CN220051347U - 磨片设备 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种磨片设备，磨片设备包括：第一平台和第二平台。第一平台上设置有固定器，固定器用于固定待打磨件，固定器设置于第一平台，第二平台上设置有研磨件，研磨件与待打磨件贴合设置，研磨件设置于第二平台，以研磨待打磨件。其中，第一平台、固定器和研磨件中，至少两个保持转动。本申请的磨片设备，能够提高对待打磨件的研磨效果和研磨的稳定性，加快研磨速度，缩短研磨时间。

Description

磨片设备

技术领域

本实用新型涉及磨片加工技术领域，尤其是涉及一种磨片设备。

背景技术

在对氧化物固态电解质材料进行性能测试的过程中，通常通过将材料冷压成片并进行埋料烧结后，形成陶瓷片并进行后续测试。然而经过埋料烧结形成陶瓷片，存在表面粗糙或表面存在杂质等问题，对材料的正常测试带入误差。

为了保证对材料测试的准确性，需要对陶瓷片的表面进行研磨并使其光滑。在现有的研磨方式中，由于陶瓷片的体积较小，其不适用于大型的陶瓷磨片设备，通常采用手工研磨。但手工研磨容易存在研磨厚度不均匀、研磨效果不可控、陶瓷片易损坏、研磨光滑程度不高等问题。

实用新型内容

本实用新型旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本实用新型的一个目的在于提出一种磨片设备，所述磨片设备能够提高对待打磨件的研磨效果和研磨的稳定性。

根据本实用新型实施例的磨片设备，包括：第一平台，所述第一平台上设置有固定器，所述固定器用于固定待打磨件，所述固定器设置于所述第一平台；第二平台，所述第二平台上设置有研磨件，所述研磨件与所述待打磨件贴合设置，所述研磨件设置于所述第二平台，以研磨所述待打磨件；其中，所述第一平台、所述固定器和所述研磨件中，至少两个保持转动。

根据本实用新型实施例的磨片设备，待打磨件能够与研磨件贴合并保持稳定的相对运动，能够提高对待打磨件的研磨效果以及研磨的稳定性。第一平台、固定器和研磨件中的至少两个保持转动，可加快研磨速度，缩短研磨时间。

同时，待打磨件自身转动具有离心力，待打磨件随第一平台的转动也具有离心力，研磨过程中产生的粉末能够在离心力的作用下离开待打磨件，相应地，研磨件的转动也具有离心力，研磨过程中产生的粉末能够在离心力的作用下离开研磨件，从而减少或避免粉末对研磨效果的影响，进一步提高对待打磨件的研磨效果。

在一些实施例中，所述第一平台与所述第二平台同轴设置，且所述固定器为多个，多个所述固定器在所述第一平台的轴线的周向上间隔设置。

在一些实施例中，所述第一平台与所述第二平台同轴设置，且所述固定器为多个，多个所述固定器在所述第一平台的轴线的径向上错位设置。

在一些实施例中，所述第一平台包括：第一转动台，所述固定器可转动地设置于所述第一转动台，所述第一转动台绕所述第一平台的轴线转动，所述固定器绕自身的轴线转动，所述研磨件固定设置在所述第二平台上。

在一些实施例中，所述第一平台相对其轴线保持固定，所述固定器可转动地设置于所述第一平台，所述固定器在所述第一平台上绕自身轴线转动，所述研磨件可转动地设置在所述第二平台上，所述研磨件绕所述第二平台的轴线转动。

在一些实施例中，所述第一平台包括：第一转动台，所述固定器固定设置于所述第一转动台，所述第一转动台绕所述第一平台的轴线转动，所述研磨件可转动地设置在所述第二平台上，所述研磨件绕所述第二平台的轴线转动，且所述第一转动台与所述研磨件的转动方向不同；或者，所述第一转动台与所述研磨件的转动方向相同，但转速不同。

