CN220352233U - 一种产品附着均匀的化学气相沉积设备 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供了一种产品附着均匀的化学气相沉积设备，包括设备本体，所述设备本体包括内腔，所述内腔中设有反应仓，所述反应仓包括依次连通的进气通道、沉积仓和排气通道；所述沉积仓的一侧与进气通道相连通，所述进气通道内水平设置有用于供给气体原料的进气管，所述进气管的外表面环绕设有加热管；所述沉积仓内设有加热台，基片放置在所述加热台上，所述加热台朝向进气通道呈倾斜设置；所述沉积仓远离进气通道的一侧与排气通道相连通，所述排气通道与沉积仓的交界处设有加热网；所述沉积仓的上方设有均流装置。本申请解决了现有技术中存在的现有的化学气相沉积设备内部气体密度很难保持均匀，导致基板上形成的膜厚不均匀的问题。

Description

一种产品附着均匀的化学气相沉积设备

技术领域

本实用新型涉及化学气相沉积技术领域，尤其涉及一种产品附着均匀的化学气相沉积设备。

背景技术

化学气相沉积是指将含有构成薄膜元素的一种或者多种化合物或单质气体供给基片，借助气相作用或在基片上的化学反应生成所需薄膜的过程。

化学气相沉积设备在化学气相沉积制程中起着重要作用，现有化学气相沉积设备中混合气体由进气装置自设在反应器一端的气体输入口输入，自另一端被抽气装置抽出，整个反应器中形成单一方向的气体通路，反应器内的气体密度很难保持均匀，导致基板上形成的膜厚不均匀。因此，目前亟需一种能够在基板上形成均匀薄膜的化学气相沉积设备。

实用新型内容

针对现有技术中所存在的不足，本实用新型提供了一种产品附着均匀的化学气相沉积设备，其解决了现有技术中存在的现有的化学气相沉积设备内部气体密度很难保持均匀，导致基板上形成的膜厚不均匀的问题。

本实用新型的上述技术目的是通过以下技术方案得以实现的：

一种产品附着均匀的化学气相沉积设备，其特征在于：所述设备本体包括内腔，所述内腔中设有反应仓，所述反应仓包括依次连通的进气通道、沉积仓和排气通道；所述沉积仓的一侧与进气通道相连通，所述进气通道内水平设置有用于供给气体原料的进气管，所述进气管的外表面环绕设有加热管；所述沉积仓内设有加热台，基片放置在所述加热台上，所述加热台朝向进气通道呈倾斜设置；所述沉积仓远离进气通道的一侧与排气通道相连通，所述排气通道与沉积仓的交界处设有加热网；所述沉积仓的上方设有均流装置。

本实用新型进一步设置为：所述加热台包括加热底板和加热盖板，所述加热底板的表面开设有蛇形加热槽，所述蛇形加热槽内安装有蛇形加热列管；所述加热盖板设置于所述加热底板上方，所述加热盖板覆盖蛇形加热槽，所述基片放置在加热盖板上。

本实用新型进一步设置为：所述加热底板设有凸台，所述蛇形加热槽位于凸台内，所述加热盖板罩设在凸台上，所述凸台与加热盖板之间存在缝隙空间，所述加热盖板的内侧面设有吸热平板，所述吸热平板位于缝隙空间处。

本实用新型进一步设置为：在所述蛇形加热槽的底部固定设有弧形反射板，所述蛇形加热列管位于吸热平板和弧形反射板之间。

本实用新型进一步设置为：在所述进气通道的外表面设有高频感应线圈，所述高频感应线圈位于进气管的管口所处截面到进气通道的开口所处截面之间。

本实用新型进一步设置为：所述沉积仓内设有基础台，所述基础台的上表面通过转轴铰接设有支撑台，所述加热台设置在支撑台的上端，所述基础台上还设有用于调节加热台倾斜角度的调节机构。

本实用新型进一步设置为：所述调节机构包括滑动槽，所述滑动槽的长度方向与转轴的长度方向相互垂直，在所述滑动槽内设有滑动块；所述基础台上螺纹连接有丝杆，所述丝杆自基础台的侧边穿设入滑动槽内，且所述丝杆的长度方向与丝杆的长度方向相同，所述丝杆的一端连接有轴承，所述轴承与滑动块固定连接；所述滑动块的上端设有顶杆，所述顶杆远离滑动块的一端与加热台的下表面相抵。

