CN220239108U - 一种狭缝涂布装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种狭缝涂布装置，包括：基台，基台上设置有涂布基底；涂布头机构，涂布头机构能够移动，且涂布头机构能够沿其移动方向挤出涂布液并将涂布液涂布于涂布基底上以形成液态膜；清洁机构，清洁机构能够移动，且清洁机构能够在涂布头机构挤出涂布液前对涂布基底进行清洁；反溶剂喷吹机构，反溶剂喷吹机构能够移动，反溶剂喷吹机构能够喷出反溶剂气体氛围，且反溶剂喷吹机构能够将反溶剂气体氛围喷吹至液态膜上。和现有技术相比，由于清洁机构和反溶剂喷吹机构的设置，本实用新型所公开狭缝涂布装置能够有效提升液态膜的成膜质量。

Description

一种狭缝涂布装置

技术领域

本实用新型涉及涂布设备技术领域，特别涉及一种狭缝涂布装置。

背景技术

狭缝涂布作为一种精密的溶液法成膜技术，具有涂布速度快、精度高、湿厚均匀，是化学方法制备高质量薄膜的重要方法，具有成本低等优势，再研发、中试和量产的系列高端通用产品，广泛应用于平板显示(LCD、OLED、QLED)、触摸屏、薄膜太阳能电池(OPV、钙钛矿)、IC先进封装(FOWLP、FOPLP)、氢能源电池、传感器、柔性及印刷电子、智能玻璃等高科技领域。

其中，涂布溶液与基底的浸润是成膜质量好坏的第一步，因此常常通过基底处理、溶液修饰等方法改变涂布溶液与基底的浸润效果。此外，涂布基底的清洁度会显著影响溶液法成膜的质量以及后续产品性能，当前常规的提升涂布基底洁净度的方法主要以清洗为主，但是，在涂布基底进行搬运、静止的过程中无法避免由于环境污染、静电吸附等导致的灰尘等，因此会显著影响液态成膜的质量。

因此，如何能够有效提升液态膜的成膜质量是本领域技术人员亟需解决的技术问题。

实用新型内容

有鉴于此，本实用新型的目的在于提供一种狭缝涂布装置，能够有效提升液态膜的成膜质量。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：

一种狭缝涂布装置，包括：

基台，基台上设置有涂布基底；

涂布头机构，涂布头机构能够移动，且涂布头机构能够沿其移动方向挤出涂布液并将涂布液涂布于涂布基底上以形成液态膜；

清洁机构，清洁机构能够移动，且清洁机构能够在涂布头机构挤出涂布液前对涂布基底进行清洁；

反溶剂喷吹机构，反溶剂喷吹机构能够移动，反溶剂喷吹机构能够喷出反溶剂气体氛围，且反溶剂喷吹机构能够将反溶剂气体氛围喷吹至液态膜上。

优选的，还包括至少一个移动机构，涂布头机构、清洁机构和反溶剂喷吹机构均设置于移动机构上。

优选的，涂布基底为倾斜结构，移动机构能够带涂布头机构、清洁机构和反溶剂喷吹机构沿涂布基底的较高一端移动至较低一端。

优选的，涂布基底为水平结构，移动机构能够带涂布头机构、清洁机构和反溶剂喷吹机构沿水平方向从涂布基底一端移动至另一端。

优选的，清洁机构包括清洁臂和清洁部，清洁臂的一端与移动机构固定连接，清洁臂的另一端与清洁部转动连接，清洁部与涂布基底能够形成第一预设角度，且清洁部能够对涂布基底进行清洁。

