CN219547281U - 一种纳米抗菌纱浸渍设备 - Google Patents
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Abstract
本实用新型属于纳米抗菌纱浸渍领域，具体的说是一种纳米抗菌纱浸渍设备，包括底座，所述底座顶部固接有箱体，所述箱体顶部一端固接有固定架二，所述固定架二设置有两组，两组所述固定架二相互对称，所述固定架二内固接有连接柱，两组所述固定架二之间滑动连接有两组挤压柱；通过在箱体内加入适量溶液，将纳米抗菌纱从箱体顶部一端穿入箱体内的溶液内，浸渍后的纳米抗菌纱从两组挤压柱之间穿过，弹簧处于压缩状态会挤压滑动板，使滑动板带动挤压柱滑动，从而使两组挤压柱之间相互挤压，使经过两组挤压柱之间的纳米抗菌纱受到挤压，纳米抗菌纱表面的溶液便会减少，减少浸渍溶液浪费量，减少后续脱水烘干花费时间，提高纳米抗菌纱加工效率。
Description
技术领域
本实用新型涉及纳米抗菌纱浸渍领域，具体是一种纳米抗菌纱浸渍设备。
背景技术
纳米抗菌纱是在纺织过程中将纳米抗菌金属材料均匀地融入纺纱溶液中，经纺丝加工制成的一种具有抗菌功能的纤维纱线，纳米抗菌纱在生产过程中需要浸渍，需要使用纳米抗菌纱浸渍设备。
现有的纳米抗菌纱浸渍设备主要由箱体、柱体组成，在箱体内加入适量的浸泡溶液，然后将纳米抗菌纱从箱体一端顶部浸入溶液内，再经过柱体底部穿过，柱体使纳米抗菌纱压入溶液内，浸渍后的纳米抗菌纱从箱体另一端穿出，此时的纳米抗菌纱处于潮湿状态，后续需要进行脱水烘干。
现有纳米抗菌纱浸渍设备浸渍后的纳米抗菌纱表面有大量溶液，过于潮湿，不但浪费浸渍溶液，而且使后续脱水烘干花费时间较长，影响纳米抗菌纱的加工效率，因此，针对上述问题提出一种纳米抗菌纱浸渍设备。
实用新型内容
为了弥补现有技术的不足，解决上述问题，本实用新型提出一种纳米抗菌纱浸渍设备。
本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：本实用新型所述的一种纳米抗菌纱浸渍设备，包括底座，所述底座顶部固接有箱体，所述箱体顶部一端固接有固定架二，所述固定架二设置有两组，两组所述固定架二相互对称，所述固定架二内固接有连接柱，两组所述固定架二之间滑动连接有两组挤压柱，两组所述挤压柱两端均固接有滑动板，四组所述滑动板分别滑动连接于两组连接柱上，所述滑动板靠近于固定架二的一侧固接有弹簧，所述弹簧另一端固接于固定架二靠近于滑动板的一侧，且弹簧套设于连接柱侧壁。
优选的，两组所述挤压柱相互对称，所述滑动板与固定架二内壁之间均固接有弹簧。
优选的，所述底座顶部固接有支架，所述支架位于箱体中部，所述支架底部固接有气缸，所述气缸位于箱体顶部，所述气缸输出端固接有固定柱，所述固定柱平行于挤压柱，且固定柱位于箱体内。
优选的，所述箱体底部固接有支柱，所述支柱设置有多组，多组所述支柱分别位于箱体底部四角位置，多组所述支柱远离于箱体的一端均固接于底座顶部。
优选的，所述箱体顶部远离于挤压柱的一端对称固接有两组固定架一，两组所述固定架一之间固接有转动辊，所述转动辊平行于挤压柱。
优选的，所述底座顶部固接有电机，所述电机输出端贯穿于箱体底部，所述电机输出端固接有搅拌桨，所述搅拌桨位于箱体内。
优选的，所述箱体内固接有隔板，所述搅拌桨位于隔板底部。
优选的，所述隔板顶部开设有多组孔洞，多组所述孔洞均贯穿于隔板。
本实用新型的有益之处在于：
本实用新型通过在箱体内加入适量溶液，将纳米抗菌纱从箱体顶部一端穿入箱体内的溶液内，浸渍后的纳米抗菌纱从两组挤压柱之间穿过，弹簧处于压缩状态会挤压滑动板，使滑动板带动挤压柱滑动，从而使两组挤压柱之间相互挤压，使经过两组挤压柱之间的纳米抗菌纱受到挤压，纳米抗菌纱表面的溶液便会减少，减少浸渍溶液浪费量，减少后续脱水烘干花费时间，提高纳米抗菌纱加工效率。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其它的附图。
