CN219985590U - 清洁治具及刻蚀机 - Google Patents
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Abstract
本实用新型提供了一种清洁治具及刻蚀机，该清洁治具包括治具本体，吹气组件，对待清洁设备内部的附着物进行清洁；其中，所述第一端口用于与待清洁设备连接，且所述待清洁设备与所述气体通道相通，所述第二端口用于与真空发生装置的真空吸气接口连通。本实用新型通过吹气组件向涡轮分子泵的内部导入气流，以对涡轮分子泵内部的附着物进行吹扫清洁，真空发生装置将治具本体以及涡轮分子泵内部的被吹扫出来的附着物吸出，避免附着物粘附在涡轮分子泵的内部，能够避免涡轮分子泵频繁的拆卸安装进行清洗，不仅能够避免降低生产效率，同时也能够避免频繁的拆卸安装对涡轮分子泵造成损坏，延长了涡轮分子泵的使用寿命。
Description
技术领域
本实用新型涉及半导体技术领域，特别涉及一种清洁治具及刻蚀机。
背景技术
刻蚀是半导体制造工艺，特别是微电子IC制造工艺以及微纳制造工艺中的一种相当重要的步骤，是与光刻相联系的图形化(pattern)处理的一种主要工艺。
刻蚀机在作业时，刻蚀机的工艺腔体在没有放置晶圆进行干洗的情况下，工艺腔体内有附着物(比如含氟聚合物)生成。在现有技术中，通过涡轮分子泵将生成的附着物从工艺腔体内吸出。但是，涡轮分子泵长时间使用后，在涡轮分子泵的排气口处以及内部腔体容易堆积附着物，不仅降低了涡轮分子泵将附着物从工艺腔体内吸出的效率，而且涡轮分子泵内部的附着物容易造成工艺腔体的内部环境再次被污染。
为了解决上述的技术问题，目前刻蚀机内部的工艺腔体会定期更换涡轮分子泵，并将更换下来的涡轮分子泵进行外送清洗，但是，涡轮分子泵频繁的拆卸安装，不仅降低了生产效率，同时也对涡轮分子泵造成损坏，缩短了涡轮分子泵的使用寿命。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种清洁治具，以解决现有技术中为了清理涡轮分子泵中的附着物，频繁的拆卸安装，不仅降低了生产效率，同时也对涡轮分子泵造成损坏，缩短了涡轮分子泵使用寿命的技术问题。
为解决上述技术问题，本实用新型提供一种清洁治具，包括：
治具本体，具有供气体流通的气体通道，所述气体通道具有第一端口和第二端口；
吹气组件，用于向待清洁设备的内部导入气流，以对待清洁设备内部的附着物进行清洁；
其中，所述第一端口用于与待清洁设备连接，且所述待清洁设备与所述气体通道相通，所述第二端口用于与真空发生装置的真空吸气接口连通。
优选地，所述吹气组件的一端贯穿所述治具本体并延伸至所述待清洁设备的内部，以向所述待清洁设备的内部导入气流，对待清洁设备内部的附着物进行清洁。
优选地，所述吹气组件的一端贯穿所述待清洁设备，以向所述待清洁设备的内部导入气流，对待清洁设备内部的附着物进行清洁。
优选地，所述吹气组件包括：
连接部，一端与气源连接；
阀门，输入端与所述连接部的另一端连接；
输出管，连接至所述阀门的输出端，所述输出管的一侧设置有若干出气孔，以向所述待清洁设备的内部导入气流，对待清洁设备内部的附着物进行清洁。
优选地，所述连接部的一端贯穿所述治具本体并连接至所述阀门，所述阀门配置于所述治具本体的内部。
优选地，所述输出管的一端贯穿所述待清洁设备，所述阀门配置于所述治具本体的外部。
优选地，所述出气孔喷射的气体方向与所述待清洁设备的中轴线垂直。
优选地，该清洁治具还包括：
软管，一端与所述第二端口连接，另一端与所述真空发生装置的真空吸气接口连通。
基于相同的发明思想，本实用新型还提供了一种刻蚀机，包括上述清洁治具。
