CN220214928U - 一种具有搅拌效果均匀的化工反应釜 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供一种具有搅拌效果均匀的化工反应釜，涉及化工设备技术领域，包括：反应釜主体，所述反应釜主体的顶端活动安装有釜盖，所述釜盖的顶端固定的安装有箱体，所述箱体的内部设置有均匀搅拌装置，所述箱体的顶端固定安装有电机一，所述电机一的输出端固定安装有传动轴，所述传动轴的一端固定安装有清理装置。本实用新型，电机二带动滚轴做旋转运动，滚轴表面的多个搅拌轴对反应釜主体内的材料进行搅拌，同时搅拌轴一端活动安装的活动叶在滚轴搅拌时也会受力旋转，从而保证每层的材料被充分搅拌混合；电机一带动横向轴做旋转运动，横向轴两端的支撑轴带动曲面刷板在反应釜主体内做旋转运动，从而达到将反应釜主体的内壁清理干净的目的。

Description

一种具有搅拌效果均匀的化工反应釜

技术领域

本实用新型涉及化工设备技术领域，尤其涉及一种具有搅拌效果均匀的化工反应釜。

背景技术

反应釜是化工生产中应用广泛的一种设备，其作用是将物料进行搅拌混合、溶解、蒸发或浓缩等。所以多功能的化工反应釜是现在化工工作所需的，能保证在工作中充分发挥作用。

但是现有技术中，现有的化工反应釜的搅拌功能有限，经常出现分层搅拌的现象，导致物料混合不均匀，影响了反应效果。而且在使用完反应釜后，反应釜本身的清理也是个难题，一般要靠工作人员进入反应釜内进行清理，对工作人员的体力要求较高，更是极大的降低了工作效率我们为此，提出了一种雨水收集净化装置解决上述弊端。

实用新型内容

本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在的缺点，而提出的一种具有搅拌效果均匀的化工反应釜。

为了实现上述目的，本实用新型采用了如下技术方案：一种具有搅拌效果均匀的化工反应釜，包括：反应釜主体，所述反应釜主体的顶端活动安装有釜盖，所述釜盖的顶端固定的安装有箱体，所述箱体的内部设置有均匀搅拌装置，所述箱体的顶端固定安装有电机一，所述电机一的输出端固定安装有传动轴，所述传动轴的一端固定安装有清理装置，所述反应釜主体顶端的表面开设有曲面滑槽，所述反应釜主体的表面固定安装有两个把手，所述反应釜主体的底端固定安装有三个支撑腿。

作为一种优选的实施方式，所述均匀搅拌装置包括电机二，所述电机二的输出端固定安装有短轴，所述短轴的一端固定安装有锥齿轮一，所述锥齿轮一的表面啮合连接有锥齿轮二，所述锥齿轮二的一端固定安装有长轴，所述长轴的表面固定包覆有滚轴，所述滚轴的表面固定安装有多个搅拌轴，多个所述搅拌轴的一端均活动安装有活动叶，所述电机二的一端固定安装在箱体的内壁面。

采用上述进一步方案的技术效果是：电机二工作并带动短轴运动，短轴将运动传递给锥齿轮一，继而带动与锥齿轮一互相啮合连接的锥齿轮二运动，锥齿轮二的一端和长轴固定连接，所述长轴与其表面包覆的滚轴共同做旋转运动，滚轴表面的多个搅拌轴在滚轴带动下对反应釜主体内的材料进行搅拌，同时搅拌轴一端活动安装的活动叶在滚轴搅拌时也会受力做旋转运动，从而将反应釜主体内部的材料在搅拌时也能进行上下翻转，保证每层的材料被充分搅拌混合。

作为一种优选的实施方式，所述清理装置包括固定轴，所述固定轴的表面固定贯穿有横向轴，所述横向轴的两端均固定安装有支撑轴，两个所述支撑轴的表面均固定安装有曲面滑块，两个所述支撑轴的一端均固定安装有曲面刷板。

