CN219539887U - 一种气体处理设备 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及一种气体处理设备,包括自下而上依次布置的第一塔体和第二塔体,所述第一塔体上设置有第一处理机构,所述第一处理机构用于处理气体中的对苯二甲酸,所述第二塔体上设置有第二处理机构,所述第二处理机构用于处理气体中的醋酸,所述第一塔体的顶部和第二塔体的底部通过隔板连接,所述隔板上穿设有连通管,所述第一塔体的内部和第二塔体的内部通过连通管连通,所述连通管的正上方设置有伞帽,所述第一塔体上设置有进气管,所述进气管上设置有气体分布器,所述气体分布器位于第一塔体内;通过气体分布器将含有PTA的VOCs气体均匀分布在第一塔体内,提高HAc喷淋液与含有PTA的VOCs气体接触均匀度,提升VOCs气体净化效果。
Description
技术领域
本实用新型涉及一种气体处理设备,属于气体处理技术领域。
背景技术
我国大气环境形势十分严峻,经济发展与资源环境的矛盾日趋尖锐,群众对环境污染问题反应强烈。空气重污染现象大范围同时出现的频次日益增多,严重影响和制约社会经济的可持续发展,威胁人民群众身体健康。挥发性有机物(VOCs)处理技术一般分为回收技术和销毁技术两大类。回收技术主要包括吸收技术、吸附技术、膜分离技术和冷凝技术。销毁技术主要包括TO(直接燃烧)、RTO(蓄热式燃烧)、CO(催化氧化)、RCO(蓄热式催化氧化)、生物技术和光催化氧化技术等。PTA罐区主要储存的是对苯二甲酸(PTA)和醋酸(HAc),PTA一般采用内浮顶罐储存,HAc采用固定顶罐储存。这些储罐顶部呼吸阀等处外排的VOCs气体中含有PTA、HAc,浓度较高,需要经过VOCs处理然后达标排放。
申请号为CN201721214980.0的实用新型专利公开了一种VOCs气体喷淋吸收塔,包括塔体,塔体的底部设有VOCs气入口,塔体的中部倾斜设有上层导流板,上层导流板将塔体分隔为下段处理区和上段处理区,上段处理区和下段处理区之间通过VOCs气连通管相互连通;下段处理区内设有下段陶瓷填料层和下段喷淋层,下段喷淋层位于下段陶瓷填料层的上方,塔体的底部设有下段吸收液口,上段处理区内设有上段填料层和上段喷淋层,上段喷淋层位于上段填料层的上方,上层导流板的低点出的塔体上设有上段吸收液口,塔体的顶部设有净化气出口。但是,现有技术中,气体输送至塔体内时,气体在塔体内分布不均,影响气体处理效果。
因此,需要有一种气体处理设备,提升气体处理效果。
实用新型内容
本实用新型要解决的技术问题是:为了克服现有技术的不足,提供提升气体处理效果的一种气体处理设备。
本实用新型解决上述问题所采用的技术方案为:一种气体处理设备,包括自下而上依次布置的第一塔体和第二塔体,所述第一塔体上设置有第一处理机构,所述第一处理机构用于处理气体中的对苯二甲酸,所述第二塔体上设置有第二处理机构,所述第二处理机构用于处理气体中的醋酸,所述第一塔体的顶部和第二塔体的底部通过隔板连接,所述隔板上穿设有连通管,所述第一塔体的内部和第二塔体的内部通过连通管连通,所述连通管的正上方设置有伞帽,所述第一塔体上设置有进气管,所述进气管上设置有气体分布器,所述气体分布器位于第一塔体内;
所述气体分布器包括多个同轴布置的环形管,多个环形管的直径逐个减小,多个环形管均处于同一水平面,多个环形管上均设置有多个气孔,多个环形管均与进气管连通。
