description

一种用于二极管加工的吸水装置

技术领域

本实用新型涉及二极管加工技术领域，具体涉及一种用于二极管加工的吸水装置。

背景技术

二极管在电镀引脚前，要将整个二极管表面的油脂以及引脚上的氧化层进行清洗。在清洗之后二极管上残留的清洗液水分将通过人工擦拭进行去除。

如参考公告号为：CN216481878U的一种用于二极管生产加工的吸水装置，该专利文件中的技术方案，利用“第三转辊”上包裹吸水棉，并在可以运转传送的输送台上设置供二极管放置的放置槽，使得二极管被运输到第三转辊位置处后，其表面的吸水棉将二极管表面的水分进行吸收。

然而，本发明人认为，由于清洗之后的残留清洗液极大可能会遍布二极管表面较大区域，而以上所述的专利文件中，二极管放置在输送台中的放置槽中，在二极管被运输到吸水辊位置时，受制于二极管的其他表面被放置槽所阻挡，吸水辊只能接触到二极管第一小部分区域，对于二极管上的其他位置则不能很好地进行吸水处理。而正因以上所述的弊端和缺陷，本领域技术人员现提出一种用于二极管加工的吸水装置。

实用新型内容

本实用新型的目的是提供一种用于二极管加工的吸水装置，以解决背景技术中所提出的不足之处。

而为了解决背景技术所述的弊端和缺陷，本实用新型提供如下技术方案：包括吹水组件，设置在吹水组件顶部左右两侧上的驱动辊和从动辊，且驱动辊和从动辊之间设置有镂空传送带；

所述镂空传送带的外表面上开设有若干个等距离排布且放置有二极管工件的矩形放置槽，矩形放置槽的底部开设有贯穿镂空传送带的圆形通风孔；

所述吹水组件中包括数组风机外壳，设置在风机外壳内腔中的伺服风机，以及固定在伺服风机输出轴上向上输送风力的扇叶。

作为本实用新型一种优选的方案，所述吹水组件中还包括有底座支架，数根固定在底座支架内侧侧壁上的横梁，且风机外壳的两侧侧壁通过螺钉固定在横梁相互靠近之间。

作为本实用新型一种优选的方案，所述底座支架的上表面中段位置前后固定有立板，立板相互靠近的一面转动连接有吸水辊，且吸水辊的外圈表面上设置有吸水棉垫。

作为本实用新型一种优选的方案，所述吸水辊的外圈表面与镂空传送带的顶部表面之间具有1.5cm-2.0cm的间隙。

作为本实用新型一种优选的方案，所述矩形放置槽的内腔中均放置有待吸水处理的二极管工件。

作为本实用新型一种优选的方案，所述底座支架的上表面左右两侧均固定有支撑架，支撑架前后靠近的一面分别与驱动辊和从动辊的前后端转动连接。

作为本实用新型一种优选的方案，所述底座支架的上表面左侧位置安装有一台驱动电机，驱动电机的输出轴上与驱动辊的转轴位置上均固定有皮带轮，且皮带轮之间通过传动皮带驱动。

作为本实用新型一种优选的方案，所述底座支架的底部表面四角位置均安装有供整体装置移动的万向轮。

在上述技术方案中，本实用新型提供的技术效果和优点：

本实用新型所提供的技术方案中，将待吸水处理的二极管工件放入到镂空传送带中，在传动带运转作用下，二极管与吸水辊接触，同时吸水辊上的吸水棉垫将二极管表面上的水分进行吸收；同时，在二极管被传送带运输的过程中，吹水组件向上产生的风力将透过圆形通风孔吹向二极管，从而迫使二极管表面的水分向上流动，此时配合吸水辊就能更好地将二极管表面携带的水分进行吸收。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型中记载的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为二极管加工吸水装置的整体结构示意图；

图2为二极管加工吸水装置中底部设置的吹水组件示意图；

图3为二极管加工吸水装置中的镂空传送带示意图；

图4为附图3中的A区域放大示意图。

附图标记说明：

1、吹水组件；11、底座支架；12、横梁；13、扇叶；14、风机外壳；15、伺服风机；2、立板；3、驱动辊；4、驱动电机；5、吸水辊；6、镂空传送带；7、从动辊；8、矩形放置槽；9、圆形通风孔。

具体实施方式

为了对本实用新型的技术方案和实现方式做出更清楚地解释和说明，以下介绍实现本实用新型技术方案的几个优选的具体实施例。

下文的描述本质上仅是示例性的而并非意图限制本公开、应用及用途。应当理解，在所有这些附图中，相同或相似的附图标记指示相同的或相似的零件及特征。各个附图仅示意性地表示了本公开的实施方式的构思和原理，并不一定示出了本公开各个实施方式的具体尺寸及其比例。在特定的附图中的特定部分可能采用夸张的方式来图示本公开的实施方式的相关细节或结构，本文所引用的各种出版物、专利和公开的专利说明书，其公开内容通过引用整体并入本文，下面将结合本实用新型实施例，对本实用新型的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅是本实用新型一部分实施例。

实施例

参照说明书附图1至附图4所示；

一种用于二极管加工的吸水装置：

本实施例中包括：

吹水组件1，设置在吹水组件1顶部左右两侧上的驱动辊3和从动辊7，且驱动辊3和从动辊7之间设置有镂空传送带6；

镂空传送带6的外表面上开设有若干个等距离排布且放置有二极管工件的矩形放置槽8，矩形放置槽8的底部开设有贯穿镂空传送带6的圆形通风孔9；矩形放置槽8的内腔中均放置有待吸水处理的二极管工件。

