CN2197360Y

CN2197360Y - 低反射率金属薄膜体

Info

Publication number: CN2197360Y
Application number: CN 94218440
Authority: CN
Inventors: 杨宁
Original assignee: Individual
Current assignee: Individual
Priority date: 1994-08-18
Filing date: 1994-08-18
Publication date: 1995-05-17
Anticipated expiration: 2004-08-18

Abstract

本实用新型涉及一种金属薄膜结构体，它是在透明衬底上镀光学薄膜，所述光学薄膜至少含有一层半透明金属层，一层高光学折射系数电介质高，高光学折射系数电介质层在半透明金属薄膜层与透明衬底层之间，它可置于窗玻璃上，调节室内阳光及可见光的平衡，保持室内温度。

Description

本实用新型涉及一种金属薄膜体，属B327／02类。

强烈的阳光令人炫目，且透过窗玻璃使车内室内温度骤然升高燥热。

窗帘虽可以遮住耀眼的阳光，但同时也遮住了可见光，而且遮住了室外的景物，却挡不住阳光对车内、室内的加热，故仅是一种折衷的解决办法。较为妥善的方法是在窗玻璃上镀半透明金属膜，或在透明塑料衬底上镀膜，继而粘贴到玻璃上，但单层半透明金属膜对可见光反射太强，对附近的车辆行人都是一种严重的不安全因素，故必须用高光学折射率电介质补偿，以减低薄膜对可见光的反射。

常用的电介质光学材料是氧化钛，在大面积上用CVD淀积的氧化钛光学折射率仅及2·0左右，用真空电弧蒸发难于在大面积上形成非常均匀的光学薄膜，反应型电子束蒸发淀积氧化钛工艺尚在实验研究阶段，故比较实用的方法是反应型真空磁控溅射。

大型工业磁控溅射淀积氧化钛光学薄膜的动态淀积速率（DDR）接近于0·1nm·cm²／J，即每焦耳一埃－1平方厘米。用1兆瓦的溅射功率生产500埃厚的氧化钛薄膜，每分钟仅能生产2平方米。

本实用新型的目的是提供一种人工合成的高光学折射率薄膜，其对可见光的反射率可降10％左右，并可使生产速率成倍提高。

为实现上述目的，本实用新型采用了如下技术方案：在透明衬底上镀光学薄膜，所述光学薄膜至少含有一层半透明金属层，一层高光学折射系数电介质层。高光学折射系数电介质层在半透明金属层与透明衬底层之间。

本实用新型比较理想的结构是在半透明金属薄膜的两侧镀有高折射率电介质层，最理想的结构是在半透明金属薄膜与透明衬底之间淀积厚度匹配的高折射率电介质层，然后将这种薄膜结构用粘结剂互相粘在一起，形成双层复合结构，金属层在中心侧，透明衬底层在外侧。在这种复合结构的外层之一面涂上防擦伤的保护层，另一面则涂一层含吸收紫外线成分的粘合剂层，以保护薄膜及室内材料。

下面结合附图进一步说明

图1 为本实用新型实施例1结构原理示意图

图2 为本实用新型实施例3结构原理示意图

实施例1：

如图1所示：1为透明物衬底，本实施例中采用玻璃衬底，2、4为高光学折射率电介质氧化铌Nb₂O_5－X层，X≤1，其厚度为55nm，3为半透明金属Cr镀层，厚度为10nm，其可见光透射率略低于50％，反射率约为10％，略呈兰色。生产时，适用真空磁控溅射及坩埚蒸发生产这种薄膜的半透明金属层，用真空磁控溅射及阳极电弧蒸发生产电介质层。生产时间较之用氧化钛大为缩短，若用氯化钛介质，需4分钟镀一块2·5米×3·66米的玻璃，用Nb₂O_5－X，仅需一分钟完成，薄膜光学性质基本相同。

实施例2：

结构同实施例1，但衬底改用透明PET，在PET上镀金属薄膜，继而贴到窗玻璃上，生产速率得以成倍提高。

实施例3：

如图2所示，6为金属Cr层，7为高折射率电介质层，8为透明衬底PET层，5为粘结剂层，9为防划伤擦伤保护层，10为含吸收紫外线成分的粘合剂层。

采用此复合结构形式，当可见光透过率为30－50％时，反射率为10％左右。

实施例4：

结构同实施例1，但在表面加镀一层聚丙烯酸酯（Acrylate保护层（层厚1－3um），调节金属Cr层为8nm，氧化铌层为50nmm。其可见光透射率仍接近于50％，可见光反射率在13％左右，在可见光兰端反射率升至30％，故呈兰色，适当选择保护层能使薄膜耐磨损，易于清洗，经久耐用。

实施例5：

薄膜结构同实施例1，但将金属铬层减低为6nm，使其550nm处透射率为60％，对可见光反射率低于10％，在可见光兰端400nm处反射率跃升为40％。

实施例6：

镀膜结构同例1，但将金属铬Cr层改用其它耐氧化，抗腐蚀金属及其合金，例如：Au、Ag、No、Cr、Ni、Ni－Cr合金，以及氮化钛、氮化铬。

实施例7：

镀膜结构同例1，但电介质层改用溅射淀积速率高的人工合成氧化物Nb₂O₅－δ（δ≤2）、Bi2O5－ε（ε≤2·1），CuO2－η（η≤1），氮化物（Si：xm）3N4－δ，金属层为硅的浅能级杂质B、Sb、Al，x为掺杂度（x≤6％）δ为缺氧氮化率δ≤1，以及碳化物（Si：YB）C，B为Sic的浅能级杂质，例如硼B，采用透明塑料衬底时，此结构更易生产。

实施例8：

结构同例3，金属层改用12nm银薄膜，2、4层改为40nm厚Nb₂O_5－X，其可见光反射率低于10％，透射率将近80％，远红外反射率大于80％。

实施例9：

见图2，在透明PET衬底上淀积20nmNb₂O_5－X，继而3nmCr，将两层同样结构的薄膜用粘合剂压合。可见光透射率35％，反射率10％。

Claims

1、一种低反射率金属薄膜体，它是在透明衬底上镀光学薄膜，其特征在于：

所述光学薄膜至少含有一层半透明金属层，一层高光学折射系数电介质层，高光学折射系数电介质层在半透明金属薄膜层与透明衬底层之间。

2、如权利要求1所述的金属薄膜体，其特征在于：在半透明金属层的两侧均淀积有高折射率电介质层。

3、如权利要求1所述的金属薄膜体，其特征在于：所述的金属薄膜体通过粘结剂粘结成双层复合结构，金属层在中心侧，透明衬底层在外侧，在复合结构外层之一面有防擦伤的保护层，另一面有含吸收紫外线成分的粘合剂层。

4、如权利要求1所述的金属薄膜体，其特征在于：所述的高折射率电介质层为溅射淀积速率高的人工合成氧化物Nb₂O₅－δ（δ≤2）或Bi2O5－ε（ε≤2·1），CuO2－η（η≤1），氮化物（Si：xm）3N4－δ，金属层为硅的浅能级杂质B、Sb、Al，（x≤6％）δ≤1，以及碳化物（Si：YB）C。

5、如权利要求1或2所述的金属薄膜体，其特征在于：半透明金属层为耐氧化、耐腐蚀的金属及其合金Au、Ag、No、Cr、Ni、Ni－Cr合金，以及氮化钛、氮化铬。

6、如权利要求1或2所述的金属薄膜体，其特征在于：在光学薄膜表面加镀一层聚丙烯酸酯保护层。