CN220092301U - 一种高压水晶托除胶设备 - Google Patents
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Abstract
本实用新型属于晶托除胶处理技术领域,公开了一种高压水晶托除胶设备。包括机器人架体、晶托输送架体;晶托输送架体设置在机器人架体的下方,机器人架体上设置机器人,机器人机器臂前端设置高压喷头,晶托输送架体上设置晶托输送辊道;晶托输送架体上设置晶托挡停组件、晶托举升组件,晶托挡停组件设置在晶托举升组件前端。降低了人工劳动强度和人工成本,提高了生产效率和成品表面一致性,改善了现场脏乱差的作业环境。
Description
技术领域
本实用新型属于晶托除胶处理技术领域,本实用新型涉及一种高压水晶托除胶设备。
背景技术
传统的晶托除胶都是人工煮胶并除胶,场地脏乱,且耗费人力,劳动强度大,容易造成清胶不彻底和晶托表面清洁程度不均匀,或存在二次清胶的情况等。
实用新型内容
本实用新型的目的是克服上述背景技术中的不足,提供一种高压水晶托除胶设备,此设备是替代原有人工除胶,实现晶托的自动输送、挡停定位、抬起、除胶、水处理等工序,降低了人工劳动强度和人工成本,提高了生产效率和成品表面一致性,改善了现场脏乱差的作业环境,更加符合于6S的要求。
本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是:一种高压水晶托除胶设备,包括机器人架体、晶托输送架体;晶托输送架体设置在机器人架体的下方,机器人架体上设置机器人,机器人机器臂前端设置高压喷头,晶托输送架体上设置晶托输送辊道;晶托输送架体上设置晶托挡停组件、晶托举升组件,晶托挡停组件设置在晶托举升组件前端。
所述高压喷头配设有高压水箱,高压水箱出水口通过软管与高压喷头连接,软管上设置压力传感器和高压水泵。高压喷头用于晶托表面的冲洗除胶。
所述晶托输送辊道配设有驱动电机驱动辊道传送晶托。
所述晶托挡停组件包括气缸,气缸的气缸杆连接挡停杆,气缸杆伸出时,挡停杆穿设晶托输送辊道设置。晶托挡停组件用于挡停、长度方向定位晶托。
所述晶托举升组件包括举升气缸,举升气缸固定在固定板上,固定板设置在晶托输送架体上,固定板上方设置举升板,举升板设置在晶托输送辊道表面上;举升板底面设置导柱,固定板上开设孔设置导柱套,固定板和举升板通过导柱和导柱套连接;举升气缸气缸杆伸出时推动举升板向上移动。
所述机器人架体外周罩设透明有机玻璃。用于高压喷头溅水防护和高压水的观察人员安全。
所述整个设备底部设置污水槽,污水槽底部通过软管与沉淀箱入口连接,沉淀箱内部设置三个沉淀腔,每个沉淀腔之间通过挡板连接,挡板不封顶,挡板上端固定设置不锈钢滤网,不锈钢滤网封顶设置;沉淀箱的出口设置在沉淀箱的另一侧,沉淀箱的出口与高压水箱通过软管连接,且软管上设置过滤器。过滤器不做特殊限制。沉淀箱内的每个沉淀腔底部设置排污口,排污口外接排污管道。用于冲洗除胶污水以及硅泥的排入和干净循环水的排出。具体的流程为:污水经过整流流入沉淀箱进水口,经三次沉淀过滤后由出水口排水,以供高压水泵重复利用,真正做到了节约水资源。
晶托输送辊道上设置到位传感器。
进一步的,所述晶托输送辊道为晶托输送滚筒式;不限制具体型号,实现其工作功能即可。
进一步的,所述机器人为六轴机器人;不限制具体型号,实现其工作功能即可。
进一步的,所述高压喷头为2孔旋转冲洗式喷头;不限制具体型号,实现其工作功能即可。