作为优选,所述第一处理机构包括自下而上依次设置的第一输送管、第一填料层和第一喷淋管,所述第一输送管位于进气管的下方,所述第一填料层和第一喷淋管均位于进气管的上方,所述第一输送管上设置有第一输送泵。
作为优选,所述第二处理机构包括自下而上依次设置有第二输送管、第二填料层和第二喷淋管,所述第二输送管上设置有第二输送泵,所述第二输送管位于隔板的上方。
作为优选,所述第一喷淋管和第二喷淋管上均设置有液体分布器,两个液体分布器分别位于第一塔体和第二塔体内。
作为优选,所述液体分布器包括分布器主体,所述分布器主体的底部均匀设置有多个空心锥喷嘴。
作为优选,所述第一填料层和第二填料层均为陶瓷材质。
作为优选,所述伞帽为锥形,所述伞帽与连通管同轴设置,所述伞帽最大直径的一端朝下设置。
作为优选,所述伞帽底部设置有开口,所述连通管插入开口内,所述伞帽底部设置有圆盘状的凸缘,所述凸缘和隔板之间设置有导管,所述导管和凸缘均与连通管同轴设置,所述导管间隙套设在连通管上,所述导管的底端与隔板之间设置有间隙,所述导管的顶端密封且固定设置在凸缘上,所述凸缘上设置有多个通孔,各通孔与连通管轴线之间的距离的2倍均大于导管的外径。
作为优选,所述隔板的顶部固定设置有挡管,所述挡管与连通管同轴设置,所述挡管的内径大于凸缘的直径,所述挡管位于凸缘的下方。
作为优选,所述凸缘与伞帽为一体成型结构。
与现有技术相比,本实用新型的优点在于:
本实用新型一种气体处理设备,通过气体分布器将含有PTA的VOCs气体均匀分布在第一塔体内,提高HAc喷淋液与含有PTA的VOCs气体接触均匀度,提升VOCs气体净化效果,另外,通过将含有HAc的VOCs气体输送至除盐水中并形成气泡,可以便于除盐水吸收含有HAc的VOCs气体中的HAc,而且,第二塔体内的含有HAc的VOCs气体从通孔穿过时,则可以提升含有HAc的VOCs气体在第二塔体内分布的均匀度,进一步便于除盐水吸收含有HAc的VOCs气体,即进一步提升VOCs气体净化效果。
附图说明
图1为本实用新型一种气体处理设备的结构示意图;
图2为隔板与连通管的连接结构立体图;
图3为图2的爆炸图;
图4为液体分布器的结构示意图;
图5为气体分布器的结构示意图。
其中:第一塔体1,第二塔体2,第一处理机构3,第一输送管31,第一填料层32,第一喷淋管33,第一输送泵34,第二处理机构4,第二输送管41,第二填料层42,第二喷淋管43,第二输送泵44,隔板5,连通管6,伞帽7,进气管8,气体分布器9,环形管91,气孔92,液体分布器10,分布器主体10.1,空心锥喷嘴10.2,凸缘11,导管12,通孔13,挡管14。
具体实施方式
如图1-5所示,本实施例中的一种气体处理设备,包括自下而上依次布置的第一塔体1和第二塔体2,所述第一塔体1的顶部和第二塔体2的底部通过隔板5连接,所述隔板5上穿设有连通管6,所述第一塔体1的内部和第二塔体2的内部通过连通管6连通,所述连通管6的正上方设置有伞帽7,所述伞帽7与隔板5固定连接,所述第一塔体1上自下而上依次设置有第一输送管31、进气管8、第一填料层32和第一喷淋管33,所述第一输送管31上设置有第一输送泵34,所述进气管8上设置气体分布器9,所述气体分布器9位于第一塔体1内,所述第二塔体2上自下而上依次设置有第二输送管41、第二填料层42和第二喷淋管43,所述第二输送管41上设置有第二输送泵44,所述隔板5位于第二输送管41的下方,所述第一喷淋管33和第二喷淋管43上均设置有液体分布器10,两个液体分布器10分别位于第一塔体1和第二塔体2内,所述第一填料层32和第二填料层42均为陶瓷材质;
