CN219559288U - 一种防沉淀的导电液配置装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型提供一种防沉淀的导电液配置装置,包括:电机以及滤网,所述电机左侧安装有进料管,所述进料管下端设有盖体,所述盖体下端安装有配置罐,所述配置罐上端外侧安装有加热部件,所述配置罐前端中间位置安装有控制面板,所述配置罐下端安装有底座,所述底座下端中间位置安装有出料管,所述电机下端安装有旋轴,所述旋轴上端外侧安装有导流叶,所述导流叶下端设有搅料辊,所述配置罐内侧开设有配置仓,与现有技术相比,本实用新型具有如下的有益效果:通过使用控制面板、加热部件,能够便于工作人员直观观察并调整配置仓内部温度,通过使用电机、旋轴以及旋座,能够对配置仓底部的沉淀物进行充分搅拌,并防止沉淀物在配置仓内部堆积。
Description
技术领域
本实用新型属于导电液配置技术领域,涉及一种防沉淀的导电液配置装置。
背景技术
导电剂是为了保证电极具有良好的充放电性能,在极片制作时通常加入一定量的导电物质,在活性物质之间、活性物质与集流体之间起到收集微电流的作用,以减小电极的接触电阻加速电子的移动速率,同时也能有效地提高锂离子在电极材料中的迁移速率,从而提高电极的充放电效率。
中国专利CN210787205U(一种导电材料生产用导电液配置装置)中,包括顶部设为开口的混料罐,所述混料罐的顶部固定安装有顶板,所述顶板的底部与混料罐的底部内壁上转动安装有同一个转杆,所述顶板的顶部固定安装有第一电机,所述转杆的顶端与第一电机的输出轴固定连接,所述转杆上固定套设有多个套筒,所述套筒上固定安装有多个搅拌叶片。
上述装置通过两个不锈钢研磨辊的研磨便可将颗粒大小不同的氯化钠进行研磨粉碎,之后再通过加热棒的加热作用和搅拌叶片的不断搅动下,使得氯化钠与清水的反应更加快速彻底,减少了沉淀物的产生,但是上述装置只是减少沉淀物的产生,并无法杜绝,实际意义上配置罐内部还是存在沉淀物,现有技术中设备无法针对无法去除的沉淀物进行针对性的防沉淀措施,长时间使用中可能会导致沉淀物堆积并造成设备需要频繁清理、维护,加大了设备的维护成本,因此,现在亟需一种防沉淀的导电液配置装置来解决以上的问题。
实用新型内容
针对现有技术存在的不足,本实用新型目的是提供一种防沉淀的导电液配置装置,解决上述背景技术中提出的问题。
本实用新型通过以下的技术方案实现:一种防沉淀的导电液配置装置,包括:电机、进料管、盖体、加热部件、控制面板、配置罐、底座、出料管、旋轴、导流叶、配置仓、搅料辊、旋座以及滤网,所述电机左侧安装有进料管;
所述进料管下端设有盖体,所述盖体下端安装有配置罐,所述配置罐上端外侧安装有加热部件,所述配置罐前端中间位置安装有控制面板,所述配置罐下端安装有底座;
所述底座下端中间位置安装有出料管,所述电机下端安装有旋轴,所述旋轴上端外侧安装有导流叶,所述导流叶下端设有搅料辊,所述配置罐内侧开设有配置仓,所述搅料辊下端设有旋座,所述旋座内侧设有滤网。
作为一优选的实施方式,所述进料管内部与配置仓内部相互连通,所述盖体下端内侧开设有外螺槽,所述配置罐上端外侧开设有外螺纹,所述外螺槽内部设有密封胶层,所述盖体与配置罐通过螺纹旋合连接。
作为一优选的实施方式,所述加热部件设有两组,且两组所述加热部件均密封贯穿配置罐并位于配置仓内部,所述加热部件还包括加热管以及加热控制器,所述配置罐内侧设有加热管,所述配置罐外侧设有加热控制器。
作为一优选的实施方式,所述旋轴贯穿盖体与电机连接,所述盖体内部中间位置设有密封轴承,所述导流叶、搅料辊以及旋座均与旋轴连接固定。