采用上述进一步方案的技术效果是：电机一带动传动轴运动，传动轴将运动传递给固定轴，固定轴因此做旋转运动，固定轴表面的横向轴也跟随做旋转运动，横向轴两端的支撑轴也带动与其固定连接的曲面刷板在反应釜主体内做旋转运动，从而达到将反应釜主体的内壁清理干净的目的。

作为一种优选的实施方式，两个所述曲面滑块均配合安装在曲面滑槽内部。

采用上述进一步方案的技术效果是：在方便支撑轴围绕反应釜主体做旋转运动的同时还能保证反应釜主体的一部分密闭性。

作为一种优选的实施方式，所述短轴的一端通过轴承活动贯穿釜盖的顶端。

采用上述进一步方案的技术效果是：保证短轴在运动时不会影响釜盖的状态。

作为一种优选的实施方式，所述长轴的一端活动安装在反应釜主体的内底面。

采用上述进一步方案的技术效果是：方便实现长轴的旋转运动。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是；

1、本实用新型，启动箱体内的均匀搅拌装置，此时电机二工作并带动短轴运动，短轴将运动传递给锥齿轮一，继而带动与锥齿轮一互相啮合连接的锥齿轮二运动，锥齿轮二的一端和长轴固定连接，所述长轴与其表面包覆的滚轴共同做旋转运动，滚轴表面的多个搅拌轴在滚轴带动下对反应釜主体内的材料进行搅拌，同时搅拌轴一端活动安装的活动叶在滚轴搅拌时也会受力做旋转运动，从而将反应釜主体内部的材料在搅拌时也能进行上下翻转，保证每层的材料被充分搅拌混合，解决了普通反应釜主体的搅拌装置在使用时由于搅拌功能有限导致的搅拌分层现象，使搅拌更彻底，方便反应釜主体内物料的互相反应。

2、本实用新型，启动电机一，电机一带动传动轴运动，传动轴将运动传递给固定轴，固定轴因此做旋转运动，固定轴表面的横向轴也跟随做旋转运动，横向轴两端的支撑轴也带动与其固定连接的曲面刷板在反应釜主体内做旋转运动，从而达到将反应釜主体的内壁清理干净的目的。这种方式有效的解决了一般的反应釜清理时只能依靠人工清理的局限性，节省了人力并提高了劳动效率。同时支撑轴表面固定安装的曲面滑块也跟随支撑轴做旋转运动，在方便支撑轴围绕反应釜主体做旋转运动的同时还能保证反应釜主体的一部分密闭性。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍。

图1为本实用新型提供的一种具有搅拌效果均匀的化工反应釜的立体结构示意图；

图2为本实用新型提供的一种具有搅拌效果均匀的化工反应釜的内部结构拆分示意图；

图3为本实用新型提供的一种具有搅拌效果均匀的化工反应釜的均匀搅拌装置结构示意图；

图4为本实用新型提供的一种具有搅拌效果均匀的化工反应釜的清理装置结构示意图。

图例说明：

1、反应釜主体；2、釜盖；3、箱体；4、均匀搅拌装置；401、电机二；402、短轴；403、锥齿轮一；404、锥齿轮二；405、长轴；406、滚轴；407、搅拌轴；408、活动叶；5、电机一；6、传动轴；7、清理装置；701、固定轴；702、横向轴；703、支撑轴；704、曲面滑块；705、曲面刷板；8、曲面滑槽；9、把手；10、支撑腿。

具体实施方式

为使本实用新型的目的、技术方案和优点更加清楚明了，下面结合具体实施方式并参照附图，对本实用新型进一步详细说明。应该理解，这些描述只是示例性的，而并非要限制本实用新型的范围。此外，在以下说明中，省略了对公知结构和技术的描述，以避免不必要地混淆本实用新型的概念。