在一些实施例中，所述第一平台包括：第一转动台，所述固定器可转动地设置于所述第一转动台，所述第一转动台绕所述第一平台的轴线转动，所述固定器绕自身的轴线转动；所述研磨件可转动地设置在所述第二平台上，所述研磨件绕所述第二平台的轴线转动，且所述第一转动台与所述研磨件的转动方向不同；或者，所述第一转动台与所述研磨件的转动方向相同，但转速不同。

进一步地，所述第一平台还包括：第一驱动件，所述第一驱动件与所述固定器、所述第一转动台通过一行星轮系实现动力传递。

进一步地，所述行星轮系包括：太阳轮、至少一个行星轮以及齿圈，所述行星轮与所述固定器相连，所述太阳轮与所述第一驱动件相连，所述齿圈与所述第一转动台相连。

进一步地，所述行星轮系包括：太阳轮、至少一个行星轮以及齿圈，所述行星轮与所述固定器相连，所述太阳轮与所述第一转动台相连，所述齿圈与所述第一驱动件相连。

在一些实施例中，所述第二平台包括：第二转动台，所述研磨件可拆卸地设置于所述第二转动台，并适于与所述第二转动台同步转动。

进一步地，所述第二平台还包括：第二驱动件，所述第二驱动件与所述第二转动台通过传动组件实现动力传递。

进一步地，所述第二平台还包括：收集件，所述收集件设置于所述第二转动台，所述收集件用于收集研磨粉末。

在一些实施例中，所述磨片设备还包括：防护罩，所述防护罩罩设在所述第一平台、所述第二平台外。

本实用新型的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本实用新型的实践了解到。

附图说明

本实用新型的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中：

图1是根据本实用新型实施例的磨片设备的侧视图；

图2是根据本实用新型实施例的磨片设备的俯视图。

附图标记：

磨片设备100、

待打磨件10、

第一平台11、

第二平台12、研磨件121、第二转动台122、第二驱动件123、传动组件124、收集件125、

固定器13、

防护罩14、

转动轨迹L。

具体实施方式

下面详细描述本实用新型的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，仅用于解释本实用新型，而不能理解为对本实用新型的限制。

在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。

在本实用新型的描述中，“第一特征”、“第二特征”可以包括一个或者更多个该特征。在本实用新型的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上。在本实用新型的描述中，第一特征在第二特征“之上”或“之下”可以包括第一和第二特征直接接触，也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。在本实用新型的描述中，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。

下面参考附图描述根据本实用新型实施例的磨片设备100。

如图1、图2所示，根据本实用新型实施例的磨片设备100，包括：第一平台11和第二平台12。第一平台11上设置有固定器13，固定器13用于固定待打磨件10，固定器13设置于第一平台11。第二平台12上设置有研磨件121，研磨件121与待打磨件10贴合设置，研磨件121设置于第二平台12，以研磨待打磨件10。

其中，第一平台11、固定器13和研磨件121中，至少两个保持转动。

可以理解的是，当研磨件121与待打磨件10贴合并进行相对运动时，研磨件121与待打磨件10之间产生摩擦，从而实现对待打磨件10的研磨。而研磨件121和待打磨件10之间的相对运动，通过控制第一平台11、固定器13和研磨件121中的至少两个保持转动实现，可加快研磨速度，缩短研磨时间。

由此，通过固定器13固定待打磨件10，且固定件13与研磨件121之间产生相对的转动或移动，使研磨件121与待打磨件10贴合并进行相对运动，实现对待打磨件10的研磨。此外，通过控制固定器13、第一平台11和第二平台12的转速和转向以及研磨件121的种类不变，能够控制对待打磨件10的研磨效果一致，从而保证对不同待打磨件10研磨效果的一致性。