与现有技术相比，本实用新型的清洁治具具有如下优点：
本实用新型通过在工艺腔体内安装清洁治具，以对涡轮分子泵进行清洗。该清洁治具包括具有供气体流通的气体通道，气体通道具有第一端口和第二端口；吹气组件，用于向涡轮分子泵的内部导入气流，以对涡轮分子泵内部的附着物进行吹扫清洁；第一端口用于与涡轮分子泵连接，且涡轮分子泵与气体通道相通，第二端口用于与真空发生装置的真空吸气接口连通，打开真空发生装置，将治具本体以及涡轮分子泵内部的被吹扫出来的附着物吸出，避免附着物粘附在涡轮分子泵的内部，不仅能够避免附着物再次污染工艺腔体，同时，也能够避免涡轮分子泵频繁的拆卸安装进行清洗，不仅能够避免降低生产效率，同时也能够避免频繁的拆卸安装对涡轮分子泵造成损坏，延长了涡轮分子泵的使用寿命。
附图说明
图1是本实用新型一实施方式中清洁治具与涡轮分子泵的连接关系图；
图2是图1中涡轮分子泵的剖视图；
图3是本实用新型另一实施例中清洁治具与涡轮分子泵的连接关系图；
图4是图3中涡轮分子泵的剖视图；
图中，
100-清洁治具；110-吹气组件；
111-连接部；112-阀门；
113-输出管；120-软管；
130-治具本体；131-第二端口；
132-第一端口；200-涡轮分子泵；
210-外壳；220-叶片；
230-轴承；300-工艺腔体。
具体实施方式
以下结合附图和具体实施例对本实用新型提出的清洁治具100作进一步详细说明。根据下面说明，本实用新型的优点和特征将更清楚。需说明的是，附图均采用非常简化的形式且均使用非精准的比例，仅用以方便、明晰地辅助说明本实用新型实施例的目的。
参图1至图4所示，在晶圆刻蚀的工艺腔体300的底部，安装有涡轮分子泵200，涡轮分子泵200用于将刻蚀工艺生成的附着物从工艺腔体300内抽走，以免附着物污染晶圆。清洁治具100安装在涡轮分子泵200，以对涡轮分子泵200内的附着物进行清洁。需要说明的是，该清洁治具100不仅应用在半导体领域，也不仅仅只用于清洁涡轮分子泵200，只要待清洁设备能够通过吹扫，将其内部的灰尘或其他附着物清洁即可。下面以涡轮分子泵200为例说明该清洁治具100。
参图1至图4所揭示的一种清洁治具的一种具体实施方式。该清洁治具100包括治具本体130，具有供气体流通的气体通道(图中未标示)，气体通道具有第一端口132和第二端口131；吹气组件110，用于向待清洁设备的内部导入气流，以对待清洁设备内部的附着物进行清洁；其中，第一端口132用于与待清洁设备连接，且待清洁设备与气体通道相通，第二端口131用于与真空发生装置的真空吸气接口连通。
示例性地，涡轮分子泵200包括外壳210，外壳210的顶端呈敞开状态。且外壳210的顶端与第一端口132连接，使得涡轮分子泵200的内部与气体通道连通。外壳210的内部枢转连接轴承230，轴承230的一端安装有若干叶片220。涡轮分子泵200将附着物从工艺腔体300中吸出时，附着物容易粘附在涡轮分子泵200的叶片220、内壁以及排气口处。吹气组件110用于向涡轮分子泵200内部导入气流，导入的气流不仅能够将附着在涡轮分子泵200内壁上的附着物吹起，起到清洁的作用。同时，气流能够吹动叶片220旋转，使得附着物一直飘散在涡轮分子泵200的内部。真空发生装置的真空吸气接口与第二端口131连接，打开真空发生装置，将飘散在涡轮分子泵200内部的附着物沿着气体通道吸出。避免附着物粘附在涡轮分子泵200的内部，不仅能够避免附着物再次污染工艺腔体300，同时，也能够避免涡轮分子泵200频繁的拆卸安装进行清洗，以达到延长涡轮分子泵200的使用寿命的目的。
