CN220091965U - 一种悬浊液旋涂装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型适用于旋涂技术领域，提供了一种悬浊液旋涂装置，包括：箱体，所述箱体的一侧设有控制器；旋转机构，所述旋转机构包括旋转电机、设于所述旋转电机的输出端的第一转轴、与所述第一转轴固定连接的静电吸附放置台以及设于所述静电吸附放置台上的基片；移动机构，所述移动机构包括第一转动电机、设于所述第一转动电机的输出端的第一螺杆以及与所述第一螺杆螺接的连接板；滴液机构，所述滴液机构包括第二转动电机、设于所述第二转动电机的输出端的第二转轴以及与所述第二转轴固定连接的距离调节组件，所述距离调节组件的底部设有将悬浊液滴基片表面的下液组件，借此，本实用新型适应不同面积的基片进行滴液的需求，提高滴液的均匀分布。

Description

一种悬浊液旋涂装置

技术领域

本实用新型涉及旋涂技术领域，尤其涉及一种悬浊液旋涂装置。

背景技术

在对二极管进行制作时，通常需要采用半导体进行制作，而在对半导体进行制作的过程中，通常要对其进行薄膜制备，而在进行薄膜制备时会用到旋涂的方法。旋涂是旋转涂抹法的简称，是有机发光二极管中常用的制备方法，旋涂法包括：配料，高速旋转，挥发成膜三个步骤，通过控制匀胶的时间，转速，滴液量以及所用溶液的浓度、粘度来控制成膜的厚度，将溶胶、溶液或悬浊液等均匀的平铺到表面。同时，为了提高成膜的效率，通常需要对高速旋转完成后的薄膜进行烘干。

例如申请号为CN201921652949.4的一种可自动烘干的旋涂机，上述实用新型专利通过设置有置物箱且设有电热丝，密封室加热，提高热量利用率，提高烘干效率；同时烘干时在置物箱内进行，防止涂膜受到污染和损坏；设置有防污罩防止在涂膜过程中，胶液溅射到电热丝上，影响电热丝工作。但上述实用新型专利在使用时，是通过滴胶孔进行滴胶，且滴胶孔的位置是固定的，所以胶滴在基片上的位置也是固定的，这样就不便于实现在基片上滴胶均匀的效果，如果基片的面积较小，则滴胶时会滴在基片的中心，且经过扩散后，基本能够实现均匀涂料的要求，但如果基片的面积较大，滴胶时会滴在基片的中心，经过扩散后，难以实现在基片的表面均匀分布，且此时如果长时间的等待胶的扩散，则会导致胶在扩散的过程中先行固化，而且仍然无法覆盖基片的表面。

综上可知，现有技术在实际使用上显然存在不便与缺陷，所以有必要加以改进。

实用新型内容

针对上述的缺陷，本实用新型的目的在于提供一种悬浊液旋涂装置，其可以通过距离调节组件带动下液组件在水平面上进行往复移动，从而使得在基片上的滴液面积增大，并且通过第二螺杆可以调整下液组件的往复移动的距离，以适应不同面积的基片进行滴液的需求，提高滴液的均匀分布。

为了实现上述目的，本实用新型提供一种悬浊液旋涂装置，包括：箱体，所述箱体的一侧设有控制器；设于所述箱体的内部的旋转机构，所述旋转机构包括旋转电机、设于所述旋转电机的输出端的第一转轴、与所述第一转轴的端部固定连接的静电吸附放置台以及设于所述静电吸附放置台上的基片；设于所述箱体的顶部的移动机构，所述移动机构包括第一转动电机、设于所述第一转动电机的输出端的第一螺杆以及与所述第一螺杆螺接的连接板；设于所述连接板的顶部的滴液机构，所述滴液机构包括第二转动电机、设于所述第二转动电机的输出端的第二转轴以及与所述第二转轴固定连接的距离调节组件，所述距离调节组件的底部设有将悬浊液滴到所述基片的表面的下液组件。