优选的，清洁部为吹风除尘件、吸风除尘件或静电除尘件。

优选的，反溶剂喷吹机构包括喷吹臂、喷吹部和高压气体源，喷吹臂的一端与移动机构固定连接，喷吹臂的另一端与喷吹部转动连接，喷吹部与涂布基底能够形成第二预设角度；

喷吹部与高压气体源相连通，喷吹部能够在高压气体源的作用下将反溶剂气体氛围喷吹至液态膜上。

优选的，涂布头机构包括涂布臂、涂布头和涂布液提供组件，涂布臂的一端与移动机构固定连接，涂布臂的另一端与涂布头转动连接，涂布头与涂布基底能够形成第三预设角度；

涂布液提供装置与涂布头相连通，涂布液提供装置能够将涂布液提供至涂布头。

优选的，涂布头包括涂布头本体，和设置于涂布头本体上的狭缝唇口，涂布液能够从狭缝唇口挤出并涂布于涂布基底上；

涂布液提供装置包括储液仓、涂布液注射件、导管和泵，储液仓用于容纳涂布液，涂布液注射件的一端与储液仓相连通，涂布液注射件的另一端与涂布头本体相连通，泵设置于涂布液注射件内。

优选的，涂布头本体与涂布基底的距离小于10cm。

由以上技术方案可以看出，当进行液态膜成膜时，涂布头机构会沿其移动方向挤出涂布液并将涂布液涂布于涂布基底上以形成液态膜，在涂布头机构挤出涂布液之前，首先控制清洁机构对设置于基台上的涂布基底进行清洁，当清洁完毕后，再控制涂布头机构在清洁后的涂布基底上挤出涂布液并将涂布液涂布于涂布基底上以形成液态膜，然后再控制反溶剂喷吹机构将反溶剂气体氛围喷吹至液态膜上，和现有技术相比，由于清洁机构和反溶剂喷吹机构的设置，本实用新型实施例所公开狭缝涂布装置能够有效提升液态膜的成膜质量。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见的，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据提供的附图获得其他的附图。

图1为本实用新型实施例所公开的狭缝涂布装置的整体结构示意图。

其中，各部件名称如下：

100、基台；200、涂布基底；300、液态膜；400、涂布头机构；401、涂布臂；402、涂布头；500、清洁机构；501、清洁臂；502、清洁部；600、反溶剂喷吹机构；601、喷吹臂；602、喷吹部；700、移动机构。

具体实施方式

有鉴于此，本实用新型的核心在于提供一种狭缝涂布装置，能够有效提升液态膜的成膜质量。

为了使本技术领域的人员更好地理解本实用新型方案，下面接合附图和具体实施方式对本实用新型作进一步的详细说明。

请参考图1，本实用新型实施例所公开的狭缝涂布装置，包括基台100、涂布头机构400、清洁机构500和反溶剂喷吹机构600，其中基台100上设置有涂布基底200，涂布头机构400、清洁机构500和反溶剂喷吹机构600均能够移动，具体的，涂布头机构400能够沿其移动方向挤出涂布液并将涂布液涂布于涂布基底200上以形成液态膜300，清洁机构500能够在涂布头机构400挤出涂布液前对涂布基底200进行清洁，反溶剂喷吹机构600能够喷出反溶剂气体氛围，且反溶剂喷吹机构600能够将反溶剂气体氛围喷吹至液态膜300上。

当进行液态膜300成膜时，涂布头机构400会沿其移动方向挤出涂布液并将涂布液涂布于涂布基底200上以形成液态膜300，在涂布头机构400挤出涂布液之前，首先控制清洁机构500对设置于基台100上的涂布基底200进行清洁，当清洁完毕后，再控制涂布头机构400在清洁后的涂布基底200上挤出涂布液并将涂布液涂布于涂布基底200上以形成液态膜300，然后再控制反溶剂喷吹机构600将反溶剂气体氛围喷吹至液态膜300上，和现有技术相比，由于清洁机构500和反溶剂喷吹机构600的设置，本实用新型实施例所公开狭缝涂布装置能够有效提升液态膜300的成膜质量。

