CN219718989U - 一种新型透明emi屏蔽膜 - Google Patents
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- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 17
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims description 7
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims description 6
- 238000010030 laminating Methods 0.000 claims description 4
- 238000007493 shaping process Methods 0.000 claims description 3
- 229920000800 acrylic rubber Polymers 0.000 claims description 2
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 claims description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 abstract 11
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 abstract 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 5
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 5
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 4
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 4
- 238000011160 research Methods 0.000 description 3
- 239000003522 acrylic cement Substances 0.000 description 2
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 1
- 239000002041 carbon nanotube Substances 0.000 description 1
- 229910021393 carbon nanotube Inorganic materials 0.000 description 1
- -1 conductive coatings Substances 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 1
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000002048 multi walled nanotube Substances 0.000 description 1
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 1
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 1
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- Shielding Devices Or Components To Electric Or Magnetic Fields (AREA)
Abstract
本实用新型公开了一种新型透明EMI屏蔽膜，包括屏蔽膜主体，屏蔽膜主体的顶部表层固定连接有第一屏蔽膜层，第一屏蔽膜层的底部固定连接有第二屏蔽膜层，第二屏蔽膜层的底部固定连接有第三屏蔽膜层，第三屏蔽膜层的底部固定连接有第四屏蔽膜层，第四屏蔽膜层的底部固定连接有第五屏蔽膜层，第五屏蔽膜层的底部固定连接有第六屏蔽膜层，通过设置的第一屏蔽膜层、第二屏蔽膜层、第三屏蔽膜层、第四屏蔽膜层、第五屏蔽膜层和第六屏蔽膜层，透明EMI屏蔽膜具有很高的实用价值和广泛的应用前景，不仅可以解决电子设备内部维护时的难题，更能够在大大减小电子器件尺寸纵深等方面，增加产品竞争力。
Description
技术领域
本实用新型涉及技术领域，具体为一种新型透明EMI屏蔽膜。
背景技术
