CN220027005U - 一种新型搪瓷反应釜 - Google Patents

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缪振勇
吴浩然
戴振斌
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Abstract

本实用新型公开了一种新型搪瓷反应釜,涉及化工设备技术领域,包括搪瓷反应釜本体,该新型搪瓷反应釜,搅拌轴搅拌物料的同时能够带动提升臂和搅拌叶同步转动,楔形块间歇推动凸块向下移动,使得T形升降块杆在转动过程中同时能够实现上下升降运动,解决了目前搪瓷反应釜内的搅拌叶均是固定安装在搅拌轴上不能上下移动的情况,使得本装置搅拌动作在轴向搅拌物料的同时能够是实现上下翻料的目的,实现搪瓷反应釜本体内上层和下层物料能够快速混合,提高搪瓷反应釜本体化学药剂生产效率。利用楔形块在凸块转动过程中间歇式推动其下移,该过程无需为升降臂的升降单独设置驱动装置,节省了制造成本,同时使得本装置结构更加简单。

Description

一种新型搪瓷反应釜
技术领域
本实用新型涉及化工设备技术领域,具体为一种新型搪瓷反应釜。
背景技术
搪瓷反应釜内表面衬有一层搪瓷层,搪瓷层具有玻璃的稳定性和金属强度的双重优点,所以搪瓷反应釜是一种优良的耐腐蚀设备,从而广泛应用于化工、医药、农药和燃料等领域。目前搪瓷反应釜内的搅拌装置利用搅拌叶对化学原料进行搅拌,而搅拌叶都是固定安装在搅拌轴上,不能上下移动,这导致搅拌动作固定不变,位于反应釜内的上层和下层物料无法快速混合,要实现原料混合均匀往往需要消耗较长时间。为此,本实用新型提出了一种新型搪瓷反应釜以解决上述问题。
实用新型内容
针对现有技术的不足,本实用新型提供了一种新型搪瓷反应釜,解决了目前搪瓷反应釜内的搅拌叶都是固定安装在搅拌轴上,不能上下移动,导致搅拌动作固定不变,位于反应釜内上层和下层物料无法快速混合,要实现原料混合均匀需要消耗较长时间的问题。
为实现以上目的,本实用新型通过以下技术方案予以实现:一种新型搪瓷反应釜,包括搪瓷反应釜本体,所述搪瓷反应釜本体外壁两侧的上方和下方分别设置有加料斗和排料管,所述搪瓷反应釜本体腔体内部设置有用于搅拌物料的混料机构,其顶部设置有用于控制混料机构升降的顶升机构,混料机构包括搅拌轴、T形升降槽、T形升降块杆、搅拌叶、提拉臂、导向板凸块和弹簧,所述T形升降槽对称开设在搅拌轴的外壁两侧,两个所述T形升降块杆滑动设置在两个T形升降槽的内部,所述搅拌叶均匀固定设置在T形升降块杆的外壁上,所述提拉臂固定设置在T形升降块杆侧壁上,所述导向板共同滑动套设在两个提拉臂的外壁上,所述凸块固定设置在提拉臂的顶端,所述弹簧套设在位于导向板和凸块之间的提拉臂外壁上。
顶升机构包括盖板、电机支架、环形槽、楔形块和伺服电机,所述电机支架固定设置在盖板的顶部,所述盖板顶部开设有圆形通孔,所述环形槽开设在圆形通孔的侧壁上,所述楔形块均匀固定设置在电机支架,用于间歇下推凸块运动,所述伺服电机固定设置在电机支架的顶部。
进一步的,所述搪瓷反应釜本体包括反应筒体和搪瓷层,搪瓷层固定设置在反应筒体的内壁上。
进一步的,所述导向板两端滑动连接在环形槽的内部。
进一步的,所述伺服电机输出轴转动贯穿导向板和电机支架通过联轴器和搅拌轴相连接。
进一步的,所述盖板通过螺栓可拆卸固定在搪瓷反应釜本体顶部,两个所述凸块转动时形成的圆形半径和两个楔形块所在圆周半径相同。
进一步的,所述搅拌轴和搅拌叶外表面均涂覆有防护膜,防护膜与化学药剂不发生任何化学反应。
有益效果
本实用新型提供了一种新型搪瓷反应釜。与现有技术相比具备以下有益效果:
1、一种新型搪瓷反应釜,通过搪瓷反应釜本体外壁两侧的上方和下方分别设置有加料斗和排料管,搪瓷反应釜本体腔体内部设置有用于搅拌物料的混料机构,其顶部设置有用于控制混料机构升降的顶升机构,混料机构包括搅拌轴、T形升降槽、T形升降块杆、搅拌叶、提拉臂、导向板凸块和弹簧,T形升降槽对称开设在搅拌轴的外壁两侧,两个T形升降块杆滑动设置在两个T形升降槽的内部,搅拌叶均匀固定设置在T形升降块杆的外壁上,提拉臂固定设置在T形升降块杆侧壁上,导向板共同滑动套设在两个提拉臂的外壁上,凸块固定设置在提拉臂的顶端,弹簧套设在位于导向板和凸块之间的提拉臂外壁上,搅拌轴搅拌物料的同时能够带动提升臂和搅拌叶同步转动,楔形块间歇推动凸块向下移动,使得T形升降块杆在转动过程中同时能够实现上下升降运动,解决了目前搪瓷反应釜内的搅拌叶均是固定安装在搅拌轴上不能上下移动的情况,使得本装置搅拌动作在轴向搅拌物料的同时能够是实现上下翻料的目的,实现搪瓷反应釜本体内上层和下层物料能够快速混合,节省原料混合时间,提高搪瓷反应釜本体化学药剂生产效率。
