CN219574592U - 一种浸没式光刻机 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种浸没式光刻机，属于光刻机领域，所要解决的问题是现有光刻机中载物板清理操作繁琐的问题，采用的方案为：该装置包括为其本体的光刻机，且光刻机的上方还固定安装有位于探测头正下方的载物板；所述载物板的顶侧开设有硅片槽，所述载物板的顶侧开设有位于硅片槽的外侧的液槽，且载物板中开设有与硅片槽内腔和液槽相连通的通槽；该浸没式光刻机，通过载物板上硅片槽的设置，便于根据需求对不同半径的硅片进行卡装，同时在工作完毕后，自动向液槽中灌装清洗液即可使其沿着硅片槽的内壁自动流至排槽中，解决了现有装置需要在工作后手动对载物板进行清洗操作繁琐且易对其造成损伤的问题，本实用新型适用于光刻机领域。

Description

一种浸没式光刻机

技术领域

本实用新型涉及光刻机技术领域，具体为一种浸没式光刻机。

背景技术

光刻机又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻，一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序，意思是用光来制作一个图形。

经检索，专利申请号为201810568948.5的申请书中，公开了一种半导体芯片生产用浸没式光刻机，包括本体、横杆、竖板和载物板，所述本体的上端安装有探测头，所述横杆的一端和气缸的端头处相互连接，所述连接杆的两端设置有竖杆，所述调节块的内部贯穿有固定柱，所述短杆上固定铁块，所述竖板安装在固定柱的一端，所述本体的内底面安装有红外线发射器，所述载物板安装在竖杆的顶部，且载物板的侧面设置有挡板，所述载物板的上端面设置有防护条。上述申请文件通过对载物板进行移动，同时对其上的硅片进行防护；但是载物板的仍为透明板状，对于圆形硅片的限位效果有限，同时载物板在每次使用后由于载物板上残存光刻胶污染物，导致需要使用特质棉签对其进行清洗，这样不仅操作繁琐，同时手持棉签擦拭的方式易导致载物板表面出现划痕，影响后续光刻。

因此，我们提出了一种浸没式光刻机。

实用新型内容

针对现有技术的不足，本实用新型提供了一种浸没式光刻机，解决了现有装置需要在工作后手动对载物板进行清洗操作繁琐且易对其造成损伤的问题。

为实现以上目的，本实用新型通过以下技术方案予以实现：一种浸没式光刻机，包括为其本体的光刻机，所述光刻机的顶侧装配有探测头，且光刻机的上方还固定安装有位于探测头正下方的载物板；

所述载物板的顶侧开设有硅片槽，所述载物板的顶侧开设有位于硅片槽的外侧的液槽，且载物板中开设有与硅片槽内腔和液槽相连通的通槽。

优选的，所述硅片槽为向下半径不断减小的圆台状槽，且硅片槽的内侧壁上开设有五组间距相同的卡槽

优选的，所述硅片槽内侧的顶侧开设有两组位置相对的十组通槽，且十组通槽的外端均与液槽内槽相连通。

优选的，所述载物板的底侧开设有呈矩状的排槽，且排槽的正中心处开设有位于硅片槽下方的圆槽。

优选的，所述排槽的顶部固定安装有位于圆槽外侧的导座，且导座为倾斜度45度的薄状圆台座。

优选的，所述载物板的顶部固定安装有位于液槽上方的液框，且液框的顶部固定安装有进液座。

优选的，所述液框与液槽中所灌装的为超纯水清洗液。

本实用新型提供了一种浸没式光刻机。具备以下有益效果：

该浸没式光刻机，通过载物板上硅片槽的设置，便于根据需求对不同半径的硅片进行卡装，同时在工作完毕后，自动向液槽中灌装清洗液即可使其沿着硅片槽的内壁自动流至排槽中，在此过程中，能够对硅片槽的内侧壁进行缓慢清洗，保证其清洗效果，解决了现有装置需要在工作后手动对载物板进行清洗操作繁琐且易对其造成损伤的问题。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图；

图2为本实用新型载物板的结构示意图；

图3为本实用新型硅片槽的结构示意图；

图4为本实用新型硅片槽内侧的结构示意图；

图5为本实用新型导座的结构示意图。

图中：1、光刻机；2、探测头；3、载物板；4、硅片槽；5、液框；6、进液座；7、排槽；8、液槽；9、通槽；10、卡槽；11、导座。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

请参阅图1-5，本实用新型实施例提供一种技术方案：一种浸没式光刻机，包括为其本体的光刻机1，光刻机1的顶侧装配有探测头2，且光刻机1的上方还固定安装有位于探测头2正下方的载物板3；

