CN219401469U - 一种滚筒真空等离子机 - Google Patents

Abstract

本申请涉及一种滚筒真空等离子机，包括缸体、滚筒以及等离子发生部，缸体底端连接缸体延长管，缸体延长管连接抽真空设备；滚筒转动地设于缸体内，滚筒与缸体可拆卸连接；等离子发生部包括电极棒，电极棒贯穿缸体和滚筒伸入至滚筒内部，电极棒内设有气流通道和冷却水通道，气流通道中通入工艺气体，电极棒设有中轴部和伸展部，伸展部设于中轴部上，中轴部设于滚筒的中轴线上，伸展部朝向滚筒的径向延伸并抵近滚筒内部的筒壁，使得冷却水作用于气流通道内的工艺气体和电极棒，以及电极棒外部的气体，从而使得滚筒内的温度较为均匀地降低，滚筒内的被清洁物质的温度被有效控制，避免因热量过高导致滚筒内部的被清洗物质被烧结结块。

Description

一种滚筒真空等离子机

技术领域

本申请涉及一种等离子清洗技术领域，尤其涉及一种滚筒真空等离子机。

背景技术

等离子清洗是一种清洗技术，等离子清洗一般通过在气体中建立等离子体，气体一般为氩气、氧气、空气和氢/氮的混合物，利用等离子体的高能量来清除被清洗物质表面的污染物。通过使用高频电压(通常为kHz到MHz)电离低压气体(通常约为1/1000大气压)被击穿并通过辉光发电而发生离子化和产生等离子体。让在真空室产生的等离子体把被处理物质完全笼罩并开始清洗；清洗完毕后切断高频电压并将气体及气化的污垢排出，同时向真空室内鼓入空气将气压升至大气压。现有用于清洗粉末或者颗粒物质的滚筒真空等离子机通常采用滚筒形式，将粉末或者颗粒物质装入滚筒内，对滚筒真空等离子机排气并抽真空，输入工艺气体，接通高频电压电离工艺气体，同时驱动滚筒旋转，裸露在表面的粉末或颗粒物质被等离子轰击并得到处理，清洗完成后，停止滚筒真空等离子机转动，滚筒真空等离子机内部与大气连通，取出完成处理的粉末或颗粒物质。

滚筒真空等离子机在工作过程中，由于其滚筒在封闭环境内使用高频电压电离气体，会产生大量的热量，热量不及时排出会导致滚筒内部过热，引起机器内部的部件老化或热量过高导致滚筒内部的被清洗物质被烧结结块，而被烧结结块的物质在滚筒内难以将未暴露的物质通过转动暴露在等离子的辉光之下，导致部分物质表面无法与等离子接触，不能够对滚筒内的物质充分清洁，甚至会影响被清洗物质的性能。

部分滚筒真空等离子机为了解决使用高频电压电离气体时产生大量热量的问题，在滚筒内的中轴线上安装一个冷却棒，通过冷却棒使滚筒内的热量得到降低，由于冷却棒为细条形状，仅能在邻近冷却棒的区域降温效果显著，而远离冷却棒的区域难以得到有效降温，导致滚筒内远离冷却棒区域的被清洗物件易发生被烧结结块的情况发生。

因此，有必要提出一种滚筒真空等离子机，以将滚筒内用于清洗物质的空间能够较为均匀地降温。

实用新型内容

本申请的目的是克服现有技术中的不足之处，提出一种滚筒真空等离子机，以达成滚筒真空等离子机中用于清洗物质的空间能够较为均匀降温的目的。

本申请通过以下技术方案实现的：

本申请提出一种滚筒真空等离子机，包括缸体、滚筒以及等离子发生部，所述缸体底端连接缸体延长管，缸体延长管连接抽真空设备；所述滚筒转动地设于所述缸体内，所述滚筒与所述缸体可拆卸连接；所述等离子发生部包括电极棒，所述电极棒贯穿所述缸体和所述滚筒伸入至所述滚筒内部，所述电极棒内设有气流通道和冷却水通道，所述气流通道中通入工艺气体，所述电极棒设有中轴部和伸展部，所述伸展部设于所述中轴部上，所述中轴部设于所述滚筒的中轴线上，所述伸展部朝向所述滚筒的径向延伸并抵近所述滚筒内部的筒壁。

在本申请的一实施例中，所述伸展部为数个伸展条，每一个所述伸展条朝向所述滚筒的径向延伸并抵近所述滚筒内部的筒壁。

在本申请的一实施例中，每一个所述伸展条设有第一伸展段和第二伸展段，所述第一伸展段的一端与所述中轴部相连接，另一端与所述第二伸展段相连接，所述第一伸展段朝向所述滚筒的径向延伸，所述第二伸展段朝向所述滚筒的轴向延伸。

