CN220092343U - 一种硅片清洗抛动装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种硅片清洗抛动装置，包括清洗槽体，所述清洗槽体前方的两侧和后方的两侧均固定安装有直线滑筒，所述直线滑筒的内部滑动连接有导向柱，所述清洗槽体的下方通过支撑板固定安装有电机，且电机的输出端通过联轴器固定连接有转轴，所述清洗槽体的前方和后面均设置有固定轴，本实用新型涉及硅片清洗技术领域。该硅片清洗抛动装置，4根导向柱，增加整体受力均匀性，减少导向柱横向磨损，将动力源移至槽体侧边，便于日常维护保养，减少人力物力，增加了水流对硅片表面的涤荡效果，使硅片表面杂质异物更加容易脱落，增加了清洁效果，进一步提升洁净效率。
Description
技术领域
本实用新型涉及硅片清洗技术领域，具体为一种硅片清洗抛动装置。
背景技术
光伏硅切片行业近年来发展迅速，而在硅片切割过程中，会产生大量的硅粉和杂质吸附、沉积在硅片表面，因此需要对切割完成的硅片进行集中、批量式的清洗洁净工作，以使硅片达到光伏板制造工艺的要求。
现有的技术方案，主要由一个气缸、升降架和硅片承载架组成，升降架由水平设置的连接轴和竖直设置在连接轴两端的立杆组成，连接轴与气缸活塞杆的伸缩端连接，以使升降架在气缸驱动下做往复升降运动，与两个立杆相对应的位置分别设有一个导向柱，立杆通过其侧部设置的滑块滑动设置在导向柱的导槽内，硅片承载架包括一个底板，底板上设有多个凸起块，多个凸起块与底板之间形成用于放置硅片清洗篮的卡槽，底板上分布有多个透水孔，底板的两侧各设有两个连接杆，同一侧的两个连接杆的顶端由一个耳板连接，两个耳板分别与升降架的两个立杆的顶端连接，以使硅片承载架在升降架带动下能够在硅片清洗机的清洗槽内上下运动。
现有的硅片清洗工艺通常是在硅片清洗机上面实现的，大致过程是将插好硅片的花篮放入硅片清洗池中，在清洗池内勾兑一定浓度的化学试剂，并借助循环泵使化学试剂不断流经硅片的表面已达到清洗目的；此外，一般还辅以超声波震动以加强上述清洁效果。但是，仅依靠上述两种手段，硅片在液体内依然处于静止状态，无法产生涤荡效果，且在超声波无法到达的死角处效果差，整体清洁效率较低。
实用新型内容
针对现有技术的不足，本实用新型提供了一种硅片清洗抛动装置，解决了硅片清洗效果不是很好的问题。
为实现以上目的，本实用新型通过以下技术方案予以实现：一种硅片清洗抛动装置，包括清洗槽体，所述清洗槽体前方的两侧和后方的两侧均固定安装有直线滑筒，所述直线滑筒的内部滑动连接有导向柱，所述清洗槽体的下方通过支撑板固定安装有电机，且电机的输出端通过联轴器固定连接有转轴，所述清洗槽体的前方和后面均设置有固定轴，所述转轴表面的前方和后方与两个固定轴的表面均固定安装有链轮，所述固定轴的一端固定连接有曲柄，且曲柄的一端通过轴承与清洗槽体的表面转动连接。
优选的，所述转轴的表面和固定轴的表面均安装有带座轴承，且带座轴承固定安装于支撑架上。
优选的，所述直线滑筒和导向柱相互配合使用，对清洗槽体的运行进行限位。
优选的，所述转轴表面的链轮与固定轴表面的链轮之间通过链条传动连接。
优选的，所述清洗槽体内部为中空结构，加入清洗液后对硅片进行清洗。
有益效果
本实用新型提供了一种硅片清洗抛动装置。与现有技术相比具备以下有益效果：
该硅片清洗抛动装置，通过清洗槽体前方的两侧和后方的两侧均固定安装有直线滑筒，直线滑筒的内部滑动连接有导向柱，清洗槽体的下方通过支撑板固定安装有电机，且电机的输出端通过联轴器固定连接有转轴，清洗槽体的前方和后面均设置有固定轴，4根导向柱，增加整体受力均匀性，减少导向柱横向磨损，将动力源移至槽体侧边，便于日常维护保养，减少人力物力，增加了水流对硅片表面的涤荡效果，使硅片表面杂质异物更加容易脱落，增加了清洁效果，进一步提升洁净效率。
附图说明
图1为现有技术方案的示意图；
图2为本实用新型结构示意图；
图3为本实用新型图1中曲柄处的局部放大图。
