CN219885941U - 一种超硬抗刮花涂层盖板 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及电子产品透光膜领域，具体的公开了一种超硬抗刮花涂层盖板，包括基板和超硬耐刮花层，所述超硬耐刮花层设在基板上，所述超硬耐刮花层为碳化物，基板为微晶玻璃。本实用新型利用碳化物作为超硬耐刮花层，具有超高的硬度特点，可以实现镀制超过莫氏硬度8的特殊材料效果；常规玻璃基板的莫氏硬度小于3，镀完该超硬耐刮花层后莫氏硬度大于8，使得镀有该超硬耐刮花层的盖板在使用中不易被刮花损坏；镀有碳化物的盖板适用于3D产品，在弧边处无异色等外观差异，可用于手机、手表的前后盖；并且对于曲面和平面产品都适合。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种盖板，具体涉及一种超硬抗刮花涂层盖板，属于电子产品透光膜领域。
背景技术
目前在使用的手机显示屏，通常是玻璃盖板，因常与配饰、桌面等物体碰撞摩擦，配饰和桌面上会有砂砾或尖锐状棱角，导致手机盖板产生明显划痕。现有技术中为了防剐蹭，使用超硬耐刮层与其他增透层形成多层堆叠。为了有较好的超硬效果，耐刮花层非常厚，因镀膜时间长且膜层较厚，膜层本身会产生非常大的压应力，该应力会明显导致基板变形，产品外形受到影响。为了控制抵消变形，在制作过程中需要对基板进行预变形，增加了制作步骤的复杂度。
因此，本领域技术人员提供了一种超硬抗刮花涂层盖板，以解决上述背景技术中提出的问题。
实用新型内容
针对现有技术中的问题，本实用新型提供了一种超硬抗刮花涂层盖板。
本实用新型的目的可以通过以下技术方案实现：
一种超硬抗刮花涂层盖板，包括基板和超硬耐刮花层，所述超硬耐刮花层设在基板上，所述超硬耐刮花层为碳化物，基板为微晶玻璃。
作为本实用新型的一种技术优化方案，所述超硬耐刮花层的厚度为10-100nm。
作为本实用新型的一种技术优化方案，所述基板与超硬耐刮花层之间还设有连接层。
作为本实用新型的一种技术优化方案，所述连接层为氧化硅层。
作为本实用新型的一种技术优化方案，连接层的厚度小于超硬耐刮花层的厚度。
作为本实用新型的一种技术优化方案，所述连接层镀设在基板上，超硬耐刮花层溅射在连接层上。
作为本实用新型的一种技术优化方案，所述镀有超硬耐刮花层的基板莫氏硬度大于8。
作为本实用新型的一种技术优化方案，所述碳化物为碳化铝、碳化铬、碳化铌和碳化硅中的任意一种。
本实用新型的有益效果：
1、本实用新型利用碳化物作为超硬耐刮花层，具有超高的硬度特点，可以实现镀制超过莫氏硬度8的特殊材料效果；常规玻璃基板的莫氏硬度小于3，镀完该超硬耐刮花层后莫氏硬度大于8，使得镀有该超硬耐刮花层的盖板在使用中不易被刮花损坏；盖板制备时较为简单快捷，基板不易变形；
2、镀有碳化物的盖板适用于3D产品，在弧边处无异色等外观差异，可用于手机、手表的前后盖；并且对于曲面和平面产品都适合。
附图说明
为了便于本领域技术人员理解，下面结合附图对本实用新型作进一步的说明。
图1为本实用新型整体结构示意图。
图中：1、超硬耐刮花层；2、连接层；3、基板。
具体实施方式
下面将结合实施例对本实用新型的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本实用新型保护的范围。
请参阅图1所示，一种超硬抗刮花涂层盖板，包括基板3和超硬耐刮花层1，所述超硬耐刮花层1设在基板3上，所述超硬耐刮花层1为碳化物，优选为碳化硅，基板3为微晶玻璃。
