CN219580275U - 一种溶铜循环系统 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种溶铜循环系统，包括：第一罐体、过滤器、第一泵体、第二罐体、溢流板、添加剂喷淋口等等，将添加剂通过喷淋方式通过添加剂喷淋口进入第二罐体的高位室，同时外部溶铜设备将铜溶液送入，第一罐体中的铜溶液通过第一泵体送入过滤器再一同进入高位室，随着溶液与添加剂的混合物液面上涨，随后会通过溢流方式进入低位槽，再通过位于低位室的出液口上液外接设备从而生箔，在该过程中，溢流能够增加了添加剂与溶液的混合时间，且通过溢流板的阻挡与溢流，仅部分溶液与添加剂混合后到达低位槽从出液口上液，避免了添加剂的浪费与失效，也使溶液中的添加剂混合更加均匀。
Description
技术领域
本实用新型涉及铜箔生产设备领域，具体涉及一种溶铜循环系统。
背景技术
铜箔行业中，生箔需要电解液来提供铜离子及其它电解质，系统铜离子需要溶铜进行补充，而大系统需要的液量更多，需要混合添加剂量更多，添加剂与溶液混合均匀，只能依靠添加剂在净液槽溶液中的扩散能力。目前添加剂添加方式是通过在各种添加剂搅拌罐搅拌初步溶解，再至净液槽总管汇总直接流入。
目前这种扩散方式，对大液量循环系统不适用，仅靠添加剂扩散能力与溶液混合均匀达不到理想状态，添加剂混合不均匀，会导致生箔生产各种问题，影响产量。
实用新型内容
本实用新型的目的是为了克服现有技术中的问题，提供一种能够增加添加剂与溶液的混合时间，从而避免了添加剂的浪费与失效，也使溶液中的添加剂混合更加均匀的溶铜循环系统。
本实用新型提供了一种溶铜循环系统，包括：
第一罐体；
过滤器，过滤器与第一罐体相连接，过滤器位于第一罐体的上方；
第一泵体，第一泵体连接于过滤器与第一罐体之间，第一泵体用于将第一罐体中的液体送入过滤器中；
第二罐体，第二罐体与过滤器相连接，过滤器位于第二罐体的上方，且第二罐体的内部设有一竖直的溢流板，溢流板将第二罐体内部划分为了高位室与低位室两部分，溢流板的上部开设有溢流口，溢流口将高位室与低位室相连通，过滤器与高位室相连通，第二罐体的侧壁上设有出液口，出液口将低位室与外界相连通；
添加剂喷淋口，添加剂喷淋口设于第二罐体的上部，且添加剂喷淋口与高位室相连通。
进一步地，还包括：第二泵体，第二泵体一端与高位室的底部相连接，第二泵体的另一端与第一罐体相连接，第二泵体用于将高位室的底部内的液体送入第一罐体内部。
进一步地，还包括：触发件，触发件与第二泵体相连接，触发件设于第二罐体的位于高位室的内壁上，触发件用于被高位室内部的液面高度所触发并启动第二泵体。
进一步地，触发件包括液位感知器，液位感知器设于第二罐体的位于高位室的内壁上，且液位感知器的高度与溢流口高度一致。
进一步地，溢流口为开设于溢流板上的水平的槽缝。
进一步地，还包括：多个连接管道，第一泵体与第一罐体之间连接有连接管道，第一泵体与过滤器之间连接有连接管道，过滤器与高位室之间连接有连接管道，高位室与第二泵体之间连接有连接管道，第二泵体与第一罐体之间连接有连接管道。
进一步地，过滤器为硅藻土过滤器。
与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：当使用装置时，需要提前调节好添加剂的下量，将添加剂通过喷淋方式通过添加剂喷淋口进入第二罐体的高位室，同时外部溶铜设备将铜溶液送入，第一罐体中的铜溶液通过第一泵体送入过滤器再一同进入高位室，随着溶液与添加剂的混合物液面上涨，随后会通过溢流方式进入低位槽，再通过位于低位室的出液口上液外接设备从而生箔，在该过程中，溢流能够增加了添加剂与溶液的混合时间，且通过溢流板的阻挡与溢流，仅部分溶液与添加剂混合后到达低位槽从出液口上液，避免了添加剂的浪费与失效，也使溶液中的添加剂混合更加均匀。