本申请的磨片设备100，待打磨件10能够与研磨件121贴合并保持稳定的相对运动，能够提高对待打磨件10的研磨效果以及研磨的稳定性。同时，待打磨件10自身转动具有离心力，待打磨件10随第一平台11的转动也具有离心力，研磨过程中产生的粉末能够在离心力的作用下离开待打磨件10，相应地，研磨件121的转动也具有离心力，研磨过程中产生的粉末能够在离心力的作用下离开研磨件121，从而减少或避免粉末对研磨效果的影响，进一步提高对待打磨件10的研磨效果。

需要说明的是，上述的研磨效果包括但不限于：研磨厚度的一致性，研磨后待打磨件10的光滑程度，研磨的可控性。

本申请中，对第一平台11、研磨件121和固定器13的转动方向以及转动速度不作限定，其只需能够实现研磨件121与待打磨件10的相对运动。例如，研磨件121与固定器13的旋转轴同轴时，第一平台11不转动，研磨件121与固定器13的转动方向不同，或者研磨件121与固定器13的转动方向相同但转速不同。又例如，研磨件121与固定器13的旋转轴不同轴时，固定器13不转动，第一平台11和研磨件121之间相对转动，以使第一平台11带动待打磨件10与研磨件121产生相对运动。在图2的示例中，固定器13相对第一平台11沿转动轨迹L转动，此时，固定器13相对第二平台12的转动轨迹也为L。

本申请中，对固定器13固定待打磨件10的方式不做限定。例如，固定器13通过真空吸附固定待打磨件10。又例如，待打磨件10卡接在固定器13上，以实现对待打磨件10的固定。

在一些实施例中，如图1、图2所示，第一平台11与第二平台12同轴设置，且固定器13为多个，由此，每个固定器13能够固定一个待打磨件10，从而磨片设备100能够同时对多个待打磨件10进行研磨，提高研磨效率。此外，多个固定器13在第一平台11的轴线的周向上间隔设置，使每个固定器13与研磨件121之间的相对运动一致，从而保证对多个待打磨件10的研磨效果一致。

在一些实施例中，第一平台11与第二平台12同轴设置，固定器13为多个，且多个固定器13在第一平台11的轴线的径向上错位设置。由此，多个待打磨件10与研磨件121之间能够在研磨件121的轴线的径向上的不同位置接触，从而研磨件121在其轴线的径向上的不同位置均能够对待打磨件10进行研磨，提高对研磨件121的利用率。

在一些实施例中，如图1、图2所示，第一平台11包括：第一转动台(图中未示出)，固定器13可转动地设置于第一转动台，第一转动台绕第一平台11的轴线转动，固定器13绕自身的轴线转动，研磨件121固定设置在第二平台12上。

由此，固定器13绕自身的轴线进行自转，且第一转动台与研磨件121之间产生相对转动，使固定器13相对研磨件121的移动形成同时具有自转和公转的行星转动方式，从而固定器13上的待打磨件10与研磨件121之间的相对运动方向能够不断变化，在提高对待打磨件10研磨速度的同时，使待打磨件10受到的研磨更为均匀。

在一些实施例中，第一平台11相对其轴线保持固定，固定器13可转动地设置于第一平台11，固定器13在第一平台11上绕自身轴线转动，研磨件121可转动地设置在第二平台12上，研磨件121绕第二平台12的轴线转动。

由此，固定器13绕自身的轴线进行自转，且第一转动台与研磨件121之间也能够产生相对转动，使固定器13相对研磨件121的移动形成同时具有自转和公转的行星转动方式，从而固定器13上的待打磨件10与研磨件121之间的相对运动方向能够不断变化，在提高对待打磨件10研磨速度的同时，使待打磨件10受到的研磨更为均匀。

在一些实施例中，第一平台11包括：第一转动台，固定器13固定设置于第一转动台，第一转动台绕第一平台11的轴线转动，研磨件121可转动的设置在第二平台12上，研磨件121绕第二平台12的轴线转动，且第一转动台与研磨件121的转动方向不同；或者，第一转动台与研磨件121的转动方向相同，但转速不同。