本实用新型进一步设置为：所述顶杆远离滑动块的一端设有滚珠。

本实用新型进一步设置为：所述均流装置包括均流盘，所述均流盘为螺旋形气管，所述螺旋形气管的下表面均匀开设有出气孔，所述螺旋形气管用于供给同一种气体原料。

本实用新型进一步设置为：所述螺旋形气管的上端设有金属波纹管。

本实用新型具有以下有益效果：

通过设置进气通道、沉积仓和排气通道，从而实现化学气相沉积过程。进气管的外表面环绕设置加热管能够对气体原料进行预热，使得气体原料在到达加热台处时不会对基片处的整体温度产生影响。通过将加热台朝向进气通道呈倾斜设置，使得基片表面都能够被气体原料直接接触，避免由于气体原料在前期被消耗而导致的基片末端接触气体原料密度小的问题。通过设置加热网，避免由于失去加热台的加热使得气体原料的温度变化，而导致气流变化使得气体原料流速不均匀的问题。通过设置均流装置，能够便于对沉积仓处的气流方向和气体密度做灵活的调整，最终达到沉积薄膜均匀的效果。

附图说明

图1为本申请实施例的结构示意图；

图2为图1中A处的放大图；

图3为本申请实施例中均流盘的结构示意图；

上述附图中：1、内腔；2、反应仓；3、进气通道；4、沉积仓；5、排气通道；6、进气管；7、加热管；8、高频感应线圈；9、基础台；10、支撑台；11、加热台；12、加热底板；13、加热盖板；14、蛇形加热槽；15、基片；16、蛇形加热列管；17、缝隙空间；18、吸热平板；19、弧形反射板；20、加热网；21、均流盘；22、出气孔；23、金属波纹管；24、滑动槽；25、滑动块；26、丝杆；27、轴承；28、顶杆；29、滚珠；30、设备本体。

具体实施方式

下面结合附图及实施例对本实用新型中的技术方案进一步说明。

一种产品附着均匀的化学气相沉积设备，包括设备本体30，在设备本体30内部设有内腔1。在内腔1中设有反应仓2，反应仓2包括依次连通的进气通道3、沉积仓4和排气通道5。在设备本体30上设有仓门，仓门开启后露出沉积仓4的内部空间。

沉积仓4的一侧与进气通道3互相连通，在进气通道3内水平设有进气管6，进气管6的长度方向和进气通道3的长度方向相同，进气管6用于供给气体原料。在进气管6的外表面还环绕设置有加热管7，加热管7用于对即将进入沉积仓4内的气体原料进行预热，使得气体原料在到达沉积仓4内时不会对基片15处的整体温度产生影响。在进气通道3的外表面设有高频感应线圈8，高频感应线圈8位于进气管6的管口所处截面到进气通道3的开口所处截面之间。高频感应线圈8通过产生等离子体从而加速反应物在表面的扩散作用，提高成膜速度。同时等离子体能够产生溅射清洗作用，增强薄膜附着力，增强碰撞散射作用，使得形成的薄膜厚度均匀。

在沉积仓4的底部安装有基础台9，基础台9的上表面通过转轴铰接有支撑台10，支撑台10远离基础台9的一端固定焊接有加热台11，加热台11朝向进气通道3呈倾斜设置。加热台11包括加热底板12和加热盖板13，加热底板12的表面开设有蛇形加热槽14，蛇形加热槽14内安装有蛇形加热列管16。加热盖板13设置于所述加热底板12上方，加热盖板13覆盖蛇形加热槽14，基片15放置在加热盖板13上。上述结构具体设置为，加热底板12设有凸台，蛇形加热槽14位于凸台内，加热盖板13罩设在凸台上，凸台对加热盖板13起到限位作用。在凸台与加热盖板13之间存在缝隙空间17，加热盖板13的内侧面焊接有吸热平板18，吸热平板18位于缝隙空间17处。

在蛇形加热槽14的底部焊接有弧形反射板19，蛇形加热列管16位于吸热平板18和弧形反射板19之间。

沉积仓4远离进气通道3的一侧与排气通道5相连通，排气通道5与沉积仓4的交界处设有加热网20；通过设置加热网20，避免由于失去加热台11的加热使得气体原料的温度变化，而导致气流变化使得气体原料流速不均匀的问题。

在沉积仓4的上方设有均流装置。均流装置包括均流盘21，均流盘21为螺旋形气管，螺旋形气管的下表面均匀开设有出气孔22，螺旋形气管用于供给同一种气体原料，在螺旋形气管的上端设有金属波纹管23。

在基础台9上还设有用于调节加热台11倾斜角度的调节机构，调节机构包括滑动槽24，滑动槽24的长度方向与转轴的长度方向相互垂直，在滑动槽24内设有滑动块25；基础台9上螺纹连接有丝杆26，丝杆26自基础台9的侧边穿设入滑动槽24内，且丝杆26的长度方向与丝杆26的长度方向相同，丝杆26的一端连接有轴承27，轴承27与滑动块25固定连接；滑动块25的上端设有顶杆28，顶杆28远离滑动块25的一端与加热台11的下表面相抵，具体设置为，顶杆28远离滑动块25的一端设有滚珠29。滚珠29与加热台11的下表面相抵。通过将加热台11朝向进气通道3呈倾斜设置，使得基片15表面都能够被气体原料直接接触，避免由于气体原料在前期被消耗而导致的基片15末端接触气体原料密度小的问题。