在本申请的一实施例中，所述伸展条为直线段、曲线段或折线段。

在本申请的一实施例中，所述滚筒相对于所述电极棒转动。

在本申请的一实施例中，所述冷却水通道包括管体，所述管体分布于所述中轴部和所述伸展部。

在本申请的一实施例中，所述管体的一端与供水装置连接，另一端与回水装置连接，供水装置提供冷却水进入所述管体内并排至回水装置。

在本申请的一实施例中，所述电极棒在所述滚筒内的端部设有出气口，所述气流通道一端与所述出气口连通，所述气流通道另一端与工艺气体的供气装置连通。

在本申请的一实施例中，所述滚筒真空等离子机还包括驱动部，所述驱动部与所述滚筒传动连接，所述驱动部驱动所述滚筒旋转。

在本申请的一实施例中，所述滚筒的上端安装滚筒盖，所述滚筒盖包括玻璃盖和玻璃盖固定板，所述玻璃盖设于所述玻璃盖固定板上，沿人眼向所述玻璃盖朝向所述滚筒的方向观察所述滚筒内的空间。

与现有技术相比，本申请的有益效果是：

抽真空设备将滚筒抽真空至要求的真空度，等离子发生部向内滚筒注入工艺气体，电极棒通电，电极棒与内滚筒内壁面之间产生等离子体清洗滚筒内部的待清洗物质，同时，滚筒旋转带动滚筒内部的待清洗物质翻滚，在电极棒内设置气流通道和冷却水通道，使得冷却水作用于气流通道内的工艺气体和电极棒，以及电极棒外部的气体，电极棒设有中轴部和伸展部，伸展部朝向滚筒的径向延伸并抵近滚筒内部的筒壁，使得滚筒内的温度较为均匀地降低；在较为良好的均匀散热条件下，机器内部的部件因过热老化的情况减缓，滚筒内的被清洁物质的温度被有效控制，避免因热量过高导致滚筒内部的被清洗物质被烧结结块。

本申请的其它特征和优点将在随后的说明书中阐述，并且，部分地从说明书中变得显而易见，或者通过实施本申请而了解。本申请的目的和其他优点可通过在说明书、权利要求书以及附图中所指出的结构来实现和获得。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作一简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本申请实施例提供的滚筒真空等离子机整体视图一；

图2为本申请实施例提供的滚筒真空等离子机整体视图二；

图3为本申请实施例提供的滚筒真空等离子机去除缸体的整体视图；

图4为本申请实施例提供的滚筒真空等离子机的正视图；

图5为本申请实施例提供的滚筒真空等离子机的侧视图；

图6为图5中A-A剖视图；

图7为本申请实施例提供的滚筒真空等离子机的内滚筒装配方式。

附图标记说明：

101、缸体；102、缸体延长管；103、缸体面板；104、缸体底板；105、缸体大气平衡接口；106、真空泵接口；107、缸体大气平衡气管；201、滚筒；202、玻璃盖；203、玻璃盖固定板；204、拉手；205、定位销挂钩板；206、滚筒通孔；301、电极棒；3011、中轴部；3012、伸展部；302、出气口；303、管体；313、定位插销；401、支撑固定板；402、驱动部固定板；403、磁力壳连接板；404、电机；405、电机支撑板；406、主动轴；407、辅助轴；408、同步轮一；409、同步轮二；410、同步带；411、小齿轮；412、大齿轮；413、回转支撑增高环；414、磁力件；415、磁力隔离件；416、磁力外壳。

具体实施方式

为使本申请实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本申请实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地说明，显然，所描述的实施例是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。

为了使本领域的技术人员更好地理解本申请中的技术方案，下面将结合本申请实施例中的附图对本申请实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本申请的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。

需要说明的是，当元件被称为“固定于”或“设置于”另一个部件上，它可以直接在另一个部件上或者间接设置在另一个部件上；当一个部件被称为是“连接于”另一个部件，它可以是直接连接到另一个部件或间接连接至另一个部件上。

需要理解的是，术语“长度”、“宽度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或部件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。

此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本申请的描述中，“多个”、“若干个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体地限定。