EMI屏蔽膜是指一种具有电磁干扰屏蔽功能的塑料膜，主要用于电子设备中的复杂线路、电子器件等重要部位，以避免电磁波干扰对设备造成负面影响。随着科技的不断发展和数字化的快速普及，电子产品所面临的电磁干扰问题越来越突出，EMI屏蔽技术的研究和应用变得越来越重要。EMI屏蔽膜的研发旨在寻找一种高效、低成本、简单易操作的屏蔽方法，以满足各种应用场景的需求。然而，这并不是易如反掌的任务，因为EMI屏蔽材料必须具备许多特定特性，如良好的耐腐蚀性、高导电性、低比重和优异的加工性能。此外，为了满足各种不同的应用需求，如用于移动设备中的较小模块或用于电动汽车中的较大尺寸涂层等等，EMI屏蔽膜还需符合不同的厚度、柔韧性和耐久性要求。EMI屏蔽膜的广泛应用，让厂家们开始积极投入资金和人力资源进行研发，以开发出更加适用的新型材料。经过多年的不断探索和实验，诸如导电涂料、金属薄膜、碳纳米管和多壁碳纳米管等新材料被开发出来，并取得了长足的进展。虽然EMI屏蔽膜技术还有很多问题需要解决，但是，随着科技的进步和材料科学的不断发展，EMI屏蔽膜的研究和应用将会不断取得新的突破和进展，为电子设备的发展和提升带来了更多的可能性和机遇。
但现有EMI屏蔽膜通常是黑色或银色的，这会阻碍人们对电子器件内部的观察，增加了维护工作和检修难度，并具有重量大、占用空间大等的问题，为此我们提出一种新型透明EMI屏蔽膜。
实用新型内容
(一)解决的技术问题
针对现有技术的不足，本实用新型提供了一种新型透明EMI屏蔽膜，以解决上述背景技术中提出的问题。
(二)技术方案
为实现以上目的，本实用新型通过以下技术方案予以实现：一种新型透明EMI屏蔽膜，包括屏蔽膜主体，所述屏蔽膜主体的顶部表层固定连接有第一屏蔽膜层，所述第一屏蔽膜层的底部固定连接有第二屏蔽膜层，所述第二屏蔽膜层的底部固定连接有第三屏蔽膜层，所述第三屏蔽膜层的底部固定连接有第四屏蔽膜层，所述第四屏蔽膜层的底部固定连接有第五屏蔽膜层，所述第五屏蔽膜层的底部固定连接有第六屏蔽膜层。
进一步优选的，所述第一屏蔽膜层采用PET材料加工而成，所述第一屏蔽膜层的厚度为15nm～20nm。
进一步优选的，所述第二屏蔽膜层为镀银层，所述第二屏蔽膜层的厚度为20nm～30nm。
进一步优选的，所述第三屏蔽膜层和第五屏蔽膜层均由丙烯酸胶材料加工而成，所述第三屏蔽膜层和第五屏蔽膜层的厚度为10nm。
进一步优选的，所述第四屏蔽膜层采用PET材料对镀银层进行压制定型而成，所述第四屏蔽膜层的厚度为26nm～30nm。
进一步优选的，所述第六屏蔽膜层采用PET离型薄膜进行贴合成型，所述第六屏蔽膜层的厚度为15nm～20nm。
(三)有益效果
本实用新型提供了一种新型透明EMI屏蔽膜，具备以下有益效果：
(1)、该种新型透明EMI屏蔽膜，通过设置的第一屏蔽膜层、第二屏蔽膜层、第三屏蔽膜层、第四屏蔽膜层、第五屏蔽膜层和第六屏蔽膜层，该种透明EMI屏蔽膜由多层不同材料和导电涂层组成，使得EMI屏蔽膜具有较高的透明性，当应用在电子设备上时可以使得电子设备内部的现象一目了然，大大提高了设备的可维护性和可靠性，此外，透明的EMI屏蔽膜还可以有效地防止电磁波的影响，并保证屏蔽效果不受损失，相较于传统的EMI屏蔽膜，透明的EMI屏蔽膜具有质轻、易于裁剪、结构简单等优势，配合透明的特性，更加适应目前高级电子设备的高端需求，因此，透明EMI屏蔽膜具有很高的实用价值和广泛的应用前景，不仅可以解决电子设备内部维护时的难题，更能够在大大减小电子器件尺寸纵深等方面，增加产品竞争力。
附图说明
图1是本实用新型的整体结构示意图；
图2是本实用新型屏蔽膜主体的局部结构分解示意图；
图3是本实用新型屏蔽膜主体的局部结构示意图。
图中：1、屏蔽膜主体；2、第一屏蔽膜层；3、第二屏蔽膜层；4、第三屏蔽膜层；5、第四屏蔽膜层；6、第五屏蔽膜层；7、第六屏蔽膜层。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例，基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
请参阅图1-3，本实用新型提供一种技术方案：一种新型透明EMI屏蔽膜，包括屏蔽膜主体1，屏蔽膜主体1的顶部表层固定连接有第一屏蔽膜层2，第一屏蔽膜层2的底部固定连接有第二屏蔽膜层3，第二屏蔽膜层3的底部固定连接有第三屏蔽膜层4，第三屏蔽膜层4的底部固定连接有第四屏蔽膜层5，第四屏蔽膜层5的底部固定连接有第五屏蔽膜层6，第五屏蔽膜层6的底部固定连接有第六屏蔽膜层7。
本实施例中，具体的，第一屏蔽膜层2采用PET材料加工而成，第一屏蔽膜层2的厚度为15nm～20nm，采用PET材料加工而成的第一屏蔽膜层2具有良好的力学性能，冲击强度和耐折性好。
本实施例中，具体的，第二屏蔽膜层3为镀银层，第二屏蔽膜层3的厚度为20nm～30nm，使得第二屏蔽膜层3具有较好的导电性。