请参阅图1-4，本实用新型提供一种技术方案：一种具有搅拌效果均匀的化工反应釜，包括：反应釜主体1，反应釜主体1的顶端活动安装有釜盖2，釜盖2的顶端固定的安装有箱体3，箱体3的内部设置有均匀搅拌装置4，箱体3的顶端固定安装有电机一5，电机一5的输出端固定安装有传动轴6，传动轴6的一端固定安装有清理装置7，反应釜主体1顶端的表面开设有曲面滑槽8，反应釜主体1的表面固定安装有两个把手9，反应釜主体1的底端固定安装有三个支撑腿10。

如图1-4所示，均匀搅拌装置4包括电机二401，电机二401的输出端固定安装有短轴402，短轴402的一端固定安装有锥齿轮一403，锥齿轮一403的表面啮合连接有锥齿轮二404，锥齿轮二404的一端固定安装有长轴405，长轴405的表面固定包覆有滚轴406，滚轴406的表面固定安装有多个搅拌轴407，多个搅拌轴407的一端均活动安装有活动叶408，电机二401的一端固定安装在箱体3的内壁面，电机二401工作并带动短轴402运动，短轴402将运动传递给锥齿轮一403，继而带动与锥齿轮一403互相啮合连接的锥齿轮二404运动，锥齿轮二404的一端和长轴405固定连接，长轴405与其表面包覆的滚轴406共同做旋转运动，滚轴406表面的多个搅拌轴407在滚轴406带动下对反应釜主体1内的材料进行搅拌，同时搅拌轴407一端活动安装的活动叶408在滚轴406搅拌时也会受力做旋转运动，从而将反应釜主体1内部的材料在搅拌时也能进行上下翻转，保证每层的材料被充分搅拌混合。

如图1-4所示，清理装置7包括固定轴701，固定轴701的表面固定贯穿有横向轴702，横向轴702的两端均固定安装有支撑轴703，两个支撑轴703的表面均固定安装有曲面滑块704，两个支撑轴703的一端均固定安装有曲面刷板705，电机一5带动传动轴6运动，传动轴6将运动传递给固定轴701，固定轴701因此做旋转运动，固定轴701表面的横向轴702也跟随做旋转运动，横向轴702两端的支撑轴703也带动与其固定连接的曲面刷板705在反应釜主体1内做旋转运动，从而达到将反应釜主体1的内壁清理干净的目的。

如图1-4所示，两个曲面滑块704均配合安装在曲面滑槽8内部，在方便支撑轴703围绕反应釜主体1做旋转运动的同时还能保证反应釜主体1的一部分密闭性。

如图1-4所示，短轴402的一端通过轴承活动贯穿釜盖2的顶端，保证短轴402在运动时不会影响釜盖2的状态。

如图1-4所示，长轴405的一端活动安装在反应釜主体1的内底面，方便实现长轴405的旋转运动。

工作原理：当反应釜主体1开始工作时，工作人员将材料由进料口倒入反应釜主体1，然后启动箱体3内的均匀搅拌装置4。此时电机二401工作并带动短轴402运动，短轴402将运动传递给锥齿轮一403，继而带动与锥齿轮一403互相啮合连接的锥齿轮二404运动，锥齿轮二404的一端和长轴405固定连接，长轴405与其表面包覆的滚轴406共同做旋转运动，滚轴406表面的多个搅拌轴407在滚轴406带动下对反应釜主体1内的材料进行搅拌，同时搅拌轴407一端活动安装的活动叶408在滚轴406搅拌时也会受力做旋转运动，从而将反应釜主体1内部的材料在搅拌时也能进行上下翻转，保证每层的材料被充分搅拌混合，解决了普通反应釜主体1的搅拌装置在使用时由于搅拌功能有限导致的搅拌分层现象，使搅拌更彻底，方便反应釜主体1内物料的互相反应。此外，在使用完成后，反应釜主体1一般需要清洗，此时可以启动电机一5，电机一5带动传动轴6运动，传动轴6将运动传递给固定轴701，固定轴701因此做旋转运动，固定轴701表面的横向轴702也跟随做旋转运动，横向轴702两端的支撑轴703也带动与其固定连接的曲面刷板705在反应釜主体1内做旋转运动，从而达到将反应釜主体1的内壁清理干净的目的。这种方式有效的解决了一般的反应釜清理时只能依靠人工清理的局限性，节省了人力并提高了劳动效率。同时支撑轴703表面固定安装的曲面滑块704也跟随支撑轴703做旋转运动，在方便支撑轴703围绕反应釜主体1做旋转运动的同时还能保证反应釜主体1的一部分密闭性。