根据本实用新型的悬浊液旋涂装置，所述距离调节组件包括与所述第二转轴固定连接第一转盘、与所述第一转盘固定连接的凹槽、设于所述凹槽内的滑槽以及与所述滑槽的底面固定连接的第二转盘。

根据本实用新型的悬浊液旋涂装置，所述凹槽和滑槽的内部贯穿且螺接有第二螺杆。

根据本实用新型的悬浊液旋涂装置，所述第二转盘的内部设有导槽，且所述导槽内活动连接有连接柱。

根据本实用新型的悬浊液旋涂装置，所述下液组件包括与所述连接柱固定连接的横板以及设于所述横板的底面的下液漏斗，所述下液漏斗贯穿所述横板。

根据本实用新型的悬浊液旋涂装置，所述横板的顶面设有与所述横板铰接连接的盖板，所述盖板的顶面设有把手，所述盖板的面积大于所述下液漏斗的顶面的面积。

根据本实用新型的悬浊液旋涂装置，所述盖板处于闭合状态时，所述盖板的底面与所述横板的顶面相抵接。

根据本实用新型的悬浊液旋涂装置，所述连接板的顶部设有限位板，所述限位板与所述横板滑动连接，且所述限位板的底面设有大于所述下液漏斗的顶面的直径的活动空间。

根据本实用新型的悬浊液旋涂装置，所述箱体的顶面设有方便移动机构进行移动的方槽和方便静电吸附放置台进行旋转的圆槽。

本实用新型提供了一种悬浊液旋涂装置，包括：箱体，所述箱体的一侧设有控制器，通过控制器对旋转机构、移动机构和滴液机构进行控制；设于所述箱体的内部的旋转机构，所述旋转机构包括旋转电机、设于所述旋转电机的输出端的第一转轴、与所述第一转轴的端部固定连接的静电吸附放置台以及设于所述静电吸附放置台上的基片，通过旋转机构实现对基片的旋涂，静电吸附放置台可以防止基片发生掉落；设于所述箱体的顶部的移动机构，所述移动机构包括第一转动电机、设于所述第一转动电机的输出端的第一螺杆以及与所述第一螺杆螺接的连接板，移动机构避免了在对基片进行放置时的阻碍，同时也方便工作人员对圆槽的内部进行清洁；设于所述连接板的顶部的滴液机构，所述滴液机构包括第二转动电机、设于所述第二转动电机的输出端的第二转轴以及与所述第二转轴固定连接的距离调节组件，所述距离调节组件的底部设有将悬浊液滴到所述基片的表面的下液组件，距离调节组件和下液组件可以实现对基片的表面进行往复滴液，且可以调整往复移动的距离，以实现对不同大小的基片的滴液的均匀性。综上，本实用新型通过距离调节组件带动下液组件在水平面上进行往复移动，从而使得在基片上的滴液面积增大，并且通过第二螺杆可以调整下液组件的往复移动的距离，以适应不同面积的基片进行滴液的需求，提高滴液的均匀分布，且移动机构可以避免在对基片进行放置和拿取的阻碍，方便工作人员对圆槽的内部进行清洁。

附图说明

图1是本实用新型的立体图的结构示意图；

图2是本实用新型的侧视图的结构示意图；

图3是本实用新型的另一个视角的立体图的结构示意图；

图4是本实用新型的旋转机构的结构示意图；

图5是本实用新型的移动机构的结构示意图；

图6是本实用新型的滴液机构的结构示意图；

图7是本实用新型的第一转盘和凹槽的连接关系的结构示意图；

图8是本实用新型的第二转盘和滑槽的连接关系的结构示意图；

图9是本实用新型的导槽和连接柱的连接关系的结构示意图；

图10是本实用新型的限位板和横板以及下液漏斗的的位置关系的结构示意图；

在图中，1-箱体，2-控制器，3-旋转电机，4-第一转轴，5-静电吸附放置台，6-基片，7-第一转动电机，8-第一螺杆，9-连接板，10-第二转动电机，11-第二转轴，12-第一转盘，13-凹槽，14-滑槽，15-第二转盘，16-第二螺杆，17-连接柱，18-横板，19-下液漏斗，20-盖板，21-把手，22-限位板，23-方槽，24-圆槽，25-导槽。