载物板3的顶侧开设有硅片槽4，载物板3的顶侧开设有位于硅片槽4的外侧的液槽8，且载物板3中开设有与硅片槽4内腔和液槽8相连通的通槽9；

其中，在本实施例中，需要补充说明的是，该浸没式光刻机，通过载物板3上硅片槽4的设置，便于根据需求对不同半径的硅片进行卡装，同时在工作完毕后，自动向液槽8中灌装清洗液即可使其沿着硅片槽4的内壁自动流至排槽7中，在此过程中，能够对硅片槽4的内侧壁进行缓慢清洗，保证其清洗效果，解决了现有装置需要在工作后手动对载物板3进行清洗操作繁琐且易对其造成损伤的问题。

在本实施例中，需要补充说明的是，硅片槽4为向下半径不断减小的圆台状槽，且硅片槽4的内侧壁上开设有五组间距相同的卡槽10。

在本实施例中，需要补充说明的是，硅片槽4内侧的顶侧开设有两组位置相对的十组通槽9，且十组通槽9的外端均与液槽8内槽相连通。

在本实施例中，需要补充说明的是，载物板3的底侧开设有呈矩状的排槽7，且排槽7的正中心处开设有位于硅片槽4下方的圆槽。

在本实施例中，需要补充说明的是，排槽7的顶部固定安装有位于圆槽外侧的导座11，且导座11为倾斜度45度的薄状圆台座。

在本实施例中，需要补充说明的是，载物板3的顶部固定安装有位于液槽8上方的液框5，且液框5的顶部固定安装有进液座6。

在本实施例中，需要补充说明的是，液框5与液槽8中所灌装的为超纯水清洗液。

本实用新型的工作原理及使用流程：当需要该装置工作时，将相应硅片放置在硅片槽4中，硅片自动掉落至相应位置的卡槽10上，进行后续光刻工作，工作完成后，取下硅片，自动向液槽8中灌装超纯水清洗液，其穿过多组通槽9沿着硅片槽4的内壁自动流至排槽7中，同时对硅片槽4内侧壁上所残留的污染物进行清洁，自动程度高且不会对载物板3造成损伤。

以上显示和描述了本实用新型的基本原理和主要特征和本实用新型的优点,对于本领域技术人员而言，显然本实用新型不限于上述示范性实施例的细节，而且在不背离本实用新型的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本实用新型。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本实用新型的范围由所附权利要求而不是上述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本实用新型内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。

此外，应当理解，虽然本说明书按照实施方式加以描述，但并非每个实施方式仅包含一个独立的技术方案，说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见，本领域技术人员应当将说明书作为一个整体，各实施例中的技术方案也可以经适当组合，形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。

Claims (7)

1.一种浸没式光刻机，包括为其本体的光刻机（1），所述光刻机（1）的顶侧装配有探测头（2），且光刻机（1）的上方还固定安装有位于探测头（2）正下方的载物板（3）；

其特征在于：所述载物板（3）的顶侧开设有硅片槽（4），所述载物板（3）的顶侧开设有位于硅片槽（4）的外侧的液槽（8），且载物板（3）中开设有与硅片槽（4）内腔和液槽（8）相连通的通槽（9）。

2.根据权利要求1所述的一种浸没式光刻机，其特征在于：所述硅片槽（4）为向下半径不断减小的圆台状槽，且硅片槽（4）的内侧壁上开设有五组间距相同的卡槽（10）。

3.根据权利要求1所述的一种浸没式光刻机，其特征在于：所述硅片槽（4）内侧的顶侧开设有两组位置相对的十组通槽（9），且十组通槽（9）的外端均与液槽（8）内槽相连通。

4.根据权利要求1所述的一种浸没式光刻机，其特征在于：所述载物板（3）的底侧开设有呈矩状的排槽（7），且排槽（7）的正中心处开设有位于硅片槽（4）下方的圆槽。

5.根据权利要求4所述的一种浸没式光刻机，其特征在于：所述排槽（7）的顶部固定安装有位于圆槽外侧的导座（11），且导座（11）为倾斜度45度的薄状圆台座。

6.根据权利要求1所述的一种浸没式光刻机，其特征在于：所述载物板（3）的顶部固定安装有位于液槽（8）上方的液框（5），且液框（5）的顶部固定安装有进液座（6）。

7.根据权利要求6所述的一种浸没式光刻机，其特征在于：所述液框（5）与液槽（8）中所灌装的为超纯水清洗液。