图1为本实用新型的整体结构示意图；
图2为本实用新型的箱体内结构示意图；
图3为本实用新型的剖视结构示意图；
图4为本实用新型的挤压柱结构示意图。
图中：1、箱体；2、支架；3、底座；4、支柱；5、气缸；6、固定架一；7、转动辊；8、固定柱；9、固定架二；10、连接柱；11、滑动板；12、弹簧；13、挤压柱；14、隔板；15、孔洞；16、电机；17、搅拌桨。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本实用新型保护的范围。
请参阅图1-图4所示，一种纳米抗菌纱浸渍设备，包括底座3，所述底座3顶部固接有箱体1，所述箱体1顶部一端固接有固定架二9，所述固定架二9设置有两组，两组所述固定架二9相互对称，所述固定架二9内固接有连接柱10，两组所述固定架二9之间滑动连接有两组挤压柱13，两组所述挤压柱13两端均固接有滑动板11，四组所述滑动板11分别滑动连接于两组连接柱10上，所述滑动板11靠近于固定架二9的一侧固接有弹簧12，所述弹簧12另一端固接于固定架二9靠近于滑动板11的一侧，且弹簧12套设于连接柱10侧壁；工作时，现有纳米抗菌纱浸渍设备浸渍后的纳米抗菌纱表面有大量溶液，过于潮湿，不但浪费浸渍溶液，而且使后续脱水烘干花费时间较长，影响纳米抗菌纱的加工效率，本纳米抗菌纱浸渍设备通过在箱体1内加入适量溶液，将纳米抗菌纱从箱体1顶部一端穿入箱体1内的溶液内，浸渍后的纳米抗菌纱从两组挤压柱13之间穿过，弹簧12处于压缩状态，具有弹性势能会挤压滑动板11，滑动板11受到挤压会远离固定架二9，使滑动板11带动挤压柱13滑动，从而使两组挤压柱13之间相互挤压，使经过两组挤压柱13之间的纳米抗菌纱受到挤压，纳米抗菌纱表面的溶液便会减少，减少浸渍溶液浪费量，减少后续脱水烘干花费时间，提高纳米抗菌纱加工效率。
两组所述挤压柱13相互对称，所述滑动板11与固定架二9内壁之间均固接有弹簧12；工作时，两组挤压柱13的长度大于纳米抗菌纱的宽度，多组弹簧12共同作用，使两组挤压柱13相互挤压。
所述底座3顶部固接有支架2，所述支架2位于箱体1中部，所述支架2底部固接有气缸5，所述气缸5位于箱体1顶部，所述气缸5输出端固接有固定柱8，所述固定柱8平行于挤压柱13，且固定柱8位于箱体1内；工作时，支架2支撑气缸5，气缸5带动固定柱8上下移动，固定柱8始终垂直于纳米抗菌纱穿入箱体1的方向，纳米抗菌纱浸入溶液后，启动气缸5带动固定柱8向下移动，使固定柱8挤压纳米抗菌纱顶部，使纳米抗菌纱浸渍，固定柱8挤压纳米抗菌纱时纳米抗菌纱会放卷不会损伤纳米抗菌纱，控制气缸5使固定柱8高度改变，适应不同溶液浸泡。
所述箱体1底部固接有支柱4，所述支柱4设置有多组，多组所述支柱4分别位于箱体1底部四角位置，多组所述支柱4远离于箱体1的一端均固接于底座3顶部；工作时，多组支柱4共同支撑箱体1，使箱体1抬高。
所述箱体1顶部远离于挤压柱13的一端对称固接有两组固定架一6，两组所述固定架一6之间固接有转动辊7，所述转动辊7平行于挤压柱13；工作时，固定架一6支撑转动辊7，使转动辊7抬升脱离箱体1顶部，纳米抗菌纱经过转动辊7顶部再浸入溶液内，防止纳米抗菌纱碰到箱体1壁造成损伤，纳米抗菌纱经过转动辊7时转动辊7会随着纳米抗菌纱移动而转动。
所述底座3顶部固接有电机16，所述电机16输出端贯穿于箱体1底部，所述电机16输出端固接有搅拌桨17，所述搅拌桨17位于箱体1内；工作时，电机16带动搅拌桨17搅拌箱体1内的溶液，防止箱体1内的溶液沉淀，造成溶液成分不均匀，影响浸渍效果。
所述箱体1内固接有隔板14，所述搅拌桨17位于隔板14底部；工作时，隔板14防止纳米抗菌纱接触到搅拌桨17，防止搅拌桨17损坏纳米抗菌纱。
所述隔板14顶部开设有多组孔洞15，多组所述孔洞15均贯穿于隔板14；工作时，孔洞15使箱体1内的溶液互通，防止隔板14隔断溶液。