由此，使第一转动台与研磨件121之间保持相对转动，即待打磨件10在研磨件121上能够保持相对移动，且两者之间的相对移动较为稳定，能够提高对待打磨件10的研磨速度，并使待打磨件10受到的研磨更为均匀。

在一些实施例中，如图1所示，第一平台11包括：第一转动台(图中未示出)，固定器13设置于第一转动台，第一转动台绕第一平台11的轴线转动，固定器13绕自身的轴线转动，研磨件121可转动地设置在第二平台12上，研磨件121绕第二平台12的轴线转动，且第一转动台与研磨件121的转动方向不同；或者，第一转动台与研磨件121的转动方向相同，但转速不同。

由此，固定器13绕自身的轴线进行自转，而第一转动台和研磨件121之间产生相对转动，使固定器13整体沿第一平台11的轴线转动，固定器13相对研磨件121的移动能够形成同时具有自转和公转的行星转动方式，从而固定器13上的待打磨件10与研磨件121之间的相对运动方向能够不断变化，能够提高对待打磨件10的研磨速度，并使待打磨件10受到的研磨更为均匀。

进一步地，第一平台11还包括：第一驱动件，第一驱动件与固定器13、第一转动台通过一行星轮系(图中未示出)实现动力传递。由此，第一驱动件能够驱动并控制固定器13的转动以及第一转动平台的转动。

需要说明的是，当第一平台11上设置有多个固定器13时，第一驱动件能够同时驱动多个固定器13的自转。

本申请中对第一驱动件的类型不做限定。例如，第一驱动件可以采用电机。

进一步地，行星轮系包括：太阳轮、至少一个行星轮以及齿圈，行星轮与固定器13相连，太阳轮与第一驱动件相连，齿圈与第一转动台相连。

可以理解的是，在第一驱动件实现动力传递的过程中，第一驱动件驱动太阳轮转动，而所有行星轮在太阳轮的周向上间隔排布，太阳轮同时带动所有行星轮转动，使每一个行星轮在围绕太阳轮转动的同时进行自转，且行星轮之间的转动互不干扰。此外，齿圈沿太阳轮的径向环绕在所有行星轮的外侧，使所有行星轮能够同时带动齿圈转动，且齿圈的转动轴与太阳轮的转动轴重合，即，每一个行星轮整体也围绕齿圈的转动轴旋转。

由此，齿圈能够带动第一转动台旋转，而行星轮能够带动固定器13自转，且每一个行星轮能够独立自转并与齿圈同轴转动，即固定器13在进行自转的同时能够与第一转动台同轴转动，以实现待打磨件10的自转以及其相对研磨件121的转动。

进一步地，行星轮系包括：太阳轮、至少一个行星轮以及齿圈，行星轮与固定器13相连，太阳轮与第一转动台相连，齿圈与第一驱动件相连。

可以理解的是，在第一驱动件实现动力传递的过程中，第一驱动件驱动齿圈转动，而齿圈带动行星轮转动，使行星轮在齿圈的带动下相对齿圈的轴线产生转动，同时行星轮能够进行自转。此外，行星轮环绕在太阳轮沿径向的外侧，使太阳轮能够在行星轮的带动下转动，且齿圈的转动轴与太阳轮的转动轴重合，即，行星轮整体也围绕太阳轮的转动轴旋转。

由此，每一个行星轮对应连接一个固定器13，且每一个行星轮能够独立自转并同时围绕太阳轮转动，即固定器13在进行自转的同时能够随第一转动台转动，从而实现每一个待打磨件10的自转以及其相对研磨件121的转动。

在一些实施例中，如图1所示，第二平台12包括：第二转动台122，研磨件121可拆卸地设置于第二转动台122，并适于与第二转动台122同步转动。

可以理解的是，研磨件121在长期使用下会逐渐产生磨损，导致研磨件121的研磨效果降低，同时，研磨过程中产生的粉末容易在研磨件121表面堆积，也容易导致研磨件121的研磨效果降低。