作为一优选的实施方式,所述导流叶为一种螺旋结构,所述搅料辊设有若干组,所述旋座横截面为一种弧形结构,且与配置仓底部距离10-15mm,所述配置仓底部为一种弧形结构,能够对配置仓底部的沉淀物进行快速搅拌。
作为一优选的实施方式,所述配置仓内部与出料管内部相互连通,所述控制面板后端还设有温度传感器,所述加热控制器与控制面板通过导线连接,所述控制面板为一种RDF800型液显温控器,能够便于工作人员直观观察并调整配置仓内部温度。
采用了上述技术方案后,本实用新型的有益效果是:通过使用控制面板、加热部件,能够便于工作人员直观观察并调整配置仓内部温度,通过使用电机、旋轴以及旋座,能够对配置仓底部的沉淀物进行充分搅拌,并防止沉淀物在配置仓内部堆积。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动性的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本实用新型一种防沉淀的导电液配置装置的结构示意图;
图2为本实用新型一种防沉淀的导电液配置装置中配置罐内部的正视结构图;
图3为本实用新型一种防沉淀的导电液配置装置中旋座的俯视结构图;
图中:1-电机、2-进料管、3-盖体、4-加热部件、5一控制面板、6-配置罐、7-底座、8-出料管、9-旋轴、10-导流叶、11-配置仓、12-搅料辊、13-旋座、14-滤网。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
请参阅图1-图3,一种防沉淀的导电液配置装置,包括:电机1、进料管2、盖体3、加热部件4、控制面板5、配置罐6、底座7、出料管8、旋轴9、导流叶10、配置仓11、搅料辊12、旋座13以及滤网14,电机1左侧安装有进料管2;
进料管2下端设有盖体3,盖体3下端安装有配置罐6,配置罐6上端外侧安装有加热部件4,配置罐6前端中间位置安装有控制面板5,配置罐6下端安装有底座7;
底座7下端中间位置安装有出料管8,电机1下端安装有旋轴9,旋轴9上端外侧安装有导流叶10,导流叶10下端设有搅料辊12,配置罐6内侧开设有配置仓11,搅料辊12下端设有旋座13,旋座13内侧设有滤网14。
进料管2内部与配置仓11内部相互连通,盖体3下端内侧开设有外螺槽,配置罐6上端外侧开设有外螺纹,外螺槽内部设有密封胶层,盖体3与配置罐6通过螺纹旋合连接。
加热部件4设有两组,且两组加热部件4均密封贯穿配置罐6并位于配置仓11内部,加热部件4还包括加热管以及加热控制器,配置罐6内侧设有加热管,配置罐6外侧设有加热控制器。
旋轴9贯穿盖体3与电机1连接,盖体3内部中间位置设有密封轴承,导流叶10、搅料辊12以及旋座13均与旋轴9连接固定。
导流叶10为一种螺旋结构,搅料辊12设有若干组,旋座13横截面为一种弧形结构,且与配置仓11底部距离10-15mm,配置仓11底部为一种弧形结构,能够对配置仓11底部的沉淀物进行快速搅拌。
配置仓11内部与出料管8内部相互连通,控制面板5后端还设有温度传感器,加热控制器与控制面板5通过导线连接,控制面板5为一种RDF800型液显温控器,能够便于工作人员直观观察并调整配置仓11内部温度。
