CN220317971U - 一种离子膜烧碱整流装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及烧碱技术领域，具体为一种离子膜烧碱整流装置，包括电解槽，电解槽内设有离子膜，离子膜和电解槽的内腔之间设有阳极室和阴极室。实现对电解槽中整流放电产生的氢气以及氯气进行分流针对式快速抽走储存，提高了对于整流放电生成氢气以及氯气的收集效率，通过设置具有对称式气缸的升降板，并在电解槽的顶端面设置内侧凹槽和外侧凹槽，同时在槽盖板的下端面设置匹配的外侧密封条和内侧密封条，实现槽盖板的下端面和电解槽的顶端面进行电控式双层挤压密封稳定盖接，避免了由于槽盖板盖在电解槽上的密封度较低出现外部粉尘颗粒进入电解槽内，进而保证了制成高浓度氢氧化钠烧碱溶液的纯度。
Description
技术领域
本实用新型涉及烧碱技术领域，具体为一种离子膜烧碱整流装置。
背景技术
氯碱工业生产过程中，一般是采用离子膜法进行制烧碱。
离子膜法制碱共产生三种产品：离子膜烧碱液(高浓度氢氧化钠烧碱溶液)、氯气、氢气。
其主要流程原理是，将饱和食盐水注入到阳极室，纯水注入到阴极室，通电后，纯水在阴极室表面整流放电生成氢气，钠离子则穿过电解槽内的离子膜有阳极室进入到阴极室，此时阴极室导入的阴极液中含有氢氧化钠，氯离子会在阳极室表面整流放电生成氯气，剩下留在电解槽中的溶液即为高浓度氢氧化钠烧碱溶液(为现有技术)。
目前，现有的离子膜烧碱整流装置，对于整流放电生成氢气以及氯气大多为自然向上流动，对于整流放电生成氢气以及氯气的收集效率较低，另外，现有的离子膜烧碱整流装置，其槽盖板盖在电解槽上的密封度较低，在进行离子膜法制烧碱过程中出现外部粉尘颗粒进入电解槽内，进而影响制成高浓度氢氧化钠烧碱溶液的纯度。
上述问题是普遍存在的，急需改进。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种离子膜烧碱整流装置，以解决现有技术中对于整流放电生成氢气以及氯气的收集效率较低、由于槽盖板盖在电解槽上的密封度较低出现外部粉尘颗粒进入电解槽内而影响制成高浓度氢氧化钠烧碱溶液的纯度的问题。
为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种离子膜烧碱整流装置，包括电解槽，所述电解槽内设有离子膜，所述离子膜和电解槽的内腔之间设有阳极室和阴极室。
优选的，所述电解槽的上方设有槽盖板，所述槽盖板的上方设有升降板，所述槽盖板和升降板之间设有连接杆，所述电解槽的两端设有第一气缸和第二气缸，所述第一气缸和第二气缸的伸缩杆均与升降板固定设置，所述升降板上设有氯气储箱和氢气储箱。
优选的，所述氯气储箱上连接有氯气抽管，所述氢气储箱上连接有氢气抽管，所述氯气抽管和氢气抽管的下端为扩散式喇叭结构，所述氯气抽管上设置有第一抽气泵，所述氢气抽管上设置有第二抽气泵。
优选的，所述连接杆的俯视截面为矩形状结构，所述连接杆为对称设置四个。
优选的，所述电解槽的顶端面开设有内侧凹槽和外侧凹槽，所述槽盖板的下端面设置有外侧密封条和内侧密封条。
优选的，所述内侧凹槽、外侧凹槽、外侧密封条、内侧密封条的俯视截面为矩形环形框体状结构。
优选的，所述外侧密封条的竖向高度不小于外侧凹槽的内槽竖向深度，所述内侧密封条的竖向高度不小于内侧凹槽的内槽竖向深度。
与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：
1.本实用新型通过在升降板上左右对称设置氢气以及氯气的抽吸储存结构，实现对电解槽中整流放电产生的氢气以及氯气进行分流针对式快速抽走储存，提高了对于整流放电生成氢气以及氯气的收集效率。
2.本实用新型通过设置具有对称式气缸的升降板，并在电解槽的顶端面设置内侧凹槽和外侧凹槽，同时在槽盖板的下端面设置匹配的外侧密封条和内侧密封条，实现槽盖板的下端面和电解槽的顶端面进行电控式双层挤压密封稳定盖接，避免了由于槽盖板盖在电解槽上的密封度较低出现外部粉尘颗粒进入电解槽内，进而保证了制成高浓度氢氧化钠烧碱溶液的纯度。
附图说明
图1为本实用新型的整体结构第一视角立体图；
图2为本实用新型的整体结构正视图；
图3为本实用新型的图2中A-A剖面图；
图4为本实用新型的整体结构第二视角立体图。
图中：1电解槽、11离子膜、12阳极室、13阴极室、2内侧凹槽、21外侧凹槽、3升降板、31第一气缸、32第二气缸、4氯气储箱、41氯气抽管、42第一抽气泵、5氢气储箱、51氢气抽管、52第二抽气泵、6连接杆、7槽盖板、71外侧密封条、72内侧密封条。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