在基板3上镀设连接层2，在镀有连接层2的基板3上溅射超硬耐刮花层1；基板3、连接层2和超硬耐刮花层1形成耐刮花的盖板。基板3上仅有连接层2和超硬耐刮花层1两层堆叠，层数较少，因此基板3受到的应力小，不易发生变形。
可选地，所述超硬耐刮花层1的厚度为10-100nm。碳化物选优为碳化硅，采用碳化硅作为超硬耐刮花层1，具有较高的硬度和较强的抗耐刮花性能，形成的盖板在使用中不易被刮花。碳化硅具有耐磨损、抵抗冷热冲击等优点。
可选地，所述基板3与超硬耐刮花层1之间还设有连接层2。
可选地，所述连接层2为氧化硅层。
可选地，连接层2的厚度小于超硬耐刮花层1的厚度。
利用超薄氧化硅层作为连接层2能增加碳化硅层与基板3的附着力。连接层2和超硬耐刮花层1的厚度都非常薄，对基板3产生的应力小，基板3不会发生形变。并且形成的3D盖板弧边无异色，对曲面和平面的产品都适合。由于厚度非常薄，两层堆叠，产生的反射和入射光相消的次数少，反射光与入射光相消时不会强烈，玻璃盖板产品弧边无明显色差，无需增加增透层也具有较好的透光效果，也具有良好的视觉体验。
可选地，所述连接层2镀设在基板3上，超硬耐刮花层1溅射在连接层2上。
制备时将镀有连接层2的基板3放置于惰性气体的高真空环境中；
对镀有连接层2的基板3同时溅射中频碳靶材和硅靶材，使其产生碳原子和硅原子，并沉积于连接层2表面，用射频离子源使得惰性气体激发成气体离子，溅射产生的惰性气体离子对沉积的碳原子和硅原子进行轰击获得高能量，产生原子间自化合，生成碳化硅作为超硬耐刮花层1。
所述碳化物为碳化铝、碳化铬、碳化铌和碳化硅中的任意一种。
且上述制备过程中，也可以将硅靶材替换成铝、铬、铌中的任意一种。形成碳化铝、碳化铬、碳化铌中的一种。碳化铝、碳化铬、碳化铌作为超硬耐刮花层1具备与碳化硅相似的效果。
可选地，所述镀有超硬耐刮花层1的基板3莫氏硬度大于8。碳化硅、碳化铝、碳化铬、碳化铌等碳化物作为超硬耐刮花层1具有较高的硬度，在作为屏幕使或者其他面板使用中不易受到磕碰磨损，具有较高的使用寿命和安全性能。
以上公开的本实用新型优选实施例只是用于帮助阐述本实用新型。优选实施例并没有详尽叙述所有的细节，也不限制该实用新型仅为所述的具体实施方式。显然，根据本说明书的内容，可作很多的修改和变化。本说明书选取并具体描述这些实施例，是为了更好地解释本实用新型的原理和实际应用，从而使所属技术领域技术人员能很好地理解和利用本实用新型。本实用新型仅受权利要求书及其全部范围和等效物的限制。
Claims (8)
1.一种超硬抗刮花涂层盖板，包括基板和超硬耐刮花层，其特征在于，所述超硬耐刮花层设在基板上，所述超硬耐刮花层为碳化物，基板为微晶玻璃。
2.根据权利要求1所述的一种超硬抗刮花涂层盖板，其特征在于，所述超硬耐刮花层的厚度为10-100nm。
3.根据权利要求1或2所述的一种超硬抗刮花涂层盖板，其特征在于，所述基板与超硬耐刮花层之间还设有连接层。
4.根据权利要求3所述的一种超硬抗刮花涂层盖板，其特征在于，所述连接层为氧化硅层。
5.根据权利要求4所述的一种超硬抗刮花涂层盖板，其特征在于，所述连接层的厚度小于超硬耐刮花层的厚度。
6.根据权利要求4所述的一种超硬抗刮花涂层盖板，其特征在于，所述连接层镀设在基板上，超硬耐刮花层溅射在连接层上。
7.根据权利要求1或2或4所述的一种超硬抗刮花涂层盖板，其特征在于，镀有超硬耐刮花层的基板莫氏硬度大于8。
8.根据权利要求2所述的一种超硬抗刮花涂层盖板，其特征在于，所述碳化物为碳化铝、碳化铬、碳化铌和碳化硅中的任意一种。
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