本实用新型实施例所公开的涂布头机构400、清洁机构500和反溶剂喷吹机构600均可以移动，其中、针对具体的移动方式本实用新型实施例对此不进行限定，只要满足本实用新型使用要求的结构均在本实用新型的保护范围之内。

其中，本实用新型实施例所公开的狭缝涂布装置中，可以设置一个移动机构，即涂布头机构400、清洁机构500和反溶剂喷吹机构600均设置于一个移动机构上，该移动机构可带动涂布头机构400、清洁机构500和反溶剂喷吹机构600同时移动。

当然，也可以设置两个移动机构，即涂布头机构400、清洁机构500和反溶剂喷吹机构600中的一者设置于一个移动机构上，涂布头机构400、清洁机构500和反溶剂喷吹机构600中的另外两者设置于另外一个移动机构上。

当然，也可以设置三个移动机构，即涂布头机构400、清洁机构500和反溶剂喷吹机构600分别对应设置于一个移动机构700上。

本实用新型实施例优选将涂布头机构400、清洁机构500和反溶剂喷吹机构600均设置于一个移动机构上，上述设置不仅结构简单，方便控制，而且还可以节省成本。

当涂布头机构400、清洁机构500和反溶剂喷吹机构600均设置于一个移动机构上时，涂布头机构400置于中间，清洁机构500和反溶剂喷吹机构600分别设置于涂布头机构400的两侧，其中沿移动机构700的移动方向，清洁机构500设置于前面，在涂布头402挤出涂布液之前完成对涂布基底200的清洁，反溶剂喷吹机构600设置于涂布头机构400的后面，在涂布头402挤出涂布液并成为液态膜300后将反溶剂气体氛围喷吹到液态膜300上。

本实用新型实施例对移动机构700的控制可以为手动控制，也可以为电动控制，当采用电动控制时，可通过电机控制移动机构700移动，可通过气缸控制移动机构700移动，也可以通过其它能够控制移动机构700进行移动的驱动件均可。

本实用新型实施例对涂布基底200的结构不进行限定，涂布基底200可以为水平结构，也可以为倾斜结构，只要满足本实用新型实施例使用要求的结构均在本实用新型的保护范围之内。

当涂布基底200为水平结构时，移动机构能够带涂布头机构400、清洁机构500和反溶剂喷吹机构600沿水平方向从涂布基底200的一端移动至另一端。

当涂布基底200为倾斜结构时，移动机构能够带涂布头机构400、清洁机构500和反溶剂喷吹机构600沿倾斜方向从涂布基底200的较高一端移动至较低一端。上述倾斜结构的设置可有效改善涂布液与涂布基底200之间的浸润效果，进一步优化成膜质量。

本实用新型实施例对清洁机构500的具体结构不进行具体限定，只要满足本实用新型使用要求的结构均在本实用新型的保护范围之内。

作为优选，本实用新型实施例所公开的清洁机构500包括清洁臂501和清洁部502，其中，清洁臂501的一端与移动机构700固定连接，清洁臂501的另一端与清洁部502转动连接，清洁部502与涂布基底200能够形成第一预设角度，且清洁部502能够对涂布基底200进行清洁。

当进行液态膜300成膜时，可以转动清洁部502，通过调节清洁部502与涂布基底200之间的角度，使其为第一预设角度，以提升清洁部502对涂布基底200的清洁效率和清洁效果。

本实用新型实施例对清洁部502的具体结构不进行限定，清洁部502可以为毛刷、可以为滚刷，也可以为其它结构，本实用新型实施例对此不进行具体限定，只要满足本实用新型使用要求的结构均在本实用新型的保护范围之内。

其中，当清洁部502为毛刷或滚刷时，当对涂布基底200进行清洁时，需要通过清洁部502与涂布基底200接触以实现对涂布基底200的清洁，因此上述清洁结构可能会对涂布基底200造成一定的磨损。