须知，本说明书附图所绘示的结构、比例、大小等，均仅用以配合说明书所揭示的内容，以供熟悉此技术的人士了解与阅读，并非用以限定本申请可实施的限定条件，故不具技术上的实质意义，任何结构的修饰、比例关系的改变或大小的调整，在不影响本申请所能产生的功效及所能达成的目的下，均应仍落在本申请所揭示的技术内容得能涵盖的范围内。

请参考图1至图7，本申请提出一种滚筒真空等离子机，包括：

缸体101，缸体101底端连接缸体延长管102，缸体延长管102连接抽真空设备；

滚筒201，滚筒201转动地设于缸体101内，滚筒201与缸体101可拆卸连接；

等离子发生部，等离子发生部包括电极棒301，电极棒301贯穿缸体101和滚筒201伸入至滚筒201内部，电极棒301内设有气流通道和冷却水通道，气流通道中通入工艺气体，电极棒301设有中轴部3011和伸展部3012，伸展部3012设于中轴部3011上，中轴部3011设于滚筒201的中轴线上，伸展部3012朝向滚筒201的径向延伸并抵近滚筒201内部的筒壁。

在一实施例中，滚筒真空等离子机包括缸体101、滚筒201以及等离子发生部，缸体101底端连接缸体延长管102，缸体延长管102连接抽真空设备；滚筒201转动地设于缸体101内，滚筒201与缸体101可拆卸连接；等离子发生部包括电极棒301，电极棒301贯穿缸体101和滚筒201伸入至滚筒201内部，电极棒301内设有气流通道和冷却水通道，气流通道中通入工艺气体，电极棒301设有中轴部3011和伸展部3012，伸展部3012设于中轴部3011上，中轴部3011设于滚筒201的中轴线上，伸展部3012朝向滚筒201的径向延伸并抵近滚筒201内部的筒壁。具体的，缸体101的底部为封闭端，缸体101的顶部为开口端，缸体101的开口端连接有缸体面板103，缸体面板103能打开或关闭；缸体101的侧面设有缸体大气平衡气管107，缸体大气平衡气管107与缸体101的开口端连通，缸体大气平衡气管107作为工艺气体的排出口；缸体101的底部设有缸体底板104，缸体底板104上设置有缸体延长管102，缸体延长管102一端连通缸体101，另一端连通真空泵接口106，真空泵接口106连接抽真空设备，管道侧壁上设有缸体大气平衡接口105，滚筒201内清洗完成后，缸体大气平衡接口105打开，使得缸体101内部气压与大气平衡。抽真空设备将滚筒201抽真空至要求的真空度，等离子发生部向内滚筒201注入工艺气体，电极棒301通电，电极棒301与内滚筒201内壁面之间产生等离子体清洗滚筒201内部的待清洗物质，同时，滚筒201旋转带动滚筒201内部的待清洗物质翻滚，在电极棒301内设置气流通道和冷却水通道，使得冷却水作用于气流通道内的工艺气体和电极棒301，以及电极棒301外部的气体，而电极棒301设有中轴部3011和伸展部3012，伸展部3012朝向滚筒201的径向延伸并抵近滚筒201内部的筒壁，使得滚筒201内的温度较为均匀地降低；在较为良好的均匀散热条件下，机器内部的部件因过热老化的情况减缓，滚筒201内的被清洁物质的温度被有效控制，避免因热量过高导致滚筒201内部的被清洗物质被烧结结块，减少物质因结块存在无法暴露在等离子的辉光之下，使得滚筒201内持续低温工作和滚筒201内物质被充分清洗。

在一实施例中，伸展部3012为数个伸展条，每一个伸展条朝向滚筒201的径向延伸并抵近滚筒201内部的筒壁。具体的，在滚筒201内设置多个伸展条，使得滚筒201内的空间更易于均匀降温。

在一实施例中，伸展部3012为数段伸展条，每一个伸展条设有第一伸展段和第二伸展段，第一伸展段的一端与中轴部3011相连接，另一端与第二伸展段相连接，第一伸展段朝向滚筒201的径向延伸，第二伸展段朝向滚筒201的轴向延伸。具体的，第一伸展段的一端与中轴部3011相连接，另一端与第二伸展段相连接，第一伸展段朝向滚筒201的径向延伸，第二伸展段朝向滚筒201的轴向延伸，使得滚筒201内的空间更易于均匀降温。