本实施例中，具体的，第三屏蔽膜层4和第五屏蔽膜层6均由丙烯酸胶材料加工而成，第三屏蔽膜层4和第五屏蔽膜层6的厚度为10nm，由丙烯酸胶材料加工而成的第三屏蔽膜层4和第五屏蔽膜层6具有热塑性和热固性。
本实施例中，具体的，第四屏蔽膜层5采用PET材料对镀银层进行压制定型而成，第四屏蔽膜层5的厚度为26nm～30nm，使得第四屏蔽膜层5具有透明度高的作用。
本实施例中，具体的，第六屏蔽膜层7采用PET离型薄膜进行贴合成型，第六屏蔽膜层7的厚度为15nm～20nm，使得EMI屏蔽膜具有良好的吸附性和贴合性。
工作原理：本实用新型安装好过后，首先检查本实用新型的安装固定以及安全防护，该种透明EMI屏蔽膜由多层不同材料和导电涂层组成，使得EMI屏蔽膜具有较高的透明性，当应用在电子设备上时可以使得电子设备内部的现象一目了然，大大提高了设备的可维护性和可靠性，此外，透明的EMI屏蔽膜还可以有效地防止电磁波的影响，并保证屏蔽效果不受损失，相较于传统的EMI屏蔽膜，透明的EMI屏蔽膜具有质轻、易于裁剪、结构简单等优势，配合透明的特性，更加适应目前高级电子设备的高端需求，因此，透明的EMI屏蔽膜的发明具有很高的实用价值和广泛的应用前景，不仅可以解决电子设备内部维护时的难题，更能够在大大减小电子器件尺寸纵深等方面，增加产品竞争力，这样就完成了对本实用新型的使用过程，本实用新型结构简单，使用安全方便。
尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。
Claims (6)
1.一种新型透明EMI屏蔽膜，包括屏蔽膜主体(1)，其特征在于：所述屏蔽膜主体(1)的顶部表层固定连接有第一屏蔽膜层(2)，所述第一屏蔽膜层(2)的底部固定连接有第二屏蔽膜层(3)，所述第二屏蔽膜层(3)的底部固定连接有第三屏蔽膜层(4)，所述第三屏蔽膜层(4)的底部固定连接有第四屏蔽膜层(5)，所述第四屏蔽膜层(5)的底部固定连接有第五屏蔽膜层(6)，所述第五屏蔽膜层(6)的底部固定连接有第六屏蔽膜层(7)。
2.根据权利要求1所述的一种新型透明EMI屏蔽膜，其特征在于：所述第一屏蔽膜层(2)采用PET材料加工而成，所述第一屏蔽膜层(2)的厚度为15nm～20nm。
3.根据权利要求1所述的一种新型透明EMI屏蔽膜，其特征在于：所述第二屏蔽膜层(3)为镀银层，所述第二屏蔽膜层(3)的厚度为20nm～30nm。
4.根据权利要求1所述的一种新型透明EMI屏蔽膜，其特征在于：所述第三屏蔽膜层(4)和第五屏蔽膜层(6)均由丙烯酸胶材料加工而成，所述第三屏蔽膜层(4)和第五屏蔽膜层(6)的厚度为10nm。
5.根据权利要求1所述的一种新型透明EMI屏蔽膜，其特征在于：所述第四屏蔽膜层(5)采用PET材料对镀银层进行压制定型而成，所述第四屏蔽膜层(5)的厚度为26nm～30nm。
6.根据权利要求1所述的一种新型透明EMI屏蔽膜，其特征在于：所述第六屏蔽膜层(7)采用PET离型薄膜进行贴合成型，所述第六屏蔽膜层(7)的厚度为15nm～20nm。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202321260661.9U CN219718989U (zh) | 2023-05-23 | 2023-05-23 | 一种新型透明emi屏蔽膜 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202321260661.9U CN219718989U (zh) | 2023-05-23 | 2023-05-23 | 一种新型透明emi屏蔽膜 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN219718989U true CN219718989U (zh) | 2023-09-19 |
Family
ID=88015282
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| CN202321260661.9U Active CN219718989U (zh) | 2023-05-23 | 2023-05-23 | 一种新型透明emi屏蔽膜 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| CN (1) | CN219718989U (zh) |
-
2023
- 2023-05-23 CN CN202321260661.9U patent/CN219718989U/zh active Active
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