需要说明的是，向涡轮分子泵200内部导入的气体可以是氮气、干燥空气等气体，只要能够对涡轮分子泵200进行吹扫即可。在本实施例中，由于在刻蚀工艺中，向工艺腔体300内部通入的气体为氮气，因此，为了节省吹气组件110的安装成本，在本实施例中优选氮气作为该实施例向涡轮分子泵200内部导入的气体，在安装吹气组件110时，只要将吹入工艺腔体300内的氮气源安装一条向涡轮分子泵200内部导入氮气的支路即可。下面以向涡轮分子泵200内部导入的气体为氮气为例进行说明。
还需要说明的是，真空发生装置可为真空发生器、真空泵等，只要能够将涡轮分子泵200内部的附着物吸出即可，在本实施例中，并不做具体的要求。另外，参图2和图4所示，为了对真空发生装置在安装时提供方便，该清洁治具100还包括软管120，软管120一端与第二端口131连接，软管120的另一端贯穿工艺腔体300与真空发生装置的真空吸气接口连通。打开真空发生装置的开关，涡轮分子泵200中的附着物，沿气体通道和软管120吸出，避免附着物在涡轮分子泵200内部堆积，以达到延长涡轮分子泵200使用寿命的目的。真空发生装置为现有技术，由于真空发生装置不是本实用新型的发明点，在此不再详细阐述。
示例性地，吹气组件110的一端贯穿治具本体130并延伸至待清洁设备的内部，以向待清洁设备的内部导入气流，对待清洁设备内部的附着物进行清洁。
具体地，参图1和图2所示，吹气组件110的一端贯穿治具本体130并延伸至涡轮分子泵200的内部，打开氮气源，氮气通过吹气组件110导入涡轮分子泵200的内部，对粘附在涡轮分子泵200内壁上的附着物进行吹扫。同时，氮气气流能够吹动叶片220旋转，使得附着物一直飘散在涡轮分子泵200的内部。打开真空发生装置，将飘散在涡轮分子泵200内部的附着物沿着气体通道和软管120吸出。避免附着物粘附在涡轮分子泵200的内部，不仅能够避免附着物再次污染工艺腔体300，同时，也能够避免涡轮分子泵200频繁的拆卸安装进行清洗，以达到延长涡轮分子泵200的使用寿命的目。
示例性地，吹气组件110的一端贯穿待清洁设备，以向待清洁设备的内部导入气流，对待清洁设备内部的附着物进行清洁。
具体地，参图3和图4所示，吹气组件110的一端贯穿涡轮分子泵200，打开氮气源，氮气通过吹气组件110导入涡轮分子泵200的内部，对粘附在涡轮分子泵200内壁上的附着物进行吹扫。同时，氮气气流能够吹动叶片220旋转，使得附着物一直飘散在涡轮分子泵200的内部。打开真空发生装置，将飘散在涡轮分子泵200内部的附着物沿着气体通道和软管120吸出。避免附着物粘附在涡轮分子泵200的内部，不仅能够避免附着物再次污染工艺腔体300，同时，也能够避免涡轮分子泵200频繁的拆卸安装进行清洗，以达到延长涡轮分子泵200的使用寿命的目。另外，通过将吹气组件110避开治具本体130进行安装，节省了吹气组件110占用治具本体130的安装空间。
示例性地，吹气组件110包括：连接部111，一端与气源连接；阀门112，输入端与连接部111的另一端连接；输出管113，连接至阀门112的输出端，输出管113的一侧设置有若干出气孔(图中未示出)，以向待清洁设备的内部导入气流，对待清洁设备内部的附着物进行清洁。
具体地，参图1和图2所示，连接部111一端与氮气源连接，连接部111的另一端与阀门112的输入端连接，阀门112的输出端与输出管113连接。输出管113靠近叶片220的一侧设置有供氮气流出的若干出气孔。氮气源为吹扫涡轮分子泵200内部的附着物提供氮气气流。开启阀门112时，可以实现向涡轮分子泵200内部提供用于吹扫的氮气气流，氮气气流对粘附在涡轮分子泵200内壁上的附着物进行吹扫。同时，氮气气流能够吹动叶片220旋转，使得附着物一直飘散在涡轮分子泵200的内部。关闭阀门112时，停止向涡轮分子泵200内部提供用于吹扫的氮气气流。