工作原理，通过现有纳米抗菌纱浸渍设备浸渍后的纳米抗菌纱表面有大量溶液，过于潮湿，不但浪费浸渍溶液，而且使后续脱水烘干花费时间较长，影响纳米抗菌纱的加工效率，本纳米抗菌纱浸渍设备通过在箱体1内加入适量溶液，纳米抗菌纱经过转动辊7顶部再浸入溶液内，防止纳米抗菌纱碰到箱体1壁造成损伤，纳米抗菌纱浸入溶液后，启动气缸5带动固定柱8向下移动，使固定柱8挤压纳米抗菌纱顶部，使纳米抗菌纱浸渍，浸渍后的纳米抗菌纱从两组挤压柱13之间穿过，弹簧12处于压缩状态，具有弹性势能会挤压滑动板11，滑动板11受到挤压会远离固定架二9，使滑动板11带动挤压柱13滑动，从而使两组挤压柱13之间相互挤压，使经过两组挤压柱13之间的纳米抗菌纱受到挤压，纳米抗菌纱表面的溶液便会减少，减少浸渍溶液浪费量，减少后续脱水烘干花费时间，提高纳米抗菌纱加工效率。
以上显示和描述了本实用新型的基本原理、主要特征和本实用新型的优点。本行业的技术人员应该了解，本实用新型不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理，在不脱离本实用新型精神和范围的前提下，本实用新型还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内。
Claims (8)
1.一种纳米抗菌纱浸渍设备，包括底座(3)，其特征在于：所述底座(3)顶部固接有箱体(1)，所述箱体(1)顶部一端固接有固定架二(9)，所述固定架二(9)设置有两组，两组所述固定架二(9)相互对称，所述固定架二(9)内固接有连接柱(10)，两组所述固定架二(9)之间滑动连接有两组挤压柱(13)，两组所述挤压柱(13)两端均固接有滑动板(11)，四组所述滑动板(11)分别滑动连接于两组连接柱(10)上，所述滑动板(11)靠近于固定架二(9)的一侧固接有弹簧(12)，所述弹簧(12)另一端固接于固定架二(9)靠近于滑动板(11)的一侧，且弹簧(12)套设于连接柱(10)侧壁。
2.根据权利要求1所述的一种纳米抗菌纱浸渍设备，其特征在于：两组所述挤压柱(13)相互对称，所述滑动板(11)与固定架二(9)内壁之间均固接有弹簧(12)。
3.根据权利要求2所述的一种纳米抗菌纱浸渍设备，其特征在于：所述底座(3)顶部固接有支架(2)，所述支架(2)位于箱体(1)中部，所述支架(2)底部固接有气缸(5)，所述气缸(5)位于箱体(1)顶部，所述气缸(5)输出端固接有固定柱(8)，所述固定柱(8)平行于挤压柱(13)，且固定柱(8)位于箱体(1)内。
4.根据权利要求3所述的一种纳米抗菌纱浸渍设备，其特征在于：所述箱体(1)底部固接有支柱(4)，所述支柱(4)设置有多组，多组所述支柱(4)分别位于箱体(1)底部四角位置，多组所述支柱(4)远离于箱体(1)的一端均固接于底座(3)顶部。
5.根据权利要求4所述的一种纳米抗菌纱浸渍设备，其特征在于：所述箱体(1)顶部远离于挤压柱(13)的一端对称固接有两组固定架一(6)，两组所述固定架一(6)之间固接有转动辊(7)，所述转动辊(7)平行于挤压柱(13)。
6.根据权利要求5所述的一种纳米抗菌纱浸渍设备，其特征在于：所述底座(3)顶部固接有电机(16)，所述电机(16)输出端贯穿于箱体(1)底部，所述电机(16)输出端固接有搅拌桨(17)，所述搅拌桨(17)位于箱体(1)内。
7.根据权利要求6所述的一种纳米抗菌纱浸渍设备，其特征在于：所述箱体(1)内固接有隔板(14)，所述搅拌桨(17)位于隔板(14)底部。
8.根据权利要求7所述的一种纳米抗菌纱浸渍设备，其特征在于：所述隔板(14)顶部开设有多组孔洞(15)，多组所述孔洞(15)均贯穿于隔板(14)。
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