进一步的,不锈钢滤网为一目不锈钢滤网。
进一步的,所述高压水箱和沉淀箱内均设有液位传感器。
所述设备还配设有PLC控制系统,所述机器人、驱动电机、到位传感器、高压水泵、压力传感器、气缸、举升气缸、高压喷头、液位传感器分别与PLC控制系统连接,且均不限制具体型号,实现其工作功能即可。
本实用新型与现有技术相比具有的有益效果是:
本实用新型提供的一种高压水晶托除胶设备,此设备是替代原有人工除胶,实现晶托的自动输送、挡停定位、抬起、除胶、水处理等工序,降低了人工劳动强度和人工成本,提高了生产效率和成品表面一致性,改善了现场脏乱差的作业环境,更加符合于6S的要求。且主功能方面包含了晶托的表面除胶、侧面除胶和4角除胶,作业环境方面包含了水防护和水处理,在达到晶托重复使用的需求后,还将现场作业环境和水资源的节约结合在一起,真正做到了节能环保的目的。
附图说明
下面结合附图和实施例对本实用新型进一步说明:
图1是本实用新型一种高压水晶托除胶设备的主视图。
图2是本实用新型一种高压水晶托除胶设备的侧视图。
图3是本实用新型一种高压水晶托除胶设备的俯视图。
图4是晶托结构示意图。
图5是晶托胶面示意图A。
图6是晶托胶面示意图B。
图7是晶托除胶顺序图。除胶按图中a-b-c-d-e-f-g顺序除胶。
图中1.晶托输送辊道,2.晶托挡停组件,3.晶托举升组件,4.晶托工件,5.机器人,6.高压喷头,7.胶面,8.角部胶面。
具体实施方式
以下结合说明书附图,对本实用新型进一步说明,但本实用新型并不局限于以下实施例。
实施例1
一种高压水晶托除胶设备,如图1-图3所示,包括机器人架体、晶托输送架体;晶托输送架体设置在机器人架体的下方,机器人架体上设置机器人5,机器人机器臂前端设置高压喷头6,晶托输送架体上设置晶托输送辊道1;晶托输送架体上设置晶托挡停组件2、晶托举升组件3,晶托挡停组件2设置在晶托举升组件3前端。
所述高压喷头6配设有高压水箱,高压水箱出水口通过软管与高压喷头6连接,软管上设置压力传感器和高压水泵。
所述晶托输送辊道1配设有驱动电机驱动辊道传送晶托。
所述晶托挡停组件2包括气缸,气缸的气缸杆连接挡停杆,气缸杆伸出时,挡停杆穿设晶托输送辊道1设置。
所述晶托举升组件3包括举升气缸,举升气缸固定在固定板上,固定板设置在晶托输送架体上,固定板上方设置举升板,举升板设置在晶托输送辊道1表面上;举升板底面设置导柱,固定板上开设孔设置导柱套,固定板和举升板通过导柱和导柱套连接;举升气缸气缸杆伸出时推动举升板向上移动。
所述机器人架体外周罩设透明有机玻璃。
所述整个设备底部设置污水槽,污水槽底部通过软管与沉淀箱入口连接,沉淀箱内部设置三个沉淀腔,每个沉淀腔之间通过挡板连接,挡板不封顶,挡板上端固定设置不锈钢滤网,不锈钢滤网封顶设置;沉淀箱的出口设置在沉淀箱的另一侧,沉淀箱的出口与高压水箱通过软管连接,且软管上设置过滤器。过滤器不做特殊限制。沉淀箱内的每个沉淀腔底部设置排污口,排污口外接排污管道。
晶托输送辊道1上设置到位传感器。
所述晶托输送辊道1为晶托输送滚筒式;不限制具体型号,实现其工作功能即可。
所述机器人5为六轴机器人;不限制具体型号,实现其工作功能即可。
所述高压喷头6为2孔旋转冲洗式喷头;不限制具体型号,实现其工作功能即可。
不锈钢滤网为一目不锈钢滤网。
所述高压水箱和沉淀箱内均设有液位传感器。
所述设备还配设有PLC控制系统,所述机器人5、驱动电机、到位传感器、高压水泵、压力传感器、气缸、举升气缸、高压喷头6、液位传感器分别与PLC控制系统连接,且均不限制具体型号,实现其工作功能即可。