图中：1-导向柱、2-清洗槽体、3-直线滑筒、4-转轴、5-电机、6-链条、7-轴承、8-曲柄、9-带座轴承、10-链轮、11-固定轴。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
请参阅图1-3，本实用新型提供一种技术方案：一种硅片清洗抛动装置，包括清洗槽体2，其特征在于：清洗槽体2前方的两侧和后方的两侧均固定安装有直线滑筒3，直线滑筒3的内部滑动连接有导向柱1，清洗槽体2的下方通过支撑板固定安装有电机5，且电机5的输出端通过联轴器固定连接有转轴4，清洗槽体2的前方和后面均设置有固定轴11，转轴4表面的前方和后方与两个固定轴11的表面均固定安装有链轮10，固定轴11的一端固定连接有曲柄8，且曲柄8的一端通过轴承7与清洗槽体2的表面转动连接，同时本说明书中未作详细描述的内容均属于本领域技术人员公知的现有技术。
具体的，清洗槽体2与直线滑筒3直线滑块固连，二者可一起沿导向柱1上下滑动，在电机5的驱动下，转轴4开始旋转，这时转轴4上的链轮10转动，然后通过链条6驱动固定轴11上的链轮10转动，这样固定轴11会相应转动，曲柄8绕固定轴11旋转形成曲柄滑块机构，使清洗槽体2沿导向柱1做竖直方向的往复运动，转轴4上设置了两组链轮10，通过两根链条6分别驱动置于清洗槽体2下方的曲柄滑块机构，并和4根导向柱1一起配合，使运动更加平稳且机构受力更稳定。待清洗槽体2内盛满液体时，随着清洗槽体2一起上下往复运动，增加了水流对硅片表面的涤荡效果，使硅片表面杂质异物更加容易脱落，增加了清洁效果，进一步提升洁净效率。
请参阅图1-2，转轴4的表面和固定轴11的表面均安装有带座轴承9，且带座轴承9固定安装于支撑架上，直线滑筒3和导向柱1相互配合使用，对清洗槽体2的运行进行限位。
请参阅图1-2，转轴4表面的链轮10与固定轴11表面的链轮10之间通过链条6传动连接，清洗槽体2内部为中空结构，加入清洗液后对硅片进行清洗。
需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。
尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。
Claims (5)
1.一种硅片清洗抛动装置，包括清洗槽体(2)，其特征在于：所述清洗槽体(2)前方的两侧和后方的两侧均固定安装有直线滑筒(3)，所述直线滑筒(3)的内部滑动连接有导向柱(1)，所述清洗槽体(2)的下方通过支撑板固定安装有电机(5)，且电机(5)的输出端通过联轴器固定连接有转轴(4)，所述清洗槽体(2)的前方和后面均设置有固定轴(11)，所述转轴(4)表面的前方和后方与两个固定轴(11)的表面均固定安装有链轮(10)，所述固定轴(11)的一端固定连接有曲柄(8)，且曲柄(8)的一端通过轴承(7)与清洗槽体(2)的表面转动连接。
2.根据权利要求1所述的一种硅片清洗抛动装置，其特征在于：所述转轴(4)的表面和固定轴(11)的表面均安装有带座轴承(9)，且带座轴承(9)固定安装于支撑架上。
3.根据权利要求1所述的一种硅片清洗抛动装置，其特征在于：所述直线滑筒(3)和导向柱(1)相互配合使用，对清洗槽体(2)的运行进行限位。
4.根据权利要求1所述的一种硅片清洗抛动装置，其特征在于：所述转轴(4)表面的链轮(10)与固定轴(11)表面的链轮(10)之间通过链条(6)传动连接。
5.根据权利要求1所述的一种硅片清洗抛动装置，其特征在于：所述清洗槽体(2)内部为中空结构，加入清洗液后对硅片进行清洗。
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Inventor after: Wu Rongrong Inventor after: Mi Xiaofei Inventor after: Jin Wenjie Inventor before: Ge Lingjie Inventor before: Shao Xuefeng Inventor before: Sun Shouzhen |