CN219342360U - 铁离子溶铜的电镀装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型实施例公开了一种铁离子溶铜的电镀装置，应用于垂直连续电镀线，其包括：电镀槽；铜缸，所述铜缸设置在所述电镀槽中；引流组件，所述引流组件固定在所述电镀槽的内壁；其中，所述铜缸上设置有溢流口，所述引流组件设置在所述溢流口的下方，且所述铜缸内的药水依次经过所述溢流口、所述引流组件流入至所述电镀槽的槽液中。本实用新型通过在铜缸的溢流口的下方设置引流组件，使得铜缸内的药水在溢流口处可以经引流组件流入至电镀槽的槽液中，避免在流动过程中产生气泡，导致空气中的氧气与槽液中的二价铁发生反应，稳定了槽液中二价铁离子的浓度。

Description

铁离子溶铜的电镀装置

技术领域

本实用新型涉及电镀技术领域，尤其涉及一种铁离子溶铜的电镀装置。

背景技术

目前，垂直连续电镀线，简称VCP电镀线，可以分为一体式电镀线和移载式电镀线。一体式电镀线主要应用于厚板，其电镀过程中只会左右移动，不会有上下方向移动；移载式电镀线主要应用于薄板，其在电镀过程中在经过不同药水缸时会有上下移动，而在铜缸中为左右移动方式。

然而，当不溶性阳极+铁离子溶铜电镀体系在使用一体式电镀线时，PCB产品在进铜缸时或出铜缸时均采用溢流口设置，而溢流口药水交换方式为液位最高端流至最底部，由于落差的原因，药水溢流交换后产生气泡，空气中的氧气被带入至电镀槽液中，导致空气中的氧气与槽液中的二价铁发生反应，槽液中的三价铁离子的浓度升高，导致产品的良品率降低。

实用新型内容

针对现有技术的不足，本实用新型提供了铁离子溶铜的电镀装置，旨在解决现有技术中槽液中的三价铁离子的浓度升高的技术问题。

为解决上述问题，本实用新型实施例提供了一种铁离子溶铜的电镀装置，应用于垂直连续电镀线，其包括：

电镀槽；

铜缸，所述铜缸设置在所述电镀槽中；

引流组件，所述引流组件固定在所述电镀槽的内壁；

其中，所述铜缸上设置有溢流口，所述引流组件设置在所述溢流口的下方，且所述铜缸内的药水依次经过所述溢流口、所述引流组件流入至所述电镀槽的槽液中。

优选的，在所述的铁离子溶铜的电镀装置中，所述引流组件包括多层缓冲件，每层所述缓冲件均与所述电镀槽的内壁固定连接。

更优选的，在所述的铁离子溶铜的电镀装置中，最底层所述缓冲件与所述电镀槽的槽液之间的落差不高于0.7m。

更优选的，在所述的铁离子溶铜的电镀装置中，所述引流组件还包括连接杆，所述连接杆均与每层所述缓冲件固定连接。

更优选的，在所述的铁离子溶铜的电镀装置中，相邻两个所述缓冲件之间的落差不高于不高于0.7m。

更优选的，在所述的铁离子溶铜的电镀装置中，每层所述缓冲件呈网状结构。

更优选的，在所述的铁离子溶铜的电镀装置中，每层所述缓冲件均位于所述铜缸的四周。

更优选的，在所述的铁离子溶铜的电镀装置中，所述缓冲件为金属材质的缓冲件。

优选的，在所述的铁离子溶铜的电镀装置中，所述溢流口位于所述铜缸的顶部。

优选的，在所述的铁离子溶铜的电镀装置中，所述溢流口处配置有过滤组件。

与现有技术相比，本实用新型实施例提供的铁离子溶铜的电镀装置，应用于垂直连续电镀线，其中，电镀装置包括：电镀槽；铜缸，所述铜缸设置在所述电镀槽中；引流组件，所述引流组件固定在所述电镀槽的内壁；其中，所述铜缸上设置有溢流口，所述铜缸内的药水依次经过所述溢流口、所述引流组件流入至所述电镀槽的槽液中。上述电镀装置，通过在铜缸的溢流口的下方设置引流组件，使得铜缸内的药水在溢流口处可以经引流组件流入至电镀槽的槽液中，避免在流动过程中产生气泡，降低了空气中的氧气与槽液中的二价铁之间的反应，稳定了槽液中二价铁离子的浓度。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例技术方案，下面将对实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本实用新型实施例提供的铁离子溶铜的电镀装置的局部结构示意图；

