CN220335849U - 一种水库工程用的拦污栅 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及水利设施技术领域，特别涉及一种水库工程用的拦污栅，其能够被安装在水坝的溢流缺口处，包括：支撑架体、拦污栅本体、清洁结构以及升降机构；清洁结构设于拦污栅本体的一侧，并具有若干个与杆体接触并能够纵向移动的清洁端；清洁结构的清洁端在上升时将拦污栅本体一侧的杂质送至水面，从而方便工作人员对拦污栅一侧的杂物进行清理。

Description

一种水库工程用的拦污栅

技术领域

本实用新型涉及水利设施技术领域，特别涉及一种水库工程用的拦污栅。

背景技术

拦污栅，是设置在进水口位置，用于阻拦水流携带水草灯杂物的格栅结构，其主要起到“过滤”的作用。

目前，拦污栅的在使用一段时间后，拦污栅的一侧会堆积一定量的杂物，因此，需要人工对其进行定期的清理，方能保证拦污栅的使用，然而，在对拦污栅进行清理时，却无法对水位较深的位置进行清理，仅能够对位于中上层的位置进行清理，因此，存在清理不便且无法清理水深位置的杂物。因此，需要对此作出改进。

实用新型内容

针对现有技术存在的不足，本实用新型的目的在于提供一种水库工程用的拦污栅，旨在解决上升背景技术中出现的问题。

本实用新型的技术方案是这样实现的：一种水库工程用的拦污栅，其能够被安装在水坝的溢流缺口处，其特征在于：包括：

支撑架体，由安装于溢流缺口处的底架体以及固定于底架体上方的顶架体组成；

拦污栅本体，安装于底架体上，由纵横交错的杆体构成；

清洁结构，设于拦污栅本体至少一侧，并具有若干个与杆体接触并能够纵向移动的清洁端；

其中，所述清洁结构的清洁端在上升时将拦污栅本体一侧的杂质送至水面。

通过采用上述技术方案：

在本实用新型中设置了清洁结构，清洁结构能够自拦污栅本体的底部活动至拦污栅本体的顶部，在活动的过程中，将拦污栅本体一侧堆积的杂物，自水底送入至水面位置，并在上层位置处被集中清理，通过这种方式能够清理深处的杂物，提高清理杂物的效果。

优选为：所述清洁结构包括：

清洁体，能够被升降机构控制升降；

限位区，形成于清洁体上，且与杆体适配；

滑动部，与清洁体一体成型，且能够滑动于形成于底架体上的滑槽中；

其中，所述升降机构安装于顶架体上。

优选为：所述清洁体包括：

本体，具有所述滑动部；

灌水腔，形成于本体上；

排水结构，形成于灌水腔内；

限位部，设于本体底部，且在底架体上设有供限位部卡入的限位槽；

其中，所述灌水腔能够被供水系统供水，所述排水结构能够被供气系统供气并将灌水腔内的水排出。

优选为：所述限位部包括：

限位体，形成与本体底部，且具有与灌水腔连通的喷射腔；

单向阀，安装于本体上，且连通灌水腔和喷射腔；

其中，所述排水结构包括：

排水腔，形成于本体内，且位于灌水腔一侧；

排水板，滑动的设于灌水腔内；

驱动杆，一端与排水板连接，另一端穿入排水腔中；

驱动板，滑动的设于排水腔中，并与驱动杆连通。

优选为：所述供水系统包括：

供水泵；

进水管，与所述供水泵的输入端连通；

出水管，分别于供水泵的输出端以及灌水腔连通；

所述供气系统包括：

气泵；

进气管，与气泵的输入端连通；

出气管，分别与气泵的输出端以及排水腔连通；

其中，所述排水腔靠近灌水腔的一侧设于泄压单向阀。

优选为：所述升降机构包括：

定滑轮，通过支架安装于顶架体上；

绕绳辊，安装于顶架体上，且能够被电机驱动收卷或放卷；

拉绳，能够被缠绕于绕绳辊上，且另一端穿过定滑轮，并与滑动部连接。

通过采用上述技术方案：

本实用新型为了便于清洁体沉入水底或从水底上升，设置了灌水腔和排水腔，向灌水腔内充水时，能够提高清洁体的质量，便于其沉入水底，在向排水腔充气时，能够将灌水腔内的水排出，并降低清洁体的质量，便于上升；

并且，在排水过程中，排水所产生的冲击力，也能够辅助清洁体上升，便于清洁体上升。

此外，本实用新型的其他优点将在本实用新型的实施例部分得以展现，从而使得本实用新型的有益效果更加的显著。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本实用新型具体实施例1的结构示意图；