实施例1
请参阅图1至图4，图示中的一种离子膜烧碱整流装置，包括电解槽1，电解槽1内设有离子膜11，离子膜11和电解槽1的内腔之间设有阳极室12和阴极室13，本新型权利要求书中相关结构均为离子膜烧碱整流装置的组件结构，为现有技术，有些现有结构没有绘制标注，无须赘述。
电解槽1的上方设有槽盖板7，槽盖板7的上方设有升降板3，槽盖板7和升降板3之间设有连接杆6，电解槽1的两端设有第一气缸31和第二气缸32，第一气缸31和第二气缸32的伸缩杆均与升降板3固定设置，升降板3上设有氯气储箱4和氢气储箱5，两个气缸实现槽盖板7稳定竖向电控盖在电解槽1上。
氯气储箱4上连接有氯气抽管41，氢气储箱5上连接有氢气抽管51，氯气抽管41和氢气抽管51的下端为扩散式喇叭结构，氯气抽管41上设置有第一抽气泵42，氢气抽管51上设置有第二抽气泵52，扩散式喇叭结构大大提高了对于氯气以及氢气的抽吸效率。
连接杆6的俯视截面为矩形状结构，连接杆6为对称设置四个，大大提高了升降板3和槽盖板7之间的结构连接稳固性。
电解槽1的顶端面开设有内侧凹槽2和外侧凹槽21，槽盖板7的下端面设置有外侧密封条71和内侧密封条72，外侧密封条71和内侧密封条72均采用NBR丁腈橡胶材质，具有高弹密封性。
内侧凹槽2、外侧凹槽21、外侧密封条71、内侧密封条72的俯视截面为矩形环形框体状结构，实现槽盖板7的下端面和电解槽1的顶端面进行电控式双层挤压密封稳定盖接，避免了由于槽盖板7盖在电解槽1上的密封度较低出现外部粉尘颗粒进入电解槽内，进而保证了制成高浓度氢氧化钠烧碱溶液的纯度。
外侧密封条71的竖向高度不小于外侧凹槽21的内槽竖向深度，内侧密封条72的竖向高度不小于内侧凹槽2的内槽竖向深度，保证外侧密封条71全面弹性挤压密封到外侧凹槽21中，同时，保证内侧密封条72全面弹性挤压密封到内侧凹槽2中。
本实施方案中使用时：启动第一气缸31、第二气缸32，通过升降板3带动槽盖板7向下移动并盖在电解槽1上，此时氯气抽管41插入到阳极室12，同时氢气抽管51插入到阴极室13，启动第一抽气泵42和第二抽气泵52，然后在电解槽1中采用离子膜法进行制烧碱操作时(现有技术)，阳极室12产生的氯气会被氯气抽管41抽入到氯气储箱4中储存，同时，阴极室13产生的氢气会被氢气抽管51抽入到氢气储箱5中储存，实现对电解槽1中整流放电产生的氢气以及氯气进行分流针对式快速抽走储存，提高了对于整流放电生成氢气以及氯气的收集效率。
需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。
尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。
Claims (7)
1.一种离子膜烧碱整流装置，其特征在于，包括：
电解槽(1)，所述电解槽(1)内设有离子膜(11)，所述离子膜(11)和电解槽(1)的内腔之间设有阳极室(12)和阴极室(13)。
2.根据权利要求1所述的一种离子膜烧碱整流装置，其特征在于：所述电解槽(1)的上方设有槽盖板(7)，所述槽盖板(7)的上方设有升降板(3)，所述槽盖板(7)和升降板(3)之间设有连接杆(6)，所述电解槽(1)的两端设有第一气缸(31)和第二气缸(32)，所述第一气缸(31)和第二气缸(32)的伸缩杆均与升降板(3)固定设置，所述升降板(3)上设有氯气储箱(4)和氢气储箱(5)。
3.根据权利要求2所述的一种离子膜烧碱整流装置，其特征在于：所述氯气储箱(4)上连接有氯气抽管(41)，所述氢气储箱(5)上连接有氢气抽管(51)，所述氯气抽管(41)和氢气抽管(51)的下端为扩散式喇叭结构，所述氯气抽管(41)上设置有第一抽气泵(42)，所述氢气抽管(51)上设置有第二抽气泵(52)。
4.根据权利要求2所述的一种离子膜烧碱整流装置，其特征在于：所述连接杆(6)的俯视截面为矩形状结构，所述连接杆(6)为对称设置四个。
5.根据权利要求2所述的一种离子膜烧碱整流装置，其特征在于：所述电解槽(1)的顶端面开设有内侧凹槽(2)和外侧凹槽(21)，所述槽盖板(7)的下端面设置有外侧密封条(71)和内侧密封条(72)。
6.根据权利要求5所述的一种离子膜烧碱整流装置，其特征在于：所述内侧凹槽(2)、外侧凹槽(21)、外侧密封条(71)、内侧密封条(72)的俯视截面为矩形环形框体状结构。
7.根据权利要求5所述的一种离子膜烧碱整流装置，其特征在于：所述外侧密封条(71)的竖向高度不小于外侧凹槽(21)的内槽竖向深度，所述内侧密封条(72)的竖向高度不小于内侧凹槽(2)的内槽竖向深度。
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