含有PTA的VOCs气体从进气管8输送至第一塔体1内,且通过气体分布器9使VOCs空气均匀分布在第一塔体1内,之后,VOCs气体穿过第一填料层32,通过填料层去除VOCs气体中的大颗粒杂质,同时,HAc喷淋液从第一喷淋管33输送至第一塔体1内,且通过液体分布器10将HAc喷淋液均匀向下喷出,使HAc喷淋液吸收VOCs气体中的PTA后集中至第一塔体1内底部,另外,第一输送泵34启动,使吸收PTA的HAc喷淋液从第一输送管31排出,而第一塔体1内含有HAc的VOCs气体则从连通管6输送至第二塔体2内;
第二塔体2内含有HAc的VOCs气体穿过第二填料层42,通过填料层去除含有HAc的VOCs气体中的大颗粒杂质,同时,除盐水从第二喷淋管43输送至第二塔体2内,且通过液体分布器10将除盐水均匀向下喷出,使除盐水吸收含有HAc的VOCs气体中的HAc后集中至第二塔体2内底部,另外,第二输送泵44启动,使吸收HAc的除盐水从第二输送管41排出,而第二塔体2内经过处理的VOCs气体则从第二塔体2顶部排出,通过伞帽7防止除盐水从连通管6输送至第一塔体1内,且通过流量控制,使第二塔体2内除盐水的液位低于连通管6的顶端,而且,通过伞帽7挡住气体,可以气体以连通管6为中心周向扩散,提升气体在第二塔体2内分布的均匀度。
所述伞帽7为锥形,所述伞帽7与连通管6同轴设置,所述伞帽7最大直径的一端朝下设置,所述伞帽7底部设置有开口,所述连通管6插入开口内,所述伞帽7底部设置有圆盘状的凸缘11,所述凸缘11与伞帽7为一体成型结构,所述凸缘11和隔板5之间设置有导管12,所述导管12和凸缘11均与连通管6同轴设置,所述导管12间隙套设在连通管6上,所述导管12的底端与隔板5之间设置有间隙,所述导管12的顶端密封且固定设置在凸缘11上,所述凸缘11上设置有多个通孔13,各通孔13与连通管6轴线之间的距离的2倍均大于导管12的外径,所述隔板5的顶部固定设置有挡管14,所述挡管14与连通管6同轴设置,所述挡管14的内径大于凸缘11的直径,所述挡管14位于凸缘11的下方,所述挡管14的顶端位于第二输送管41与第二塔体2的连接端上方,第二塔体2内底部的除盐水流至连通管6与导管12之间的间隙中,且通过液位计算,使导管12的底端始终浸没在除盐水中,第一塔体1内的气体从连通管6输送至开口内后,再穿过连通管6与导管12之间的间隙,且在除盐水中形成气泡,气泡输送至导管12外部后上浮并破裂,接着再穿过通孔13向上流动,通过通孔13可以将第二塔体2内的气体均匀分布,提升气体处理效果,而通过挡管14则可以防止在除盐水中形成的气泡随除盐水排出。
所述气体分布器9包括多个同轴布置的环形管91,多个环形管91的直径逐个减小,多个环形管91均处于同一水平面,多个环形管91上均设置有多个气孔92,多个环形管91均与进气管8连通,气体输从进气管8输送至各环形管91内,各环形管91内的气体再从气孔92向上排出,如此,则可以提高气体分布在第一塔体1内的均匀度,从而提升气体处理效果。
所述液体分布器10包括分布器主体10.1,所述分布器主体10.1的底部均匀设置有多个空心锥喷嘴10.2,液体输送至分布器主体10.1后,再从空心锥喷嘴10.2喷出,提高液体分布均匀度。
除上述实施例外,本实用新型还包括有其他实施方式,凡采用等同变换或者等效替换方式形成的技术方案,均应落入本实用新型权利要求的保护范围之内。
Claims (10)