2、一种新型搪瓷反应釜,通过设置盖板、电机支架、环形槽、楔形块和伺服电机,电机支架固定设置在盖板的顶部,盖板顶部开设有圆形通孔,环形槽开设在圆形通孔的侧壁上,楔形块均匀固定设置在电机支架,用于间歇下推凸块运动,伺服电机固定设置在电机支架的顶部,利用楔形块在凸块转动过程中间歇式推动其下移,该过程无需为升降臂的升降单独设置驱动装置,节省了制造成本,同时使得本装置结构更加简单,便于检修维护。
附图说明
图1为本实用新型整体立体结构示意图;
图2为本实用新型爆炸立体结构示意图;
图3为本实用新型顶升机构和混料机构分解结构示意图;
图4为本实用新型A部分放大结构示意图。
图中:1、搪瓷反应釜本体;2、加料斗;3、排料管;4、搅拌轴;5、T形升降槽;6、T形升降块杆;7、搅拌叶;8、提拉臂;9、导向板;10、凸块;11、弹簧;12、盖板;13、电机支架;14、环形槽;15、楔形块;16、伺服电机。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
本实用新型提供两种技术方案:
如图1-3示出了第一种实施方式:一种新型搪瓷反应釜,包括搪瓷反应釜本体1,搪瓷反应釜本体1外壁两侧的上方和下方分别设置有加料斗2和排料管3,搪瓷反应釜本体1腔体内部设置有用于搅拌物料的混料机构,其顶部设置有用于控制混料机构升降的顶升机构,混料机构包括搅拌轴4、T形升降槽5、T形升降块杆6、搅拌叶7、提拉臂8、导向板9凸块10和弹簧11,T形升降槽5对称开设在搅拌轴4的外壁两侧,两个T形升降块杆6滑动设置在两个T形升降槽5的内部,搅拌叶7均匀固定设置在T形升降块杆6的外壁上,提拉臂8固定设置在T形升降块杆6侧壁上,导向板9共同滑动套设在两个提拉臂8的外壁上,凸块10固定设置在提拉臂8的顶端,弹簧11套设在位于导向板9和凸块10之间的提拉臂8外壁上,搪瓷反应釜本体1包括反应筒体和搪瓷层,搪瓷层固定设置在反应筒体的内壁上,导向板9两端滑动连接在环形槽14的内部,伺服电机16输出轴转动贯穿导向板9和电机支架13通过联轴器和搅拌轴4相连接,盖板12通过螺栓可拆卸固定在搪瓷反应釜本体1顶部,两个凸块10转动时形成的圆形半径和两个楔形块15所在圆周半径相同,搅拌轴4和搅拌叶7外表面均涂覆有防护膜,防护膜与化学药剂不发生任何化学反应。
如图4示出了第二种实施方式,与第一种实施方式的主要区别在于:顶升机构包括盖板12、电机支架13、环形槽14、楔形块15和伺服电机16,电机支架13固定设置在盖板12的顶部,盖板12顶部开设有圆形通孔,环形槽14开设在圆形通孔的侧壁上,楔形块15均匀固定设置在电机支架13,用于间歇下推凸块10运动,伺服电机16固定设置在电机支架13的顶部。
使用时,借助加料斗2向搪瓷反应釜本体1内添加所需加工的化学药剂原料,加料完毕后启动伺服电机16驱动搅拌轴4顺时针转动,由于T形升降块杆6滑动连接在T形升降槽5中,并且提拉臂8和T形升降块杆6固定连接,因此,搅拌轴4转动的同时能够同步带动两个提拉臂8转动,同时导向板9两端沿着环形槽14滑动,由于两个凸块10转动时形成的圆形和两个楔形块15所在圆周具有相同的半径和圆心,因此在凸块10转动过程中,楔形块15间歇式推动凸块10向下移动,提拉臂8带动T形升降块杆6沿T形升降槽5向下滑动,从而多个搅拌叶7在转动的同时上下移动,对搪瓷反应釜本体1内部的物料上下翻动,凸块10和楔形块15脱离后,弹簧11弹力向上推动凸块10恢复至原始位置,如此实现T形升降块杆6转动搅拌的同时能够上下往复移动,搅拌完成后开启排料管3上的控制阀门即可将搅拌完成的化学药剂通过排料管3排出。
需要说明的是,在本文中,诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来,而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且,术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含,从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素,而且还包括没有明确列出的其他要素,或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。
尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例,对于本领域的普通技术人员而言,可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型,本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。