为了优化上述实施例，本实用新型实施例所公开的清洁部502优选为吹风除尘件、吸风除尘件或静电除尘件，吹风除尘件、吸风除尘件或静电除尘件可以对涂布基底200实现无接触除尘，不仅保护了涂布基底200不被磨损，而且还进一步提升了除尘效果。

本实用新型实施例对反溶剂喷吹机构600的具体结构不进行限定，只要满足本实用新型使用要求的结构均在本实用新型的保护范围之内。

作为优选，本实用新型实施例所公开的反溶剂喷吹机构600包括喷吹臂601、喷吹部602和高压气体源，其中，喷吹臂601的一端与移动机构700固定连接，喷吹臂601的另一端与喷吹部602转动连接，喷吹部602与涂布基底200能够形成第二预设角度；

喷吹部602与高压气体源相连通，喷吹部602能够在高压气体源的作用下将反溶剂气体氛围喷吹至液态膜300上。

当进行液态膜300成膜时，可以转动喷吹部602，通过调节喷吹部602与涂布基底200之间的角度为第二预设角度，使其为最佳角度，从而提升喷吹部602对涂布基底200的喷吹效果。

其中，喷吹部602上开设有喷吹孔，高压气体源至少具体包括储气仓和设置于储气仓内的高压气体，当开启储气仓的开关，高压气体可通过连通管道进入喷吹部602内，再从喷吹孔内将反溶剂气体氛围喷吹至液态膜300上，如此设置，不仅能够提升液态膜300成膜时的表面平整性，还可以提升液态膜300成膜时的致密性。

本实用新型实施例对涂布头机构400的具体结构不进行限定，只要满足本实用新型使用要求的结构均在本实用新型的保护范围之内。

作为优选实施例，本实用新型实施例所公开的涂布头机构400包括涂布臂401、涂布头402和涂布液提供组件，其中，涂布臂401的一端与移动机构700固定连接，涂布臂401的另一端与涂布头402转动连接，涂布头402与涂布基底200能够形成第三预设角度。

其中，涂布液提供装置与涂布头402相连通，涂布液提供装置能够将涂布液提供至涂布头402。

本实用新型实施例对涂布头402和涂布液提供装置的具体机构不进行限定，只要满足本实用新型使用要求的结构均在本实用新型的保护范围之内。

作为优选实施例，本实用新型实施例所公开的涂布头402包括涂布头本体，和设置于涂布头本体上的狭缝唇口，涂布液能够从狭缝唇口挤出并涂布于涂布基底200上。

涂布液提供装置包括储液仓、涂布液注射件、导管和泵，储液仓用于容纳涂布液，涂布液注射件的一端与储液仓相连通，涂布液注射件的另一端与涂布头本体相连通，泵设置于所述涂布液注射件内。

开启泵，涂布液注射件可以在泵的推动下，将置于储液仓内的涂布液推到涂布头本体内，通过狭缝唇口挤出并涂布于涂布基底200上。

本实用新型实施例对涂布头机构400与涂布基底200之间的距离不进行设置，只要满足本实用新型使用要求的结构均在本实用新型的保护范围之内。

作为优选实施例，本实用新型实施例所公开的涂布头本体与涂布基底200之间的距离优选小于10cm。

本实用新型实施例对第一预设角度、第二预设角度和第三预设角度的具体角度范围不进行具体限定，只要满足本实用新型使用要求的结构均在本实用新型的保护范围之内。

作为优选实施例，本实用新型实施例所公开的第一预设角度为60°-120°，第二预设角度为60°-120°，第三预设角度为80°-100°。

本实用新型实施例所公开的液态膜300可以为钙钛矿液态膜，也可以为有机发光二极管，当然也可以为其它种类的液态膜，本实用新型实施例对此不进具体限定，只要满足本实用新型使用要求的种类均在本实用新型的保护范围内。

在本申请的描述中，需要说明的是，术语“第一”、“第二”、“第三”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性。除非另有明确的规定和限定，术语“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。