图2为本实用新型具体实施例1中清洁体的结构示意图；

图3为本实用新型具体实施例2中清洁体的结构示意图；

图4为本实用新型具体实施例2中单向阀的结构示意图。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

实施例1

如图1-2所示，本实用新型公开了一种水库工程用的拦污栅，其能够被安装在水坝的溢流缺口处，在本实施例中：包括：

支撑架体，由安装于溢流缺口处的底架体10以及固定于底架体10上方的顶架体11组成；

拦污栅本体12，安装于底架体10上，由纵横交错的杆体120构成；

清洁结构，设于拦污栅本体12至少一侧，并具有若干个与杆体120接触并能够纵向移动的清洁端；

其中，所述清洁结构2的清洁端在上升时将拦污栅本体12一侧的杂质送至水面。

在本实施例中：所述清洁结构2包括：

清洁体20，能够被升降机构控制升降；

限位区21，形成于清洁体20上，且与杆体120适配；

滑动部22，与清洁体20一体成型，且能够滑动于形成于底架体10上的滑槽10a中；

其中，所述升降机构安装于顶架体11上。

在本实施例中：所述升降机构包括：

定滑轮30，通过支架31安装于顶架体11上；

绕绳辊32，安装于顶架体11上，且能够被电机33驱动收卷或放卷；

拉绳34，能够被缠绕于绕绳辊32上，且另一端穿过定滑轮30，并与滑动部22连接。

在本实施例中，构成拦污栅本体12的杆体120中，分为横向杆体和纵向杆体，横向杆体设于纵向杆体远离清洁体20的一侧并与各个纵向杆体固定，且横向杆体的两端分别固定与底架体10上，使得清洁体20升降活动时不会与横向杆体触碰。

参考图1-2，本实施例的原理是：

本实施例的清洁体在拦污栅本体使用时位于水底，在此状态下，水流能够通过拦污栅本体并被其过滤；

在需要对拦污栅本体一侧的杂物进行清理时，启动电机，使得绕绳辊收卷，并通过拉绳将清洁体自水底拉至水面位置，随后工作人员可以对浮出水面的杂物进行清理，这样可以对拦污栅本体深层位置清洁，提高对杂物的清理效果；

不仅如此，在清理体活动时，由于设置限位区的缘故，在清理体活动时，限位区也能够对杆体之间形成的“过滤区”进行清理，避免拦污栅长时间使用而造成的堵塞；

在清理工作完成后，饶绳辊被电机驱动放卷，清理体因自身重量沉入水底。

实施例2，同实施例1的不同之处在于

如图3-4所示，在本实施例中：所述清洁体20包括：

本体40，具有所述滑动部22；

灌水腔41，形成于本体40上；

排水结构，形成于灌水腔41内；

限位部，设于本体40底部，且在底架体10上设有供限位部卡入的限位槽(图未示出，设置在底架体的底面上，并供限位部卡入，用于限制本体偏移)；

其中，所述灌水腔41能够被供水系统供水，所述排水结构能够被供气系统供气并将灌水腔41内的水排出。

在本实施例中：所述限位部包括：

限位体42，形成与本体40底部，且具有与灌水腔41连通的喷射腔420；

单向阀43，安装于本体40上，且连通灌水腔41和喷射腔420，所述喷射腔420具有若干个喷射端420a；

其中，所述排水结构包括：

排水腔50，形成于本体40内，且位于灌水腔41一侧；

排水板51，滑动的设于灌水腔41内；

驱动杆52，一端与排水板51连接，另一端穿入排水腔50中；

驱动板53，滑动的设于排水腔50中，并与驱动杆52连通。

在本实施例中：所述供水系统包括：

供水泵60；

进水管61，与所述供水泵60的输入端连通；

出水管62，分别于供水泵60的输出端以及灌水腔41连通(连接处设有单向阀)；

所述供气系统包括：

气泵70；

进气管71，与气泵70的输入端连通；

出气管72，分别与气泵70的输出端以及排水腔50连通；

其中，所述排水腔50靠近灌水腔41的一侧设于泄压单向阀8。

在本实施例中，所述单向阀43或泄压单向阀8可以包括：

阀体90；

入口91；

出口92；

阀腔93，形成于阀体90上且连通入口91和出口92；

阀芯94，通过弹簧95控制，并能够打开或封闭阀腔93；

当入口91进水和/或进气时，阀芯94受力，并压缩弹簧95从而打开阀腔，当阀芯94失去受力后，阀芯94因弹簧95复位而重新封闭阀腔。

在本实施例中，所述出气管72上形成有排气阀96，排气阀96具有2个入口和一个出口，出口通过气管与排水腔50连通，其中1个入口通过气管与气泵70连通。

在本实施例中，所述单向阀43或泄压单向阀8的入口分别与灌水腔和排水腔连通，两者的出口与喷射腔420连通。

在本实施例中，喷射腔的喷射端为形成于限位体底部的喷孔。

参考图3-4，本实施例的原理是：

本实施例为了便于清洁体能够沉入水底或被升降机构控制上升，在清洁体内设置了灌水腔；

在下沉时，利用水泵向灌水腔内灌水，以增加清洁体的重量，从而便于清洁体沉入水中，灌水腔进水后，排水板通过驱动杆控制驱动板将排水腔内的气体自排气阀排出，以达到顺利灌水的目的。