示例性地，参图1和图2所示，连接部111的一端可贯穿治具本体130并连接至阀门112。连接部111一端贯穿治具本体130并与治具本体130连接。开启阀门112时，氮气途径连接部111、阀门112和输出管113，并从出气孔喷射出，以对涡轮分子泵200内部进行吹扫。同时，氮气气流能够吹动叶片220旋转，使得附着物一直飘散在涡轮分子泵200的内部。打开真空发生装置，将飘散在涡轮分子泵200内部的附着物沿着气体通道和软管120吸出，实现对涡轮分子泵200内部的清洁。避免附着物粘附在涡轮分子泵200的内部，不仅能够避免附着物再次污染工艺腔体300，同时，也能够避免涡轮分子泵200频繁的拆卸安装进行清洗，以达到延长涡轮分子泵200的使用寿命的目。
进一步地，参图3和图4所示，输出管113的一端也可贯穿待清洁设备，阀门112配置于治具本体130的外部。输出管113的一端贯穿涡轮分子泵200。打开阀门112，，氮气经过输出管113上的出气孔向涡轮分子泵200内导入氮气气流，对粘附在涡轮分子泵200内壁上的附着物进行吹扫。同时，氮气气流能够吹动叶片220旋转，使得附着物一直飘散在涡轮分子泵200的内部。打开真空发生装置，将飘散在涡轮分子泵200内部的附着物沿着气体通道和软管120吸出。避免附着物粘附在涡轮分子泵200的内部，不仅能够避免附着物再次污染工艺腔体300，同时，也能够避免涡轮分子泵200频繁的拆卸安装进行清洗，以达到延长涡轮分子泵200的使用寿命的目。通过将阀门112配置于治具本体130的外部，不仅能够增加附着物经过气体通道的空间，并且，避免阀门112的表面粘附附着物，从而能够延长阀门112的使用寿命。另外，通过将连接部111避开治具本体130进行安装，节省了吹气组件110占用治具本体130的安装空间。
其中，出气孔喷射的气体方向与待清洁设备的中轴线(即，图2中的虚线f)垂直。
具体地，参图2和图4所示，为了使得氮气气流能够吹动叶片220进行旋转，出气孔喷射的气体方向与涡轮分子泵200的中轴线(即，图2中的虚线f)垂直。并且，吹气孔靠近叶片220的一侧设置。氮气气流吹动叶片220旋转，不仅能够进一步对附着在涡轮分子泵200内部的附着物进行吹扫，同时，也能够使得吹扫的附着物呈飘散状态，便于真空发生装置将附着物从涡轮分子泵200中吸出。另外，氮气气流的压力只要能够将叶片220吹动并旋转即可，在本实施例中，并不作具体的要求。真空发生器具体的吸力，只要能够将附着物从涡轮分子泵200中吸出即可，也不作具体的要求。
示例性地，第一端口132与被清洗设备密封连接。第一端口132的直径与被清洗设备的直径相等。
具体地，参图2和图4所示，该清洁治具100在使用时，可将治具本体130垂直放到涡轮分子泵200的表面，第一端口132的直径与涡轮分子泵200的直径相等，能够将涡轮分子泵200的表面密封。为了提高治具本体130与涡轮分子泵200连接的密封性，也可将第一端口132与涡轮分子泵200通过法兰密封连接。通过控制器打开压力传感器，氮气经过输出管113上的出气孔向涡轮分子泵200内导入氮气气流，对粘附在涡轮分子泵200内壁上的附着物进行吹扫。同时，氮气气流能够吹动叶片220旋转，使得附着物一直飘散在涡轮分子泵200的内部。打开真空发生装置，将飘散在涡轮分子泵200内部的附着物沿着气体通道和软管120吸出。在刻蚀机维修期间，使用上述清洁治具100的时间可为30分钟或者30分钟以上的时间，对涡轮分子泵200进行清洁，避免附着物粘附在涡轮分子泵200的内部，不仅能够避免附着物再次污染工艺腔体300，同时，也能够避免涡轮分子泵200频繁的拆卸安装进行清洗，以达到延长涡轮分子泵200的使用寿命的目。