附图说明
图1为本实用新型中一种实施例的总体结构示意图。
附图标记说明：
1、过滤器；2、第一罐体；3、第一泵体；4、添加剂喷淋口；5、第二泵体；6、第二罐体；61、高位室；62、低位室；7、溢流板；71、溢流口。
具体实施方式
下面对本实用新型的具体实施方式进行详细描述，但应当理解本实用新型的保护范围并不受具体实施方式的限制。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
本实用新型提供的一种溶铜循环系统，包括：第一罐体2、过滤器1、第一泵体3、第二罐体6、溢流板7、添加剂喷淋口4等，其中过滤器1与第一罐体2相连接，过滤器1位于第一罐体2的上方；第一泵体3连接于过滤器1与第一罐体2之间，第一泵体3用于将第一罐体2中的液体送入过滤器1中；第二罐体6与过滤器1相连接，过滤器1位于第二罐体6的上方，且第二罐体6的内部设有一竖直的溢流板7，溢流板7将第二罐体6内部划分为了高位室61与低位室62两部分，溢流板7的上部开设有溢流口71，溢流口71将高位室61与低位室62相连通，过滤器1与高位室61相连通，第二罐体6的侧壁上设有出液口，出液口将低位室62与外界相连通；添加剂喷淋口4设于第二罐体6的上部，且添加剂喷淋口4与高位室61相连通。
具体地，请参考图1，当使用装置时，需要提前调节好添加剂的下量，将添加剂通过喷淋方式通过添加剂喷淋口4进入第二罐体6的高位室61，同时外部溶铜设备将铜溶液送入，第一罐体2中的铜溶液通过第一泵体3送入过滤器1再一同进入高位室61，随着溶液与添加剂的混合物液面上涨，随后会通过溢流方式进入低位槽，再进入位于低位室的出液口，得以上液至外接设备从而生箔，在该过程中，溢流能够增加了添加剂与溶液的混合时间，且通过溢流板7的阻挡与溢流，仅部分溶液与添加剂混合后到达低位槽从出液口上液，避免了添加剂的浪费与失效，也使溶液中的添加剂混合更加均匀。
进一步地，还包括：第二泵体5，第二泵体5一端与高位室61的底部相连接，第二泵体5的另一端与第一罐体2相连接，第二泵体5用于将高位室61的底部内的液体送入第一罐体2内部。当高位室61达到溢流高度时，溶液带动添加剂开始溢流，高位室61中部分位于底部的溶液流速较慢，此时通过第二泵体5来调动高位室61的循环流动，将液送至硅藻土过滤器重新过滤溶液中的不溶物，进而提高高位室61溶液的利用率
进一步地，还包括：触发件，触发件与第二泵体5相连接，触发件设于第二罐体6的位于高位室61的内壁上，触发件用于被高位室61内部的液面高度所触发并启动第二泵体5。当第二罐体6的高位室61达到溢流高度时，溶液与添加剂开始溢流，高位室61中除表层液体外的大部分溶液处于不流动状态，此时触发件触发第二泵体5，通过第二泵体5来调动高位室61内部液体的循环流动，同时还能将液送至硅藻土过滤器重新过滤溶液中的不溶物，进而提高高位槽溶液的利用率。
进一步地，触发件包括液位感知器，液位感知器设于第二罐体6的位于高位室61的内壁上，且液位感知器的高度与溢流口71高度一致。在本实施例中，液位感知器使用现有技术中的浮球式液位感知器，在其他实施例中也可以使用电容传感器、电阻传感器等现有技术中的液位感知器。
进一步地，溢流口71为开设于溢流板7上的水平的槽缝。槽缝为水平式的槽缝，该结构作为溢流口能够良好适应液面的几何特征，提高溢流稳定性与效率。