当清洁体上升时，调节排气阀使得气泵能够向排水腔充气，在排水腔充气时，驱动板通过驱动杆带动排水板挤压灌水腔内水排入喷射腔中，并进一步自各个喷射端喷出，喷出的水能够辅助清洁体上述，并且灌水腔内水排出，可以减轻清洁体的重量，也能够便于控制清洁体上升，当灌水腔内的水排出后，驱动板移动并使得泄压单向阀与驱动板右侧的排水腔连通，此时，若清洁体还在水中，则供气系统继续供气，气体能够通过泄压单向阀进入喷射腔并进一步从喷射端喷出(喷射端喷出的气流或水流能够提供清洁体向上活动的推力)，从而辅助清洁体上升。

以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。

Claims (6)

1.一种水库工程用的拦污栅，其能够被安装在水坝的溢流缺口处，其特征在于：包括：

支撑架体，由安装于溢流缺口处的底架体(10)以及固定于底架体(10)上方的顶架体(11)组成；

拦污栅本体(12)，安装于底架体(10)上，由纵横交错的杆体(120)构成；

清洁结构(2)，设于拦污栅本体(12)至少一侧，并具有若干个与杆体(120)接触并能够纵向移动的清洁端；

其中，所述清洁结构(2)的清洁端在上升时将拦污栅本体(12)一侧的杂质送至水面。

2.根据权利要求1所述的一种水库工程用的拦污栅，其特征在于：所述清洁结构(2)包括：

清洁体(20)，能够被升降机构控制升降；

限位区(21)，形成于清洁体(20)上，且与杆体(120)适配；

滑动部(22)，与清洁体(20)一体成型，且能够滑动于形成于底架体(10)上的滑槽(10a)中；

其中，所述升降机构安装于顶架体(11)上。

3.根据权利要求2所述的一种水库工程用的拦污栅，其特征在于：所述清洁体(20)包括：

本体(40)，具有所述滑动部(22)；

灌水腔(41)，形成于本体(40)上；

排水结构，形成于灌水腔(41)内；

限位部，设于本体(40)底部，且在底架体(10)上设有供限位部卡入的限位槽；

其中，所述灌水腔(41)能够被供水系统供水，所述排水结构能够被供气系统供气并将灌水腔(41)内的水排出。

4.根据权利要求3所述的一种水库工程用的拦污栅，其特征在于：所述限位部包括：

限位体(42)，形成与本体(40)底部，且具有与灌水腔(41)连通的喷射腔(420)；

单向阀(43)，安装于本体(40)上，且连通灌水腔(41)和喷射腔(420)；

其中，所述排水结构包括：

排水腔(50)，形成于本体(40)内，且位于灌水腔(41)一侧；

排水板(51)，滑动的设于灌水腔(41)内；

驱动杆(52)，一端与排水板(51)连接，另一端穿入排水腔(50)中；

驱动板(53)，滑动的设于排水腔(50)中，并与驱动杆(52)连通。

5.根据权利要求4所述的一种水库工程用的拦污栅，其特征在于：所述供水系统包括：

供水泵(60)；

进水管(61)，与所述供水泵(60)的输入端连通；

出水管(62)，分别于供水泵(60)的输出端以及灌水腔(41)连通；

所述供气系统包括：

气泵(70)；

进气管(71)，与气泵(70)的输入端连通；

出气管(72)，分别与气泵(70)的输出端以及排水腔(50)连通；

其中，所述排水腔(50)靠近灌水腔(41)的一侧设于泄压单向阀(8)。

6.根据权利要求2-5任意一项所述的一种水库工程用的拦污栅，其特征在于：所述升降机构包括：

定滑轮(30)，通过支架(31)安装于顶架体(11)上；

绕绳辊(32)，安装于顶架体(11)上，且能够被电机(33)驱动收卷或放卷；

拉绳(34)，能够被缠绕于绕绳辊(32)上，且另一端穿过定滑轮(30)，并与滑动部(22)连接。