对所公开的实施例的上述说明，使本领域专业技术人员能够实现或使用本实用新型。对这些实施例的多种修改对本领域的专业技术人员来说将是显而易见的，本文中所定义的一般原理可以在不脱离本实用新型的精神或范围的情况下，在其它实施例中实现。因此，本实用新型将不会被限制于本文所示的这些实施例，而是要符合与本文所公开的原理和新颖特点相一致的最宽的范围。

Claims (7)

1.一种狭缝涂布装置，其特征在于，包括：

基台，所述基台上设置有涂布基底；

涂布头机构，所述涂布头机构能够移动，且所述涂布头机构能够沿其移动方向挤出涂布液并将所述涂布液涂布于所述涂布基底上以形成液态膜；

清洁机构，所述清洁机构能够移动，且所述清洁机构能够在所述涂布头机构挤出所述涂布液前对所述涂布基底进行清洁；

反溶剂喷吹机构，所述反溶剂喷吹机构能够移动，所述反溶剂喷吹机构能够喷出反溶剂气体氛围，且所述反溶剂喷吹机构能够将所述反溶剂气体氛围喷吹至所述液态膜上；

还包括至少一个移动机构，所述涂布头机构、所述清洁机构和所述反溶剂喷吹机构均设置于所述移动机构上；

所述涂布基底为水平结构，所述移动机构能够带所述涂布头机构、所述清洁机构和所述反溶剂喷吹机构沿水平方向从所述涂布基底的一端移动至另一端；或，

所述涂布基底为倾斜结构，所述移动机构能够带所述涂布头机构、所述清洁机构和所述反溶剂喷吹机构沿倾斜方向从所述涂布基底的较高一端移动至较低一端。

2.根据权利要求1所述的狭缝涂布装置，其特征在于，所述清洁机构包括清洁臂和清洁部，所述清洁臂的一端与所述移动机构固定连接，所述清洁臂的另一端与所述清洁部转动连接，所述清洁部与所述涂布基底能够形成第一预设角度，且所述清洁部能够对所述涂布基底进行清洁。

3.根据权利要求2所述的狭缝涂布装置，其特征在于，所述清洁部为吹风除尘件、吸风除尘件或静电除尘件。

4.根据权利要求1所述的狭缝涂布装置，其特征在于，所述反溶剂喷吹机构包括喷吹臂、喷吹部和高压气体源，所述喷吹臂的一端与所述移动机构固定连接，所述喷吹臂的另一端与所述喷吹部转动连接，所述喷吹部与所述涂布基底能够形成第二预设角度；

所述喷吹部与所述高压气体源相连通，所述喷吹部能够在所述高压气体源的作用下将所述反溶剂气体氛围喷吹至所述液态膜上。

5.根据权利要求1所述的狭缝涂布装置，其特征在于，所述涂布头机构包括涂布臂、涂布头和涂布液提供组件，所述涂布臂的一端与所述移动机构固定连接，所述涂布臂的另一端与所述涂布头转动连接，所述涂布头与所述涂布基底能够形成第三预设角度；

所述涂布液提供组件与所述涂布头相连通，所述涂布液提供组件能够将所述涂布液提供至所述涂布头。

6.根据权利要求5所述的狭缝涂布装置，其特征在于，所述涂布头包括涂布头本体，和设置于所述涂布头本体上的狭缝唇口，所述涂布液能够从所述狭缝唇口挤出并涂布于所述涂布基底上；

所述涂布液提供组件包括储液仓、涂布液注射件、导管和泵，所述储液仓用于容纳所述涂布液，所述涂布液注射件的一端与所述储液仓相连通，所述涂布液注射件的另一端与所述涂布头本体相连通，所述泵设置于所述涂布液注射件内。

7.根据权利要求6所述的狭缝涂布装置，其特征在于，所述涂布头本体与所述涂布基底的距离小于10cm。