1.一种气体处理设备,其特征在于:包括自下而上依次布置的第一塔体(1)和第二塔体(2),所述第一塔体(1)上设置有第一处理机构(3),所述第一处理机构(3)用于处理气体中的对苯二甲酸,所述第二塔体(2)上设置有第二处理机构(4),所述第二处理机构(4)用于处理气体中的醋酸,所述第一塔体(1)的顶部和第二塔体(2)的底部通过隔板(5)连接,所述隔板(5)上穿设有连通管(6),所述第一塔体(1)的内部和第二塔体(2)的内部通过连通管(6)连通,所述连通管(6)的正上方设置有伞帽(7),所述第一塔体(1)上设置有进气管(8),所述进气管(8)上设置有气体分布器(9),所述气体分布器(9)位于第一塔体(1)内;
所述气体分布器(9)包括多个同轴布置的环形管(91),多个环形管(91)的直径逐个减小,多个环形管(91)均处于同一水平面,多个环形管(91)上均设置有多个气孔(92),多个环形管(91)均与进气管(8)连通。
2.根据权利要求1所述的一种气体处理设备,其特征在于:所述第一处理机构(3)包括自下而上依次设置的第一输送管(31)、第一填料层(32)和第一喷淋管(33),所述第一输送管(31)位于进气管(8)的下方,所述第一填料层(32)和第一喷淋管(33)均位于进气管(8)的上方,所述第一输送管(31)上设置有第一输送泵(34)。
3.根据权利要求2所述的一种气体处理设备,其特征在于:所述第二处理机构(4)包括自下而上依次设置有第二输送管(41)、第二填料层(42)和第二喷淋管(43),所述第二输送管(41)上设置有第二输送泵(44),所述第二输送管(41)位于隔板(5)的上方。
4.根据权利要求3所述的一种气体处理设备,其特征在于:所述第一喷淋管(33)和第二喷淋管(43)上均设置有液体分布器(10),两个液体分布器(10)分别位于第一塔体(1)和第二塔体(2)内。
5.根据权利要求4所述的一种气体处理设备,其特征在于:所述液体分布器(10)包括分布器主体(10.1),所述分布器主体(10.1)的底部均匀设置有多个空心锥喷嘴(10.2)。
6.根据权利要求3所述的一种气体处理设备,其特征在于:所述第一填料层(32)和第二填料层(42)均为陶瓷材质。
7.根据权利要求1所述的一种气体处理设备,其特征在于:所述伞帽(7)为锥形,所述伞帽(7)与连通管(6)同轴设置,所述伞帽(7)最大直径的一端朝下设置。
8.根据权利要求7所述的一种气体处理设备,其特征在于:所述伞帽(7)底部设置有开口,所述连通管(6)插入开口内,所述伞帽(7)底部设置有圆盘状的凸缘(11),所述凸缘(11)和隔板(5)之间设置有导管(12),所述导管(12)和凸缘(11)均与连通管(6)同轴设置,所述导管(12)间隙套设在连通管(6)上,所述导管(12)的底端与隔板(5)之间设置有间隙,所述导管(12)的顶端密封且固定设置在凸缘(11)上,所述凸缘(11)上设置有多个通孔(13),各通孔(13)与连通管(6)轴线之间的距离的2倍均大于导管(12)的外径。
9.根据权利要求8所述的一种气体处理设备,其特征在于:所述隔板(5)的顶部固定设置有挡管(14),所述挡管(14)与连通管(6)同轴设置,所述挡管(14)的内径大于凸缘(11)的直径,所述挡管(14)位于凸缘(11)的下方。
10.根据权利要求8所述的一种气体处理设备,其特征在于:所述凸缘(11)与伞帽(7)为一体成型结构。
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