具体实施方式

为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本实用新型进行进一步详细说明，应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。

需要说明的是，在本实用新型的描述中，术语“上”、“下”、“左”、“右”、“内”、“外”等指示的方向或位置关系的术语是基于附图所示的方向或位置关系，这仅仅是为了便于描述，而不是指示或暗示所述装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。

此外，还需要说明的是，在本实用新型的描述中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域技术人员而言，可根据具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

参见图1-图10，本实用新型提供了一种悬浊液旋涂装置，包括：箱体1，所述箱体1的一侧设有控制器2，通过控制器2对旋转机构、移动机构和滴液机构进行控制；设于所述箱体1的内部的旋转机构，所述旋转机构包括旋转电机3、设于所述旋转电机3的输出端的第一转轴4、与所述第一转轴4的端部固定连接的静电吸附放置台5以及设于所述静电吸附放置台5上的基片6。通过旋转机构实现对基片6的旋涂，静电吸附放置台5可以防止基片6发生掉落；设于所述箱体1的顶部的移动机构，所述移动机构包括第一转动电机7、设于所述第一转动电机7的输出端的第一螺杆8以及与所述第一螺杆8螺接的连接板9，移动机构避免了在对基片6进行放置时的阻碍，同时也方便工作人员对圆槽24的内部进行清洁；设于所述连接板9的顶部的滴液机构，所述滴液机构包括第二转动电机10、设于所述第二转动电机10的输出端的第二转轴11以及与所述第二转轴11固定连接的距离调节组件，所述距离调节组件的底部设有将悬浊液滴到所述基片的表面的下液组件，距离调节组件和下液组件可以实现对基片6的表面进行往复滴液，且可以调整往复移动的距离，以实现对不同大小的基片6的滴液的均匀性。

参见图2和图6-图9，优选的是，本实用新型的距离调节组件包括与第二转轴11固定连接第一转盘12、与第一转盘12固定连接的凹槽13、设于凹槽13内的滑槽14以及与滑槽14的底面固定连接的第二转盘15，通过第凹槽13和滑槽14可以调整第一转盘12和第二转盘15之间的位置，实现对往复移动距离的调整。

参见图2和图7-图8，另外，本实用新型的凹槽13和滑槽14的内部贯穿且螺接有第二螺杆16，通过第二螺杆16对滑槽14的位置进行调整。

参见图9，进一步的，本实用新型的第二转盘15的内部设有导槽25，且导槽25内活动连接有连接柱17，导槽25方便连接柱17在第二转盘15进行转动时不会同步进行运动。

参见图2、图6和图10，而且，本实用新型的下液组件包括与连接柱17固定连接的横板18以及设于横板18的底面的下液漏斗19，下液漏斗19贯穿横板18，通过连接柱17和横板18带动下液漏斗19进行往复移动。

参见图1、图3和图6，同时，本实用新型的横板18的顶面设有与横板18铰接连接的盖板20，盖板20的顶面设有把手21，盖板20的面积大于下液漏斗19的顶面的面积，盖板20可以防止在进行下液时，位于下液漏斗19内的液体或胶体发生泄漏，把手21方便对盖板20的开启和关闭。

参见图1-图3，更好的，本实用新型的盖板20处于闭合状态时，盖板20的底面与横板18的顶面相抵接，防止下液漏斗19内的液体或胶体发生泄漏。

参见图1-图3和图10，并且，连接板9的顶部设有限位板22，限位板22与横板18滑动连接，且限位板22的底面设有大于下液漏斗19的顶面的直径的活动空间，限位板22可以防止横板18进行转动，且只进行水平移动运动，且不会阻碍下液漏斗19的位置变化。