作为本实用新型的第一个实施例:为了解决上述装置只是减少沉淀物的产生,并无法杜绝,实际意义上配置罐6内部还是存在沉淀物,现有技术中设备无法针对无法去除的沉淀物进行针对性的防沉淀措施,长时间使用中可能会导致沉淀物堆积并造成设备需要频繁清理、维护,加大了设备的维护成本的问题,首先工作人员将导电液配置所需要的原料通过进料管2导入,并通过进料管2进入配置仓11内部,待导入完成后,随后工作人员启动电机1,电机1带动旋轴9旋转,由于导流叶10、搅料辊12以及旋座13均与旋轴9连接固定,旋轴9旋转带动导流叶10、搅料辊12以及旋座13一同旋转,从而对导电液配置的原料进行搅拌混合,当配置过程中产生沉淀物时,由于旋座13横截面为一种弧形结构,且与配置仓11底部距离10-15mm,配置仓11底部为一种弧形结构,旋转的旋座13能够将配置仓11底部的沉淀物带动呈螺旋状旋转,从而防止沉淀物堆积。
作为本实用新型的第二个实施例:基于上述实施例中阐述,进一步地,当工作人员在进行导电液配置时,工作人员可根据所需配置的环境温度来调控控制面板5以及加热部件4,从而保持配置仓11内部保持合适温度,同时由于控制面板5后端还设有温度传感器,控制面板5为一种RDF800型液显温控器,工作人员能够直观观察到配置仓11内部的实时温度,从而保证导电液配置过程中温度精确。
以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已,并不用以限制本实用新型,凡在本实用新型的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。
Claims (6)
1.一种防沉淀的导电液配置装置,包括:电机(1)、进料管(2)以及滤网(14),其特征在于:所述电机(1)左侧安装有进料管(2);
所述进料管(2)下端设有盖体(3),所述盖体(3)下端安装有配置罐(6),所述配置罐(6)上端外侧安装有加热部件(4),所述配置罐(6)前端中间位置安装有控制面板(5),所述配置罐(6)下端安装有底座(7);
所述底座(7)下端中间位置安装有出料管(8),所述电机(1)下端安装有旋轴(9),所述旋轴(9)上端外侧安装有导流叶(10),所述导流叶(10)下端设有搅料辊(12),所述配置罐(6)内侧开设有配置仓(11),所述搅料辊(12)下端设有旋座(13),所述旋座(13)内侧设有滤网(14)。
2.根据权利要求1所述的一种防沉淀的导电液配置装置,其特征在于:所述进料管(2)内部与配置仓(11)内部相互连通,所述盖体(3)下端内侧开设有外螺槽,所述配置罐(6)上端外侧开设有外螺纹,所述外螺槽内部设有密封胶层,所述盖体(3)与配置罐(6)通过螺纹旋合连接。
3.根据权利要求1所述的一种防沉淀的导电液配置装置,其特征在于:所述加热部件(4)设有两组,且两组所述加热部件(4)均密封贯穿配置罐(6)并位于配置仓(11)内部,所述加热部件(4)还包括加热管以及加热控制器,所述配置罐(6)内侧设有加热管,所述配置罐(6)外侧设有加热控制器。
4.根据权利要求1所述的一种防沉淀的导电液配置装置,其特征在于:所述旋轴(9)贯穿盖体(3)与电机(1)连接,所述盖体(3)内部中间位置设有密封轴承,所述导流叶(10)、搅料辊(12)以及旋座(13)均与旋轴(9)连接固定。
5.根据权利要求1所述的一种防沉淀的导电液配置装置,其特征在于:所述导流叶(10)为一种螺旋结构,所述搅料辊(12)设有若干组,所述旋座(13)横截面为一种弧形结构,且与配置仓(11)底部距离10-15mm,所述配置仓(11)底部为一种弧形结构。
6.根据权利要求1所述的一种防沉淀的导电液配置装置,其特征在于:所述配置仓(11)内部与出料管(8)内部相互连通,所述控制面板(5)后端还设有温度传感器,所述控制面板(5)与加热控制器通过导线连接,所述控制面板(5)为一种RDF800型液显温控器。
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