综上可见，在本实用新型实施例提供的清洁治具100中，通过在工艺腔体300内安装清洁治具100，以对涡轮分子泵200进行清洗。该清洁治具100包括具有供气体流通的气体通道，气体通道具有第一端口132和第二端口131；吹气组件110，用于向涡轮分子泵200的内部导入气流，以对涡轮分子泵200内部的附着物进行吹扫清洁；第一端口132用于与涡轮分子泵200连接，且涡轮分子泵200与气体通道相通，第二端口131用于与真空发生装置的真空吸气接口连通，打开真空发生装置，将治具本体130以及涡轮分子泵200内部的被吹扫出来的附着物吸出，避免附着物粘附在涡轮分子泵200的内部，解决了现有的涡轮分子泵200频繁的拆卸安装进行清洗，所造成的生产效率降低，以及频繁的拆卸安装对涡轮分子泵200造成损坏的技术问题，达到延长涡轮分子泵200使用寿命，以及避免工艺腔体300再次受到污染的目的。
本实用新型还揭示了一种刻蚀机，包括上述清洁治具100。
上述描述仅是对本实用新型较佳实施例的描述，并非对本实用新型范围的任何限定，本实用新型领域的普通技术人员根据上述揭示内容做的任何变更、修饰，均属于权利要求书的保护范围。
Claims (10)
1.一种清洁治具，其特征在于，包括：
治具本体，具有供气体流通的气体通道，所述气体通道具有第一端口和第二端口；
吹气组件，用于向待清洁设备的内部导入气流，以对待清洁设备内部的附着物进行清洁；
其中，所述第一端口用于与待清洁设备连接，且所述待清洁设备与所述气体通道相通，所述第二端口用于与真空发生装置的真空吸气接口连通。
2.如权利要求1所述的清洁治具，其特征在于，所述吹气组件的一端贯穿所述治具本体并延伸至所述待清洁设备的内部，以向所述待清洁设备的内部导入气流，对待清洁设备内部的附着物进行清洁。
3.如权利要求1所述的清洁治具，其特征在于，所述吹气组件的一端贯穿所述待清洁设备，以向所述待清洁设备的内部导入气流，对待清洁设备内部的附着物进行清洁。
4.如权利要求1所述的清洁治具，其特征在于，所述吹气组件包括：
连接部，一端与气源连接；
阀门，输入端与所述连接部的另一端连接；
输出管，连接至所述阀门的输出端，所述输出管的一侧设置有若干出气孔，以向所述待清洁设备的内部导入气流，对待清洁设备内部的附着物进行清洁。
5.如权利要求4所述的清洁治具，其特征在于，所述连接部的一端贯穿所述治具本体并连接至所述阀门，所述阀门配置于所述治具本体的内部。
6.如权利要求4所述的清洁治具，其特征在于，所述输出管的一端贯穿所述待清洁设备，所述阀门配置于所述治具本体的外部。
7.如权利要求4所述的清洁治具，其特征在于，所述出气孔喷射的气体方向与所述待清洁设备的中轴线垂直。
8.如权利要求1所述的清洁治具，其特征在于，该清洁治具还包括：
软管，一端与所述第二端口连接，另一端与所述真空发生装置的真空吸气接口连通。
9.如权利要求1所述的清洁治具，其特征在于，所述第一端口的直径与所述待清洁设备的直径相等。
10.一种刻蚀机，其特征在于，包括：
如权利要求1-9中任一项所述的清洁治具。
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| GR01 | Patent grant | ||
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