最后说明的是，以上实施例仅用以说明本实用新型的技术方案而非限制，尽管参照较佳实施例对本实用新型进行了详细说明，本领域的普通技术人员应当理解，可以对本实用新型的技术方案进行修改或者等同替换，而不脱离本实用新型技术方案的宗旨和范围，其均应涵盖在本实用新型的权利要求范围当中。

Claims (10)

1.一种产品附着均匀的化学气相沉积设备，包括设备本体(30)，其特征在于：所述设备本体(30)包括内腔(1)，所述内腔(1)中设有反应仓(2)，所述反应仓(2)包括依次连通的进气通道(3)、沉积仓(4)和排气通道(5)；

所述沉积仓(4)的一侧与进气通道(3)相连通，所述进气通道(3)内水平设置有用于供给气体原料的进气管(6)，所述进气管(6)的外表面环绕设有加热管(7)；

所述沉积仓(4)内设有加热台(11)，基片(15)放置在所述加热台(11)上，所述加热台(11)朝向进气通道(3)呈倾斜设置；

所述沉积仓(4)远离进气通道(3)的一侧与排气通道(5)相连通，所述排气通道(5)与沉积仓(4)的交界处设有加热网(20)；

所述沉积仓(4)的上方设有均流装置。

2.如权利要求1所述的一种产品附着均匀的化学气相沉积设备，其特征在于：所述加热台(11)包括加热底板(12)和加热盖板(13)，所述加热底板(12)的表面开设有蛇形加热槽(14)，所述蛇形加热槽(14)内安装有蛇形加热列管(16)；所述加热盖板(13)设置于所述加热底板(12)上方，所述加热盖板(13)覆盖蛇形加热槽(14)，所述基片(15)放置在加热盖板(13)上。

3.如权利要求2所述的一种产品附着均匀的化学气相沉积设备，其特征在于：所述加热底板(12)设有凸台，所述蛇形加热槽(14)位于凸台内，所述加热盖板(13)罩设在凸台上，所述凸台与加热盖板(13)之间存在缝隙空间(17)，所述加热盖板(13)的内侧面设有吸热平板(18)，所述吸热平板(18)位于缝隙空间(17)处。

4.如权利要求3所述的一种产品附着均匀的化学气相沉积设备，其特征在于：在所述蛇形加热槽(14)的底部固定设有弧形反射板(19)，所述蛇形加热列管(16)位于吸热平板(18)和弧形反射板(19)之间。

5.如权利要求1所述的一种产品附着均匀的化学气相沉积设备，其特征在于：在所述进气通道(3)的外表面设有高频感应线圈(8)，所述高频感应线圈(8)位于进气管(6)的管口所处截面到进气通道(3)的开口所处截面之间。

6.如权利要求1所述的一种产品附着均匀的化学气相沉积设备，其特征在于：所述沉积仓(4)内设有基础台(9)，所述基础台(9)的上表面通过转轴铰接设有支撑台(10)，所述加热台(11)设置在支撑台(10)的上端，所述基础台(9)上还设有用于调节加热台(11)倾斜角度的调节机构。

7.如权利要求6所述的一种产品附着均匀的化学气相沉积设备，其特征在于：所述调节机构包括滑动槽(24)，所述滑动槽(24)的长度方向与转轴的长度方向相互垂直，在所述滑动槽(24)内设有滑动块(25)；所述基础台(9)上螺纹连接有丝杆(26)，所述丝杆(26)自基础台(9)的侧边穿设入滑动槽(24)内，且所述丝杆(26)的长度方向与丝杆(26)的长度方向相同，所述丝杆(26)的一端连接有轴承(27)，所述轴承(27)与滑动块(25)固定连接；所述滑动块(25)的上端设有顶杆(28)，所述顶杆(28)远离滑动块(25)的一端与加热台(11)的下表面相抵。

8.如权利要求7所述的一种产品附着均匀的化学气相沉积设备，其特征在于：所述顶杆(28)远离滑动块(25)的一端设有滚珠(29)。

9.如权利要求1所述的一种产品附着均匀的化学气相沉积设备，其特征在于：所述均流装置包括均流盘(21)，所述均流盘(21)为螺旋形气管，所述螺旋形气管的下表面均匀开设有出气孔(22)，所述螺旋形气管用于供给同一种气体原料。

10.如权利要求9所述的一种产品附着均匀的化学气相沉积设备，其特征在于：所述螺旋形气管的上端设有金属波纹管(23)。