以上所述，仅是本实用新型的较佳实施例而已，并非是对本实用新型作其它形式的限制，任何熟悉本专业的技术人员可能利用上述揭示的技术内容加以变更或改型为等同变化的等效实施例应用于其它领域，但是凡是未脱离本实用新型技术方案内容，依据本实用新型的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与改型，仍属于本实用新型技术方案的保护范围。

本实施方案中：控制面板控制电路通过本领域的技术人员简单的编程即可实现，属于本领域的公知常识，仅对其进行使用，不进行改造，故不再详细描述控制方式和电路连接。

应当理解的是，本实用新型的上述具体实施方式仅仅用于示例性说明或解释本实用新型的原理，而不构成对本实用新型的限制。因此，在不偏离本实用新型的精神和范围的情况下所做的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。此外，本实用新型所附权利要求旨在涵盖落入所附权利要求范围和边界、或者这种范围和边界的等同形式内的全部变化和修改例。

Claims (6)

1.一种具有搅拌效果均匀的化工反应釜，其特征在于，包括：反应釜主体(1)，所述反应釜主体(1)的顶端活动安装有釜盖(2)，所述釜盖(2)的顶端固定的安装有箱体(3)，所述箱体(3)的内部设置有均匀搅拌装置(4)，所述箱体(3)的顶端固定安装有电机一(5)，所述电机一(5)的输出端固定安装有传动轴(6)，所述传动轴(6)的一端固定安装有清理装置(7)，所述反应釜主体(1)顶端的表面开设有曲面滑槽(8)，所述反应釜主体(1)的表面固定安装有两个把手(9)，所述反应釜主体(1)的底端固定安装有三个支撑腿(10)。

2.根据权利要求1所述的一种具有搅拌效果均匀的化工反应釜，其特征在于：所述均匀搅拌装置(4)包括电机二(401)，所述电机二(401)的输出端固定安装有短轴(402)，所述短轴(402)的一端固定安装有锥齿轮一(403)，所述锥齿轮一(403)的表面啮合连接有锥齿轮二(404)，所述锥齿轮二(404)的一端固定安装有长轴(405)，所述长轴(405)的表面固定包覆有滚轴(406)，所述滚轴(406)的表面固定安装有多个搅拌轴(407)，多个所述搅拌轴(407)的一端均活动安装有活动叶(408)，所述电机二(401)的一端固定安装在箱体(3)的内壁面。

3.根据权利要求1所述的一种具有搅拌效果均匀的化工反应釜，其特征在于：所述清理装置(7)包括固定轴(701)，所述固定轴(701)的表面固定贯穿有横向轴(702)，所述横向轴(702)的两端均固定安装有支撑轴(703)，两个所述支撑轴(703)的表面均固定安装有曲面滑块(704)，两个所述支撑轴(703)的一端均固定安装有曲面刷板(705)。

4.根据权利要求3所述的一种具有搅拌效果均匀的化工反应釜，其特征在于：两个所述曲面滑块(704)均配合安装在曲面滑槽(8)内部。

5.根据权利要求2所述的一种具有搅拌效果均匀的化工反应釜，其特征在于：所述短轴(402)的一端通过轴承活动贯穿釜盖(2)的顶端。

6.根据权利要求2所述的一种具有搅拌效果均匀的化工反应釜，其特征在于：所述长轴(405)的一端活动安装在反应釜主体(1)的内底面。