由此，研磨件121可拆卸的设置在第二转动台122，能够便于对研磨件121进行更换，以保证研磨件121对待打磨件10的研磨效果。同时，能够通过更换不同的研磨件121，以实现对待打磨件10的不同的研磨效果。此外，第二转动台122能够带动研磨件121的转动。

进一步地，第二平台12还包括：第二驱动件123，第二驱动件123与第二转动台122通过传动组件124实现动力传递，从而第二驱动件123能够驱动并控制第二转动台122的转动。

可以理解的是，在对待打磨件10进行研磨的过程中，待打磨件10与研磨件121之间产生较大的摩擦力，导致对固定件相对第二转动平台的转动产生阻力。

由此，第二驱动件123输出的动力经过传动组件124后传递至第二转动台122，传动组件124在动力传递的过程中起到降低转速并增大扭矩的作用，从而提高第二转动台122转动的扭矩，使第二转动台122能够更好的克服阻力转动，从而提高第二转动台122转动的稳定性，提高对待打磨件10的研磨效果。

本申请对传动组件124的结构不作限定，传动组件124只需能够实现增大转动扭矩的作用即可。例如，在图1的示例中，传动组件124设置为齿轮组，从第二驱动件123至第二转动台122的动力传递方向上，齿轮组中的齿轮直径逐渐增大。又例如，转动组件可设置为采用链条传动的结构。

本申请中对第二驱动件123的类型不做限定。例如，第二驱动件123可以采用电机。

进一步地，第二平台12还包括：收集件125，收集件125设置于第二转动台122，收集件125用于收集研磨粉末。

可以理解的是，在对待打磨件10进行研磨的过程中，研磨产生的粉末容易在研磨件121表面堆积，容易导致研磨件121的研磨效果降低。

由此，研磨产生的粉末能够被收集至收集件125中，从而减少研磨件121表面堆积的粉末，减少粉末对研磨效果的影响。

本申请中，对收集件125的结构不作限定。在图1的示例中，收集件125形成为围绕第二转动台122设置的收集槽。

在一些实施例中，如图1所示，磨片设备100还包括：防护罩14，防护罩14罩设在第一平台11、第二平台12外。可以理解的是，研磨过程中产生的部分粉末容易飘散至空气中，而操作人员吸入过多粉末后容易对身体产生影响。

由此，防护罩14的设置能够减少或避免粉末飘散至磨片设备100外，同时，当待打磨件10从固定器13脱落并被甩出第一平台11时，防护罩14能够对待打磨件10进行阻挡，从而提高磨片设备100工作的安全性。

本申请中，该磨片设备100不仅适用于固态电解质(包括但不限于氧化物和硫化物等)烧结材料的研磨作业，也适用于其他类型陶瓷材质的研磨作业。

在本说明书的描述中，参考术语“一个实施例”、“一些实施例”、“示意性实施例”、“示例”、“具体示例”、或“一些示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本实用新型的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施例或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。

尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，本领域的普通技术人员可以理解：在不脱离本实用新型的原理和宗旨的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由权利要求及其等同物限定。

Claims (14)

1.一种磨片设备，其特征在于，包括：

第一平台(11)，所述第一平台(11)上设置有固定器(13)，所述固定器(13)用于固定待打磨件(10)，所述固定器(13)设置于所述第一平台(11)；

第二平台(12)，所述第二平台(12)上设置有研磨件(121)，所述研磨件(121)与所述待打磨件(10)贴合设置，所述研磨件(121)设置于所述第二平台(12)，以研磨所述待打磨件(10)；其中，

所述第一平台(11)、所述固定器(13)和所述研磨件(121)中，至少两个保持转动。

2.根据权利要求1所述的磨片设备，其特征在于，所述第一平台(11)与所述第二平台(12)同轴设置，且所述固定器(13)为多个，多个所述固定器(13)在所述第一平台(11)的轴线的周向上间隔设置。