吹水组件1中包括数组风机外壳14，设置在风机外壳14内腔中的伺服风机15，以及固定在伺服风机15输出轴上向上输送风力的扇叶13；吹水组件1中还包括有底座支架11，数根固定在底座支架11内侧侧壁上的横梁12，且风机外壳14的两侧侧壁通过螺钉固定在横梁12相互靠近之间。

具体的，在二极管被镂空传送带6运输的过程中，吹水组件1中的伺服风机15与扇叶13配合，产生向上的风力，而且风力将将透过圆形通风孔9吹向矩形放置槽8中与二极管接触，通过风力的影响从而迫使二极管表面的水分向上流动，此时配合吸水辊就能更好地将二极管表面携带的水分进行吸收。

底座支架11的上表面中段位置前后固定有立板2，立板2相互靠近的一面转动连接有吸水辊5，且吸水辊5的外圈表面上设置有吸水棉垫。吸水辊5的外圈表面与镂空传送带6的顶部表面之间具有1.5cm-2.0cm的间隙。

具体的，将待吸水处理的二极管工件放入到镂空传送带6中的矩形放置槽8，在镂空传送带6的运转作用下，二极管与吸水辊5接触，同时吸水辊上的吸水棉垫将二极管表面上的水分进行吸收。

底座支架11的上表面左右两侧均固定有支撑架，支撑架前后靠近的一面分别与驱动辊3和从动辊7的前后端转动连接。

底座支架11的上表面左侧位置安装有一台驱动电机4，驱动电机4的输出轴上与驱动辊3的转轴位置上均固定有皮带轮，且皮带轮之间通过传动皮带驱动。

底座支架11的底部表面四角位置均安装有供整体装置移动的万向轮。

在本实用新型的描述中，除非另有明确的规定和限定，术语“第一”、“第二”仅用于描述的目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性；除非另有规定或说明，术语“多个”是指两个或两个以上；术语“连接”、“固定”等均应做广义理解，例如，“连接”可以是固定连接，也可以是可拆卸连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

本说明书的描述中，需要理解的是，本申请实施例所描述的“上”、“下”、“左”、“右”等方位词是以附图所示的角度来进行描述的，不应理解为对本申请实施例的限定。此外，在上下文中，还需要理解的是，当提到一个元件连接在另一个元件“上”或者“下”时，其不仅能够直接连接在另一个元件“上”或者“下”，也可以通过中间元件间接连接在另一个元件“上”或者“下”。

以上只通过说明的方式描述了本实用新型的某些示范性实施例，毋庸置疑，对于本领域的普通技术人员，在不偏离本实用新型的精神和范围的情况下，可以用各种不同的方式对所描述的实施例进行修正。因此，上述附图和描述在本质上是说明性的，不应理解为对本实用新型权利要求保护范围的限制。

Claims (8)

1.一种用于二极管加工的吸水装置，其特征在于：包括吹水组件(1)，设置在吹水组件(1)顶部左右两侧上的驱动辊(3)和从动辊(7)，且驱动辊(3)和从动辊(7)之间设置有镂空传送带(6)；

所述镂空传送带(6)的外表面上开设有若干个等距离排布且放置有二极管工件的矩形放置槽(8)，矩形放置槽(8)的底部开设有贯穿镂空传送带(6)的圆形通风孔(9)；

所述吹水组件(1)中包括数组风机外壳(14)，设置在风机外壳(14)内腔中的伺服风机(15)，以及固定在伺服风机(15)输出轴上向上输送风力的扇叶(13)。

2.根据权利要求1所述的一种用于二极管加工的吸水装置，其特征在于：所述吹水组件(1)中还包括有底座支架(11)，数根固定在底座支架(11)内侧侧壁上的横梁(12)，且风机外壳(14)的两侧侧壁通过螺钉固定在横梁(12)相互靠近之间。

3.根据权利要求2所述的一种用于二极管加工的吸水装置，其特征在于：所述底座支架(11)的上表面中段位置前后固定有立板(2)，立板(2)相互靠近的一面转动连接有吸水辊(5)，且吸水辊(5)的外圈表面上设置有吸水棉垫。

4.根据权利要求3所述的一种用于二极管加工的吸水装置，其特征在于：所述吸水辊(5)的外圈表面与镂空传送带(6)的顶部表面之间具有1.5cm-2.0cm的间隙。

5.根据权利要求1所述的一种用于二极管加工的吸水装置，其特征在于：所述矩形放置槽(8)的内腔中均放置有待吸水处理的二极管工件。

6.根据权利要求2所述的一种用于二极管加工的吸水装置，其特征在于：所述底座支架(11)的上表面左右两侧均固定有支撑架，支撑架前后靠近的一面分别与驱动辊(3)和从动辊(7)的前后端转动连接。

7.根据权利要求2所述的一种用于二极管加工的吸水装置，其特征在于：所述底座支架(11)的上表面左侧位置安装有一台驱动电机(4)，驱动电机(4)的输出轴上与驱动辊(3)的转轴位置上均固定有皮带轮，且皮带轮之间通过传动皮带驱动。

8.根据权利要求2所述的一种用于二极管加工的吸水装置，其特征在于：所述底座支架(11)的底部表面四角位置均安装有供整体装置移动的万向轮。