在一实施例中，伸展条为直线段或曲线段或折线段。具体的，不同样式的伸展条，能够使得滚筒201内的空间更易于均匀降温。

在一实施例中，冷却水通道包括管体303，管体303分布于中轴部3011和伸展部3012。具体的，管体303伸入中轴部3011并到达中轴部3011在滚筒201内的端部后，返回并伸入伸展部3012，伸入伸展部3012并到达伸展部3012朝向滚筒201内部筒壁的端部后，再次返回中轴部3011并伸出中轴部3011外，使得管体303的一端与供水装置连接，另一端与回水装置连接，供水装置提供冷却水进入管体303内并排至回水装置，以通过冷却水将电极棒301进行冷却，使得电极棒301通过热传导将滚筒201内的空间进行均匀降温。

在一实施例中，冷却水通道包括管体303，管体303的一端与供水装置连接，另一端与回水装置连接，供水装置提供冷却水进入管体303内并排至回水装置。具体地，管体303的一端与供水装置连接，另一端与回水装置连接，供水装置提供冷却水进入管体303内并排至回水装置，以通过冷却水将电极棒301进行冷却，使得电极棒301通过热传导将滚筒201内的空间进行均匀降温。

在一实施例中，电极棒301在滚筒201内的端部设有出气口302，气流通道一端与出气口302连通，气流通道另一端与工艺气体的供气装置连通。具体地，气流通道一端与出气口302连通，气流通道另一端与工艺气体的供气装置连通，工艺气体的供气装置设置在滚筒201的外部，工艺气体为氧气、氢气、氩气或氮气等，通过冷却水将电极棒301进行冷却和滚筒201内部的工艺气体及清洗物质。

在一实施例中，滚筒201相对于电极棒301转动，滚筒真空等离子机还包括驱动部，驱动部与滚筒201传动连接，驱动部驱动滚筒201旋转。具体地，驱动部与滚筒201传动连接，驱动部驱动滚筒201旋转，缸体101的底部设有缸体底板104，缸体底板104固定连接在支撑固定板401的一侧，驱动部的主体部件连接在支撑固定板401的另一侧，驱动部的主动轴406穿过支撑固定板401和缸体底板104通过传动部件与滚筒201传动连接，缸体底板104上设置有缸体延长管102，缸体延长管102一端连通缸体101，另一端连通真空泵接口106，真空泵接口106连接抽真空设备，管道侧壁上设有缸体大气平衡接口105，滚筒201内清洗完成后，缸体大气平衡接口105打开，使得缸体101内部气压与大气平衡。

支撑固定板401的下端固定连接驱动部固定板402，驱动部固定板402远离支撑固定板401的一端固定连接磁力壳连接板403，磁力壳连接板403的一侧设置有电机404和磁力传动部件，磁力壳连接板403的另一侧设置同步轮和同步带410，磁力传动部件放置在驱动部固定板402上，磁力传动部件两端分别设伸出的轴，一端为主动轴406另一端为辅助轴407，电机404设置在磁力传动部件的上方，电机404通过电机支撑板405与磁力壳连接板403固定连接，电机404的电机404轴穿过电机支撑板405连接同步轮一408，磁力传动部件的辅助轴407穿过磁力壳连接板403连接同步轮二409，同步轮一408和同步轮二409通过同步带410传动连接。

缸体底板104远离支撑固定板401的一侧设有小齿轮411和大齿轮412，大齿轮412通过回转支撑增高环413设置在支撑固定板401上，小齿轮411内圈安装于磁力传动部件的主动轴406上，小齿轮411与大齿轮412传动配合；滚筒201底部与大齿轮412固定连接，大齿轮412远离回转支撑增高环413的一侧设置有旋转台，旋转台固定设置在电极棒301的外周，旋转台与滚筒201底部之间转动配合，使得大齿轮412能够带动滚筒201相对于旋转台转动。

其中，滚筒201与旋转台之间存在间隙，该间隙上设有过滤装置，使得滚筒201内部的工艺气体能够的释放至滚筒201的外缸体101的空间内，同时避免被清洗的小粒径物质从该间隙泄漏；工艺气体进入缸体101后，经工艺气体的排出口缸体大气平衡气管107排出。

其中，缸体101内壁上还设置有定位环，定位环至少设置一个，滚筒201放入缸体101中时，定位环与滚筒201的外周壁接触，以保证滚筒通孔206与旋转台以及驱动部的大齿轮412对准安装。滚筒201底部与大齿轮412固定连接方式优选为，滚筒201底部安装定位销挂钩板205设置有卡接孔，卡接孔的孔径一端大一端小，大齿轮412靠近滚筒201的一侧面上设置有定位插销313，安装滚筒201时，将滚筒201的底部与旋转台对准，以及定位销挂钩板205上的卡接孔孔径大的部分与定位插销313对准，卡接孔孔径小的方向旋转滚筒201至定位销挂钩板205设置有卡接孔与定位插销313卡合，两者之间配合牢固；取出滚筒201时，朝相反方向旋转旋转滚筒201至定位销挂钩板205设置有卡接孔与定位插销313脱离卡合，即可将滚筒201取出。