进一步地，还包括：多个连接管道，第一泵体3与第一罐体2之间连接有连接管道，第一泵体3与过滤器1之间连接有连接管道，过滤器1与高位室61之间连接有连接管道，高位室61与第二泵体5之间连接有连接管道，第二泵体5与第一罐体2之间连接有连接管道。
进一步地，过滤器1为硅藻土过滤器。本实施例中的硅藻土过滤器为现有技术中以硅藻土为主要介质，利用硅藻土颗粒的细微性和多孔性去除游泳池水中悬浮颗粒、胶体等杂质的过滤装置，能够良好适应对铜溶液的净化需求。
尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，能够理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下能够对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。
Claims (7)
1.一种溶铜循环系统，其特征在于，包括：
第一罐体(2)；
过滤器(1)，所述过滤器(1)与所述第一罐体(2)相连接，所述过滤器(1)位于所述第一罐体(2)的上方；
第一泵体(3)，所述第一泵体(3)连接于所述过滤器(1)与所述第一罐体(2)之间，所述第一泵体(3)用于将所述第一罐体(2)中的液体送入所述过滤器(1)中；
第二罐体(6)，所述第二罐体(6)与所述过滤器(1)相连接，所述过滤器(1)位于所述第二罐体(6)的上方，且所述第二罐体(6)的内部设有一竖直的溢流板(7)，所述溢流板(7)将所述第二罐体(6)内部划分为了高位室(61)与低位室(62)两部分，所述溢流板(7)的上部开设有溢流口(71)，所述溢流口(71)将所述高位室(61)与低位室(62)相连通，所述过滤器(1)与所述高位室(61)相连通，所述第二罐体(6)的侧壁上设有出液口，所述出液口将所述低位室(62)与外界相连通；
添加剂喷淋口(4)，所述添加剂喷淋口(4)设于所述第二罐体(6)的上部，且所述添加剂喷淋口(4)与所述高位室(61)相连通。
2.如权利要求1所述的一种溶铜循环系统，其特征在于，还包括：第二泵体(5)，所述第二泵体(5)一端与所述高位室(61)的底部相连接，所述第二泵体(5)的另一端与所述第一罐体(2)相连接，所述第二泵体(5)用于将高位室(61)的底部内的液体送入所述第一罐体(2)内部。
3.如权利要求2所述的一种溶铜循环系统，其特征在于，还包括：触发件，所述触发件与所述第二泵体(5)相连接，所述触发件设于所述第二罐体(6)的位于高位室(61)的内壁上，所述触发件用于被高位室(61)内部的液面高度所触发并启动第二泵体(5)。
4.如权利要求3所述的一种溶铜循环系统，其特征在于，所述触发件包括液位感知器，所述液位感知器设于所述第二罐体(6)的位于高位室(61)的内壁上，且所述液位感知器的高度与所述溢流口(71)高度一致。
5.如权利要求4所述的一种溶铜循环系统，其特征在于，所述溢流口(71)为开设于所述溢流板(7)上的水平的槽缝。
6.如权利要求5所述的一种溶铜循环系统，其特征在于，还包括：多个连接管道，所述第一泵体(3)与所述第一罐体(2)之间连接有连接管道，所述第一泵体(3)与所述过滤器(1)之间连接有连接管道，所述过滤器(1)与所述高位室(61)之间连接有连接管道，所述高位室(61)与第二泵体(5)之间连接有连接管道，所述第二泵体(5)与第一罐体(2)之间连接有连接管道。
7.如权利要求6所述的一种溶铜循环系统，其特征在于，所述过滤器(1)为硅藻土过滤器。
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