参见图1和图3，最后，本实用新型的箱体1的顶面设有方便移动机构进行移动的方槽23和方便静电吸附放置台5进行旋转的圆槽24，方槽23能够为移动机构进行移动提供空间，圆槽24可以为静电吸附放置台5的旋转提供空间，且能够阻碍基片6在进行旋转时位于基片6上的液体喷溅到圆槽24外部。

本实用新型的工作原理：

本实用新型的控制器2与旋转电机3、静电吸附放置台5、第一转动电机7和第二转动电机10线性连接。首先，通过控制器2开启第一转动电机7，第一转动电机7带动第一螺杆8进行转动，由于连接板9与第一螺杆8相螺接，且连接板9在方槽23内，所以第一螺杆8带动连接板9水平移动，连接板9的形状为L型，且第一螺杆8与垂直于箱体1的顶面的一侧连接，在连接板9远离圆槽24后，方便工作人员将基片6放入到圆槽24内的静电吸附放置台5上，然后通过控制器2将连接板9进行复位，复位的位置要以基片6的位置为准，接下来，工作人员手动转动第二螺杆16，凹槽13与滑槽14都与第二螺杆16相螺接，且凹槽13与第一转盘12固定连接，第一转盘12与第二转轴11固定连接，滑槽14位于凹槽13内，滑槽14与第二转盘15固定连接，所以当转动第二螺杆16时，滑槽14会带动第二转盘15进行移动，第二转盘15的移动会导致第二转盘15与第一转盘12的连接点的变化，从而改变了第一转盘12带动第二转盘15进行转动时的转动幅度，同时也改变了横板18的往复移动距离，且上述往复移动距离是根据基片6的大小由工作人员按上述步骤进行调整，当调整好后，即可通过把手21打开盖板20，向下液漏斗19内添加悬浊液等液体或胶体，然后关闭盖板20，通过控制器2启动第二转动电机10，第二转动电机10带动第二转轴11进行转动，第二转轴11带动第一转盘12进行转动，第一转盘12的转动带动凹槽13和滑槽14进行转动，进而实现第二转盘15的转动，第二转盘15在转动时，由于连接柱17与横板18固定连接，横板18与限位板22滑动连接，所以在限位板22的限位作用下，会使得连接柱17不会随着第二转盘15的旋转而同步旋转，由于工作人员转动第二螺杆16后第二转盘15的位置发生变化，所以第二转盘15在第一转盘12进行转动时进行偏心运动，从而使得横板18在连接柱17的带动下进行往复平移运动，从而使得下液漏斗19能够在平移的同时将液体或胶体滴在基片6上，提高基片6上的液体的均匀分布，然后待液体扩散结束后，即可通过控制器2启动静电吸附放置台5，提高基片6的稳定性，然后通过控制器2启动旋转电机3，通过旋转电机3带动第一转轴4进行转动，第一转轴4的转动带动静电吸附放置台5进行转动，进而带动基片6进行转动，通过高速转动，使得基片6的表面形成薄膜。待使用结束后，可以通过控制器2使得第一转动电机7进行反转，然后带动连接板9远离圆槽24，方便工作人员对基片6的拿取以及对圆槽24的内壁的清洁。