磁力传动部件包括主动轴406、磁力件414、磁力隔离件415、磁力外壳416、磁力壳连接板403和辅助轴407，主动轴406与磁力件414连接，辅助轴407与磁力外壳416通过磁力壳连接板403连接，磁力外壳416套设在磁力件414的外周，磁力外壳416与磁力件414之间设有磁力隔离件415。辅助轴407由电机404驱动，辅助轴407驱动磁力外壳416旋转，磁力外壳416在磁力作用下驱动磁力件414旋转，进而带动主动轴406旋转，驱动小齿轮411与大齿轮412，带动滚筒201转动。

在一实施例中，滚筒201的上端安装滚筒盖202，滚筒盖202包括玻璃盖202和玻璃盖固定板203，玻璃盖202设于玻璃盖固定板203上，沿人眼向玻璃盖202朝向滚筒201的方向观察滚筒201内的空间。具体地，用户可通过玻璃盖202观察滚筒201的内部空间和运行过程，在玻璃盖固定板203外侧设置拉手204，以便于滚筒盖202的打开或关闭操作。

对所公开的实施例的上述说明，使本领域专业技术人员能够实现或使用本实用新型。对这些实施例的多种修改对本领域的专业技术人员来说将是显而易见的，本文中所定义的一般原理可以在不脱离本实用新型的精神或范围的情况下，在其他实施例中实现。因此，本实用新型将不会被限制于本文所示的这些实施例，而是要符合与本文所公开的原理和新颖特点相一致的最宽的范围。

Claims (10)

1.一种滚筒真空等离子机，其特征在于，包括：

缸体，所述缸体底端连接缸体延长管，缸体延长管连接抽真空设备；

滚筒，所述滚筒转动地设于所述缸体内，所述滚筒与所述缸体可拆卸连接；

等离子发生部，所述等离子发生部包括电极棒，所述电极棒贯穿所述缸体和所述滚筒伸入至所述滚筒内部，所述电极棒内设有气流通道和冷却水通道，所述气流通道中通入工艺气体，所述电极棒设有中轴部和伸展部，所述伸展部设于所述中轴部上，所述中轴部设于所述滚筒的中轴线上，所述伸展部朝向所述滚筒的径向延伸并抵近所述滚筒内部的筒壁。

2.如权利要求1所述的一种滚筒真空等离子机，其特征在于，所述伸展部为数个伸展条，每一个所述伸展条朝向所述滚筒的径向延伸并抵近所述滚筒内部的筒壁。

3.如权利要求2所述的一种滚筒真空等离子机，其特征在于，每一个所述伸展条设有第一伸展段和第二伸展段，所述第一伸展段的一端与所述中轴部相连接，另一端与所述第二伸展段相连接，所述第一伸展段朝向所述滚筒的径向延伸，所述第二伸展段朝向所述滚筒的轴向延伸。

4.如权利要求2所述的一种滚筒真空等离子机，其特征在于，所述伸展条为直线段、曲线段或折线段。

5.如权利要求2所述的一种滚筒真空等离子机，其特征在于，所述滚筒相对于所述电极棒转动。

6.如权利要求1所述的一种滚筒真空等离子机，其特征在于，所述冷却水通道包括管体，所述管体分布于所述中轴部和所述伸展部。

7.如权利要求6所述的一种滚筒真空等离子机，其特征在于，所述管体的一端与供水装置连接，另一端与回水装置连接，供水装置提供冷却水进入所述管体内并排至回水装置。

8.如权利要求1所述的一种滚筒真空等离子机，其特征在于，所述电极棒在所述滚筒内的端部设有出气口，所述气流通道一端与所述出气口连通，所述气流通道另一端与工艺气体的供气装置连通。

9.如权利要求1所述的一种滚筒真空等离子机，其特征在于，所述滚筒真空等离子机还包括：

驱动部，所述驱动部与所述滚筒传动连接，所述驱动部驱动所述滚筒旋转。

10.如权利要求1所述的一种滚筒真空等离子机，其特征在于，所述滚筒的上端安装滚筒盖，所述滚筒盖包括玻璃盖和玻璃盖固定板，所述玻璃盖设于所述玻璃盖固定板上，沿人眼向所述玻璃盖朝向所述滚筒的方向观察所述滚筒内的空间。