图2为本实用新型实施例提供的铁离子溶铜的电镀装置的另一局部结构示意图。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

在实用新型的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“横向”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。

在实用新型中，“一些实施例”一词用来表示“用作例子、例证或说明”。本申请中被描述为示例性的任何实施例不一定被解释为比其它实施例更优选或更具优势。为使本领域任何技术人员能够实现和使用本实用新型，给出了以下描述。在以下描述，为了解释的目的而列出了细节。

应当明白的是，本领域普通技术人员可以认到，在不使用这些特定细节的情况下也可以实现本实用新型。在其它实例中，不会对已知的结构和过程进行详细阐述，以避免不必要的细节使本实用新型的描述变得晦涩。因此，本实用新型并非旨在限于所示的实施例，而是与符合本申请所公开的原理的最广范围相一致。

请参阅图1和图2，图1为本实用新型实施例提供的铁离子溶铜的电镀装置的结构示意图，图2为本实用新型实施例提供的铁离子溶铜的电镀装置的另一局部结构示意图。

如图1和图2所示，一种铁离子溶铜的电镀装置，应用于垂直连续电镀线，其包括：

电镀槽10；

铜缸20，所述铜缸20设置在所述电镀槽10中；

引流组件，所述引流组件固定在所述电镀槽10的内壁101；

其中，所述铜缸20上设置有溢流口，所述引流组件设置在所述溢流口的下方，且所述铜缸20内的药水依次经过所述溢流口、所述引流组件流入至所述电镀槽10的槽液中。

具体的，本实用新型实施例提供的铁离子溶铜的电镀装置，通过在溢流口添加一套引流组件，减少因液位落差大导致的气泡偏多问题，改善槽液中因气泡偏多导致的氧气带入导致二价铁被氧化成三价铁的问题，稳定了槽液中二价铁离子的浓度。

在一些实施例中，所述引流组件包括多层缓冲件301，每层所述缓冲件301均与所述电镀槽10的内壁101固定连接。其中，相邻两层所述缓冲件301之间的落差需不高于0.7m，同时引流组件中最底层缓冲件301与电镀槽10的槽液之间的落差也需不高于0.7m，以防止相邻两层所述缓冲件301之间的落差过大，导致铜缸20中的药水在流入至槽液中产生气泡，另外铜缸20中的药水在经缓冲件301流入至槽液中时，可以依次经过每层缓冲件301，进而可以极大的减少药水进入槽液时的落差。

可以理解，引流组件中的缓冲件301的层数由溢流口与槽液之间的落差决定，同时也可以根据实际应用情况进行选择，本实施例中不做具体限定。

在一些具体的实施例中，所述引流组件还包括连接杆，所述连接杆均与每层所述缓冲件301固定连接，每层所述缓冲件301呈网状结构。

具体的，本实施例中提及的连接杆主要用于将每层缓冲件301进行连接，其不仅可以作为导流杆，也可以让缓冲件301稳固在铜缸20的四周，同时每层缓冲件301设置成网状结构，并将缓冲件301布置在铜缸20的四周，可以进一步减少铜缸20中的药水在经溢流口流入槽液中时的气泡，从而可以更加精准的稳定槽液中二价铁离子的浓度。

其中，连接杆可以固定在电镀槽10的底部，也可以在电镀槽10中悬空，当连接杆在电镀槽10内悬空时，所述连接杆底部与所述电镀槽10的槽液之间的落差也需不高于0.7m。

在一些实施例中，所述缓冲件301为金属材质的缓冲件301，所述溢流口位于所述铜缸20的顶部。具体的，缓冲件301需采用具备耐腐蚀材质的金属，以保证流入至电镀槽10中的药水中不存在影响槽液的杂质，同时还可以延长缓冲件301的使用寿命，降低缓冲件301的次数，提高生产效率。