综上所述，本实用新型提供了一种悬浊液旋涂装置，包括：箱体，所述箱体的一侧设有控制器，通过控制器对旋转机构、移动机构和滴液机构进行控制；设于所述箱体的内部的旋转机构，所述旋转机构包括旋转电机、设于所述旋转电机的输出端的第一转轴、与所述第一转轴的端部固定连接的静电吸附放置台以及设于所述静电吸附放置台上的基片，通过旋转机构实现对基片的旋涂，静电吸附放置台可以防止基片发生掉落；设于所述箱体的顶部的移动机构，所述移动机构包括第一转动电机、设于所述第一转动电机的输出端的第一螺杆以及与所述第一螺杆螺接的连接板，移动机构避免了在对基片进行放置时的阻碍，同时也方便工作人员对圆槽的内部进行清洁；设于所述连接板的顶部的滴液机构，所述滴液机构包括第二转动电机、设于所述第二转动电机的输出端的第二转轴以及与所述第二转轴固定连接的距离调节组件，所述距离调节组件的底部设有将悬浊液滴到所述基片的表面的下液组件，距离调节组件和下液组件可以实现对基片的表面进行往复滴液，且可以调整往复移动的距离，以实现对不同大小的基片的滴液的均匀性。综上，本实用新型通过距离调节组件带动下液组件在水平面上进行往复移动，从而使得在基片上的滴液面积增大，并且通过第二螺杆可以调整下液组件的往复移动的距离，以适应不同面积的基片进行滴液的需求，提高滴液的均匀分布，且移动机构可以避免在对基片进行放置和拿取的阻碍，方便工作人员对圆槽的内部进行清洁。

当然，本实用新型还可有其它多种实施例，在不背离本实用新型精神及其实质的情况下，熟悉本领域的技术人员当可根据本实用新型作出各种相应的改变和变形，但这些相应的改变和变形都应属于本实用新型所附的权利要求的保护范围。

Claims (9)

1.一种悬浊液旋涂装置，其特征在于，包括：箱体，所述箱体的一侧设有控制器；

设于所述箱体的内部的旋转机构，所述旋转机构包括旋转电机、设于所述旋转电机的输出端的第一转轴、与所述第一转轴的端部固定连接的静电吸附放置台以及设于所述静电吸附放置台上的基片；

设于所述箱体的顶部的移动机构，所述移动机构包括第一转动电机、设于所述第一转动电机的输出端的第一螺杆以及与所述第一螺杆螺接的连接板；

设于所述连接板的顶部的滴液机构，所述滴液机构包括第二转动电机、设于所述第二转动电机的输出端的第二转轴以及与所述第二转轴固定连接的距离调节组件，所述距离调节组件的底部设有将悬浊液滴到所述基片的表面的下液组件。

2.根据权利要求1所述的悬浊液旋涂装置，其特征在于，所述距离调节组件包括与所述第二转轴固定连接第一转盘、与所述第一转盘固定连接的凹槽、设于所述凹槽内的滑槽以及与所述滑槽的底面固定连接的第二转盘。

3.根据权利要求2所述的悬浊液旋涂装置，其特征在于，所述凹槽和滑槽的内部贯穿且螺接有第二螺杆。

4.根据权利要求2所述的悬浊液旋涂装置，其特征在于，所述第二转盘的内部设有导槽，且所述导槽内活动连接有连接柱。

5.根据权利要求4所述的悬浊液旋涂装置，其特征在于，所述下液组件包括与所述连接柱固定连接的横板以及设于所述横板的底面的下液漏斗，所述下液漏斗贯穿所述横板。

6.根据权利要求5所述的悬浊液旋涂装置，其特征在于，所述横板的顶面设有与所述横板铰接连接的盖板，所述盖板的顶面设有把手，所述盖板的面积大于所述下液漏斗的顶面的面积。

7.根据权利要求6所述的悬浊液旋涂装置，其特征在于，所述盖板处于闭合状态时，所述盖板的底面与所述横板的顶面相抵接。

8.根据权利要求6所述的悬浊液旋涂装置，其特征在于，所述连接板的顶部设有限位板，所述限位板与所述横板滑动连接，且所述限位板的底面设有大于所述下液漏斗的顶面的直径的活动空间。

9.根据权利要求1所述的悬浊液旋涂装置，其特征在于，所述箱体的顶面设有方便移动机构进行移动的方槽和方便静电吸附放置台进行旋转的圆槽。