粘有胶的晶托工件4经由晶托输送辊道1输送,在晶托输送辊道1将晶托工件4输送到位后,通过晶托挡停组件2的阻挡和晶托输送辊道1挡边的宽度方向定位后,由晶托举升组件3将晶托工件4抬起,为晶托工件4的高压冲洗做好准备工作,后续高压水泵工作,并将压力增加到设定压力(现有技术,不做特殊限定),同时高压水由高压喷头6喷出,高压喷头6为2孔旋转冲洗式喷头,可覆盖50mm的冲洗除胶区域,待冲洗压力稳定后,由机器人5驱动高压喷头6对晶托工件4的待除胶面进行冲洗除胶以及硅泥,冲洗的顺序依次为清洗晶托工件4的90度角、晶托工件4侧面、90度角、90度角、晶托工件4侧面、90度角、晶托工件4大面,具体的顺序请见图7。待晶托工件4各面均清胶完毕后,高压水泵停止供水,机器人5带动高压喷头6返回初始位置,晶托举升组件3下降回原位,晶托挡停组件2下降放行晶托工件4,晶托工件4输送至下一工位。此外,本设备在冲洗除胶时,为防止水花四溅和高压水伤人,在机器人架体四周设置了透明有机玻璃,透过玻璃可随时看到从冲洗情况;在冲洗的同时,冲洗污水顺流而下,来到沉淀箱,经过3次沉淀过滤后,污水变为清水,以供高压喷头6进行重复冲洗使用。
虽然,上文中已经用一般性说明及具体实施例对本实用新型作了详尽的描述,但在本实用新型基础上,可以对之作一些修改或改进,这对本领域技术人员而言是显而易见的。因此,在不偏离本实用新型精神的基础上所做的这些修改或改进,均属于本实用新型要求保护的范围。
Claims (8)
1.一种高压水晶托除胶设备,其特征是,包括机器人架体、晶托输送架体;晶托输送架体设置在机器人架体的下方,机器人架体上设置机器人(5),机器人机器臂前端设置高压喷头(6),晶托输送架体上设置晶托输送辊道(1);晶托输送架体上设置晶托挡停组件(2)、晶托举升组件(3),晶托挡停组件(2)设置在晶托举升组件(3)前端。
2.如权利要求1所述的一种高压水晶托除胶设备,其特征是,所述高压喷头(6)配设有高压水箱,高压水箱出水口通过软管与高压喷头(6)连接,软管上设置压力传感器和高压水泵。
3.如权利要求2所述的一种高压水晶托除胶设备,其特征是,所述晶托输送辊道(1)配设有驱动电机驱动辊道传送晶托。
4.如权利要求3所述的一种高压水晶托除胶设备,其特征是,所述晶托挡停组件(2)包括气缸,气缸的气缸杆连接挡停杆,气缸杆伸出时,挡停杆穿设晶托输送辊道(1)设置。
5.如权利要求4所述的一种高压水晶托除胶设备,其特征是,所述晶托举升组件(3)包括举升气缸,举升气缸固定在固定板上,固定板设置在晶托输送架体上,固定板上方设置举升板,举升板设置在晶托输送辊道(1)表面上;举升板底面设置导柱,固定板上开设孔设置导柱套,固定板和举升板通过导柱和导柱套连接。
6.如权利要求5所述的一种高压水晶托除胶设备,其特征是,所述机器人架体外周罩设透明有机玻璃。
7.如权利要求6所述的一种高压水晶托除胶设备,其特征是,整个设备底部设置污水槽,污水槽底部通过软管与沉淀箱入口连接,沉淀箱内部设置三个沉淀腔,每个沉淀腔之间通过挡板连接,挡板不封顶,挡板上端固定设置不锈钢滤网,不锈钢滤网封顶设置;沉淀箱的出口设置在沉淀箱的另一侧,沉淀箱的出口与高压水箱通过软管连接,且软管上设置过滤器。
8.如权利要求7所述的一种高压水晶托除胶设备,其特征是,晶托输送辊道(1)上设置到位传感器。
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