可以理解，本申请实施例提及的缓冲件301不仅仅局限于金属材质的缓冲件301，还可以为非金属材质的缓冲件301，只需缓冲件301能够耐腐蚀即可，缓冲件301可根据实际应用进行选择，本申请不做具体限定。

在一些实施例中，所述溢流口处配置有过滤组件。具体的，通过在溢流口处配置过滤组件，使得铜缸20中的药水在流入电镀槽10的槽液中之前，可以进行一次杂质的过滤，从而避免了药水流入槽液中之后，对槽液造成了污染。

本实用新型实施例提供的铁离子溶铜的电镀装置，应用于垂直连续电镀线，其中，电镀装置包括：电镀槽10；铜缸20，所述铜缸20设置在所述电镀槽10中；引流组件，所述引流组件固定在所述电镀槽10的内壁101；其中，所述铜缸20上设置有溢流口，所述铜缸20内的药水依次经过所述溢流口、所述引流组件流入至所述电镀槽10的槽液中。上述电镀装置，通过在铜缸20的溢流口的下方设置引流组件，使得铜缸20内的药水在溢流口处可以经引流组件流入至电镀槽10的槽液中，避免在流动过程中产生气泡，降低了空气中的氧气与槽液中的二价铁之间的反应，稳定了槽液中二价铁离子的浓度。

上文已对基本概念做了描述，显然，对于本领域技术人员来说，上述详细披露仅仅作为示例，而并不构成对本实用新型的限定。虽然此处并没有明确说明，本领域技术人员可能会对本实用新型进行各种修改、改进和修正。该类修改、改进和修正在本实用新型中被建议，所以该类修改、改进、修正仍属于本实用新型示范实施例的精神和范围。

同时，本实用新型使用了特定词语来描述本实用新型的实施例。如“一个实施例”、“一实施例”、和/或“一些实施例”意指与本实用新型至少一个实施例相关的某一特征、结构或特点。因此，应强调并注意的是，本说明书中在不同位置两次或多次提及的“一实施例”或“一个实施例”或“一个替代性实施例”并不一定是指同一实施例。此外，本实用新型的一个或多个实施例中的某些特征、结构或特点可以进行适当的组合。

Claims (10)

1.一种铁离子溶铜的电镀装置，应用于垂直连续电镀线，其特征在于，包括：

电镀槽；

铜缸，所述铜缸设置在所述电镀槽中；

引流组件，所述引流组件固定在所述电镀槽的内壁；

其中，所述铜缸上设置有溢流口，所述引流组件设置在所述溢流口的下方，且所述铜缸内的药水依次经过所述溢流口、所述引流组件流入至所述电镀槽的槽液中。

2.根据权利要求1所述的铁离子溶铜的电镀装置，其特征在于，所述引流组件包括多层缓冲件，每层所述缓冲件均与所述电镀槽的内壁固定连接。

3.根据权利要求2所述的铁离子溶铜的电镀装置，其特征在于，最底层所述缓冲件与所述电镀槽的槽液之间的落差不高于0.7m。

4.根据权利要求2所述的铁离子溶铜的电镀装置，其特征在于，所述引流组件还包括连接杆，所述连接杆均与每层所述缓冲件固定连接。

5.根据权利要求2所述的铁离子溶铜的电镀装置，其特征在于，相邻两个所述缓冲件之间的落差不高于不高于0.7m。

6.根据权利要求2所述的铁离子溶铜的电镀装置，其特征在于，每层所述缓冲件呈网状结构。

7.根据权利要求2所述的铁离子溶铜的电镀装置，其特征在于，每层所述缓冲件均位于所述铜缸的四周。

8.根据权利要求2所述的铁离子溶铜的电镀装置，其特征在于，所述缓冲件为金属材质的缓冲件。

9.根据权利要求1所述的铁离子溶铜的电镀装置，其特征在于，所述溢流口位于所述铜缸的顶部。

10.根据权利要求1所述的铁离子溶铜的电镀装置，其特征在于，所述溢流口处配置有过滤组件。

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