Claims (6)

1.一种新型搪瓷反应釜,包括搪瓷反应釜本体(1),其特征在于:所述搪瓷反应釜本体(1)外壁两侧的上方和下方分别设置有加料斗(2)和排料管(3),所述搪瓷反应釜本体(1)腔体内部设置有用于搅拌物料的混料机构,其顶部设置有用于控制混料机构升降的顶升机构,混料机构包括搅拌轴(4)、T形升降槽(5)、T形升降块杆(6)、搅拌叶(7)、提拉臂(8)、导向板(9)凸块(10)和弹簧(11),所述T形升降槽(5)对称开设在搅拌轴(4)的外壁两侧,两个所述T形升降块杆(6)滑动设置在两个T形升降槽(5)的内部,所述搅拌叶(7)均匀固定设置在T形升降块杆(6)的外壁上,所述提拉臂(8)固定设置在T形升降块杆(6)侧壁上,所述导向板(9)共同滑动套设在两个提拉臂(8)的外壁上,所述凸块(10)固定设置在提拉臂(8)的顶端,所述弹簧(11)套设在位于导向板(9)和凸块(10)之间的提拉臂(8)外壁上;
顶升机构包括盖板(12)、电机支架(13)、环形槽(14)、楔形块(15)和伺服电机(16),所述电机支架(13)固定设置在盖板(12)的顶部,所述盖板(12)顶部开设有圆形通孔,所述环形槽(14)开设在圆形通孔的侧壁上,所述楔形块(15)均匀固定设置在电机支架(13),用于间歇下推凸块(10)运动,所述伺服电机(16)固定设置在电机支架(13)的顶部。
2.根据权利要求1所述的一种新型搪瓷反应釜,其特征在于:所述搪瓷反应釜本体(1)包括反应筒体和搪瓷层,搪瓷层固定设置在反应筒体的内壁上。
3.根据权利要求1所述的一种新型搪瓷反应釜,其特征在于:所述导向板(9)两端滑动连接在环形槽(14)的内部。
4.根据权利要求1所述的一种新型搪瓷反应釜,其特征在于:所述伺服电机(16)输出轴转动贯穿导向板(9)和电机支架(13)通过联轴器和搅拌轴(4)相连接。
5.根据权利要求1所述的一种新型搪瓷反应釜,其特征在于:所述盖板(12)通过螺栓可拆卸固定在搪瓷反应釜本体(1)顶部,两个所述凸块(10)转动时形成的圆形半径和两个楔形块(15)所在圆周半径相同。
6.根据权利要求1所述的一种新型搪瓷反应釜,其特征在于:所述搅拌轴(4)和搅拌叶(7)外表面均涂覆有防护膜,防护膜与化学药剂不发生任何化学反应。
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