CN219385143U - 一种恒温水平涂布菌体装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型提出了一种恒温水平涂布菌体装置,包括机体,机体上开设有上端开口的水槽,水槽内设置有加热装置和温度监测装置,加热装置和温度监测装置均与控制器电连接,水槽内还设置有漂浮在水面用于承载玻片并可将热水的热量向玻片传递的漂浮式导热承载体,机体的底部还设置通向水槽的排水管,排水管上设置有用于控制排水的排水控制装置。本实用新型能利用水的均衡平面和恒定温度,能较好地让菌体分布在观察的载玻片上,并在最适温度下细菌自由扩散,使得菌体不会因为温度过高或过低而变形,方便后续的观察形态,若是进行后续染色操作,该实用新型使染色更均匀,从而方便观察和计数等。
Description
技术领域
本实用新型涉及涂布装置,特别涉及一种恒温水平涂布菌体装置。
背景技术
在生物发酵用菌种在发酵培养过程中,有时需要对菌种进行直接观察或者进行革兰氏染色等鉴定后观察。当前主要操作是将载玻片捏在手上或放到操作台上,直接将菌液滴到载玻片上后加盖玻片,放到显微镜下观察。有时由于手上拿捏的手法并非能保持水平,或者操作台面不平,菌体并非均匀分布,在显微镜下时要么视野中看不到菌体,要么菌体聚集在一起,使得观察困难;为了找到好的视角,通常需要调整很久的横向或纵向水平杆,才能找到适合观察的细菌。
实用新型内容
有鉴于此,本实用新型旨在提出一种恒温水平涂布菌体装置,以解决现有的菌种在常规手段下涂布不均匀、在显微镜下不容易观察单个菌体的问题。
本实用新型的技术方案是这样实现的:
一种恒温水平涂布菌体装置,包括机体,机体上开设有上端开口的水槽,水槽内设置有加热装置和温度监测装置,加热装置和温度监测装置均与控制器电连接,水槽内还设置有漂浮在水面用于承载玻片并可将热水的热量向玻片传递的漂浮式导热承载体,机体的底部还设置通向水槽的排水管,排水管上设置有用于控制排水的排水控制装置。
进一步地,所述漂浮式导热承载体为导热载物盘。
进一步地,所述导热载物盘的周侧设置有一圈弧形挡水板。
进一步地,所述加热装置为电加热器,所述温度监测装置为温度传感器,所述控制器为MCU控制器。
进一步地,所述排水控制装置为排水阀或密封堵塞。
进一步地,所述机体上设置有水平尺,所述机体的底部均匀的连接有四个高低调节装置。
进一步地,所述高低调节装置包括支撑脚垫,支撑脚垫的中间固定连接有向上伸出的螺杆,所述机体的底部开设有与螺杆配合的螺孔。
进一步地,还包括第二验证测温计。
进一步地,所述第二验证测温计为水银温度计或煤油温度计。
本实用新型的有益效果:本实用新型能利用水的均衡平面和恒定温度,能较好地让菌体分布在观察的载玻片上,并在最适温度下细菌自由扩散,使得菌体不会因为温度过高或过低而变形,方便后续的观察形态,若是进行后续染色操作,该实用新型使染色更均匀,从而方便观察和计数等。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本实用新型的结构示意图;
图2为本实用新型的内部结构示意图;
图3为本实用新型中高低调节装置的结构示意图。
图中:1-机体,11-水槽,12-加热装置,13-温度监测装置,14-控制器,15-排水管,16-排水控制装置,2-漂浮式导热承载体,3-水平尺,4-高低调节装置,41-支撑脚垫,42-螺杆,5-第二验证测温计。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
参照图1-3,一种恒温水平涂布菌体装置,包括机体1,机体1上开设有上端开口的水槽11,水槽11内设置有加热装置12和温度监测装置13,加热装置12和温度监测装置13均与控制器14电连接,水槽11内还设置有漂浮在水面用于承载玻片并可将热水的热量向玻片传递的漂浮式导热承载体2,机体1的底部还设置通向水槽的排水管15,排水管15上设置有用于控制排水的排水控制装置16。
其中,所述漂浮式导热承载体2为导热载物盘,所述导热载物盘的周侧设置有一圈弧形挡水板。所述加热装置12为电加热器,所述温度监测装置13为温度传感器,所述控制器14为MCU控制器。所述排水控制装置16为排水阀或密封堵塞。
在一些实施例中,所述机体1上设置有水平尺3,所述机体的底部均匀的连接有四个高低调节装置4。具体的,所述高低调节装置4包括支撑脚垫41,支撑脚垫41的中间固定连接有向上伸出的螺杆42,所述机体1的底部开设有与螺杆配合的螺孔。
在一些实施例中,还包括第二验证测温计5。具体的,所述第二验证测温计5为水银温度计或煤油温度计。
本实用新型使用时,往水槽11中加水,通过MCU控制器设定最适合细菌的温度,通过加热装置12将水槽11内的水加热到设定温度,将培养好的菌液滴到载玻片上,让液滴平展到载玻片上,将载玻片放在漂浮式导热承载体2的上表面上,再将漂浮式导热承载体2放在水槽11内的水面上,水槽11内的热水热量通过漂浮式导热承载体2向载玻片传递,若干分钟后,盖上盖玻片固定,将漂浮式导热承载体2连同载玻片一起取出,再拿出载玻片放置在显微镜下进行细菌观察;水由于重力作用,不论承载它的容器如何放置,其表面存在天然平面,所以可以使菌液均匀的涂布在载玻片上,且水的比热容较大,在一段时间温度能保持相对稳定,在最适合的温度下可以加剧细菌在载玻片上的自由扩散,加快涂布过程,方便后续的观察形态,若是进行后续染色操作,该实用新型使染色更均匀,从而方便观察和计数等。
以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已,并不用以限制本实用新型,凡在本实用新型的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。
Claims (9)
1.一种恒温水平涂布菌体装置,其特征在于:包括机体,机体上开设有上端开口的水槽,水槽内设置有加热装置和温度监测装置,加热装置和温度监测装置均与控制器电连接,水槽内还设置有漂浮在水面用于承载玻片并可将热水的热量向玻片传递的漂浮式导热承载体,机体的底部还设置通向水槽的排水管,排水管上设置有用于控制排水的排水控制装置。
2.如权利要求1所述的一种恒温水平涂布菌体装置,其特征在于:所述漂浮式导热承载体为导热载物盘。
3.如权利要求2所述的一种恒温水平涂布菌体装置,其特征在于:所述导热载物盘的周侧设置有一圈弧形挡水板。
4.如权利要求1所述的一种恒温水平涂布菌体装置,其特征在于:所述加热装置为电加热器,所述温度监测装置为温度传感器,所述控制器为MCU控制器。
5.如权利要求1所述的一种恒温水平涂布菌体装置,其特征在于:所述排水控制装置为排水阀或密封堵塞。
6.如权利要求1-5中任一项所述的一种恒温水平涂布菌体装置,其特征在于:所述机体上设置有水平尺,所述机体的底部均匀的连接有四个高低调节装置。
7.如权利要求6所述的一种恒温水平涂布菌体装置,其特征在于:所述高低调节装置包括支撑脚垫,支撑脚垫的中间固定连接有向上伸出的螺杆,所述机体的底部开设有与螺杆配合的螺孔。
8.如权利要求1-5中任一项所述的一种恒温水平涂布菌体装置,其特征在于:还包括第二验证测温计。
9.如权利要求8所述的一种恒温水平涂布菌体装置,其特征在于:所述第二验证测温计为水银温度计或煤油温度计。
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