3.根据权利要求1所述的磨片设备，其特征在于，所述第一平台(11)与所述第二平台(12)同轴设置，且所述固定器(13)为多个，多个所述固定器(13)在所述第一平台(11)的轴线的径向上错位设置。

4.根据权利要求1-3中任一项所述的磨片设备，其特征在于，所述第一平台(11)包括：第一转动台，所述固定器(13)可转动地设置于所述第一转动台，所述第一转动台绕所述第一平台(11)的轴线转动，所述固定器(13)绕自身的轴线转动，

所述研磨件(121)固定设置在所述第二平台(12)上。

5.根据权利要求1-3中任一项所述的磨片设备，其特征在于，所述第一平台(11)相对其轴线保持固定，所述固定器(13)可转动地设置于所述第一平台(11)，所述固定器(13)在所述第一平台(11)上绕自身轴线转动，

所述研磨件(121)可转动地设置在所述第二平台(12)上，所述研磨件(121)绕所述第二平台(12)的轴线转动。

6.根据权利要求1-3中任一项所述的磨片设备，其特征在于，所述第一平台(11)包括：第一转动台，所述固定器(13)固定设置于所述第一转动台，所述第一转动台绕所述第一平台(11)的轴线转动，

所述研磨件(121)可转动地设置在所述第二平台(12)上，所述研磨件(121)绕所述第二平台(12)的轴线转动，且所述第一转动台与所述研磨件(121)的转动方向不同；

或者，所述第一转动台与所述研磨件(121)的转动方向相同，但转速不同。

7.根据权利要求1-3中任一项所述的磨片设备，其特征在于，所述第一平台(11)包括：第一转动台，所述固定器(13)可转动地设置于所述第一转动台，所述第一转动台绕所述第一平台(11)的轴线转动，所述固定器(13)绕自身的轴线转动，

所述研磨件(121)可转动地设置在所述第二平台(12)上，所述研磨件(121)绕所述第二平台(12)的轴线转动，且所述第一转动台与所述研磨件(121)的转动方向不同；

或者，所述第一转动台与所述研磨件(121)的转动方向相同，但转速不同。

8.根据权利要求7所述的磨片设备，其特征在于，所述第一平台(11)还包括：第一驱动件，所述第一驱动件与所述固定器(13)、所述第一转动台通过一行星轮系实现动力传递。

9.根据权利要求8所述的磨片设备，其特征在于，所述行星轮系包括：太阳轮、至少一个行星轮以及齿圈，所述行星轮与所述固定器(13)相连，所述太阳轮与所述第一驱动件相连，所述齿圈与所述第一转动台相连。

10.根据权利要求8所述的磨片设备，其特征在于，所述行星轮系包括：太阳轮、至少一个行星轮以及齿圈，所述行星轮与所述固定器(13)相连，所述太阳轮与所述第一转动台相连，所述齿圈与所述第一驱动件相连。

11.根据权利要求1所述的磨片设备，其特征在于，所述第二平台(12)包括：第二转动台(122)，所述研磨件(121)可拆卸地设置于所述第二转动台(122)，并适于与所述第二转动台(122)同步转动。

12.根据权利要求11所述的磨片设备，其特征在于，所述第二平台(12)还包括：第二驱动件(123)，所述第二驱动件(123)与所述第二转动台(122)通过传动组件(124)实现动力传递。

13.根据权利要求11所述的磨片设备，其特征在于，所述第二平台(12)还包括：收集件(125)，所述收集件(125)设置于所述第二转动台(122)，所述收集件(125)用于收集研磨粉末。

14.根据权利要求1所述的磨片设备，其特征在于，还包括：防护罩(14)，所述防护罩(14)罩设在所述第一平台(11)、所述第二平台(12)外。