CN219331536U - 梳齿件、清洁基站、清洁头及清洁系统 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开一种梳齿件、清洁基站、清洁头及清洁系统。梳齿件包括本体和多个梳齿；多个所述梳齿间隔设置于所述本体上，在垂直于多个所述梳齿的排布方向上，所述梳齿的一端连接于所述本体上，另一端设置有清洁结构，所述清洁结构用于抵接清洁件的表面，以清洁清洁件上的脏污物。本实用新型的技术方案能够解决现有技术中清洁设备的清洁件通过人工清理导致效率低的问题。

Description

梳齿件、清洁基站、清洁头及清洁系统

技术领域

本实用新型涉及到清洁设备技术领域，特别涉及一种梳齿件、清洁基站、清洁头及清洁系统。

背景技术

相关技术中，扫地机、扫地机器人等清洁设备具有清洁件(如滚筒)，可利用清洁件对地面进行清洁，例如擦拭、吸附污水和污物的混合物。在清洁设备执行完清洁任务后，可将清洁设备移动至配套的清洁基站中以完成自清洁。

但是，在清洁过程中因为清洁件工作，一些毛发等脏污物容易缠绕在清洁件上，仍需要人工的手动清理导致清理效果效率低。

实用新型内容

本实用新型的主要目的是提供一种梳齿件、清洁基站、清洁头及清洁系统，旨在解决现有技术中清洁设备的清洁件通过人工清理导致效率低的问题。

为实现上述目的，本实用新型提出的一种梳齿件，所述梳齿件包括：

本体；

多个梳齿，多个所述梳齿间隔设置于所述本体上，在垂直于多个所述梳齿的排布方向上，所述梳齿的一端连接于所述本体上，另一端设置有清洁结构，所述清洁结构用于抵接清洁件的表面，以清洁清洁件上的脏污物。

在本实用新型的一实施例中，在多个所述梳齿间隔排布方向上，所述梳齿倾斜设置和/或竖直设置。

在本实用新型的一实施例中，所述本体包括：

转轴部，所述转轴部用于与基站本体连接且在第一状态和第二状态之间切换，多个所述梳齿在所述转轴部的轴向上依次间隔开；

其中，在所述转轴部处于所述第一状态时，所述清洁结构与所述清洁件接触，在所述清洁件运动时，所述清洁结构清除所述清洁件上的脏污物；

在所述转轴部处于所述第二状态时，所述清洁结构脱离所述清洁件。

在本实用新型的一实施例中，所述本体还包括：

盖合部，所述盖合部设置于所述转轴部的径向侧壁，且所述盖合部与所述梳齿在所述转轴部的径向上间隔开；

其中，在所述转轴部处于所述第一状态时，所述盖合部打开所述基站本体的敞口，且所述清洁结构与所述清洁件接触；

在所述转轴部处于所述第二状态时，所述盖合部盖合所述敞口。

在本实用新型的一实施例中，所述梳齿件还包括加热件，所述加热件与所述梳齿连接。

在本实用新型的一实施例中，所述梳齿件还包括：

自清洁件，所述自清洁件设置于所述本体，用于清洁所述梳齿。

在本实用新型的一实施例中，所述梳齿位于所述清洁件与所述自清洁件之间；

所述梳齿朝向所述自清洁件方向转动，并与所述自清洁件配合以清洁所述梳齿。

在本实用新型的一实施例中，所述自清洁件包括至少一个清洁槽，且所述清洁槽与所述梳齿一一对应，所述梳齿与所述清洁槽适配；

其中，所述梳齿件朝向所述自清洁件方向转动，所述梳齿从对应的所述清洁槽穿过，以清除所述梳齿上的脏污物。

在本实用新型的一实施例中，所述梳齿朝向所述清洁件方向弯曲，并呈弧形状。

在本实用新型的一实施例中，所述本体设有清洁凸点，用于在所述清洁件转动时，与所述清洁件接触以清洁所述清洁件。

在本实用新型的一实施例中，所述清洁件具有轴线，若干所述梳齿包括直齿和斜齿，在轴向上，所述直齿设置于所述清洁件的中部位置，并沿所述清洁件的运动方向延伸设置，所述斜齿沿所述清洁件的运动方向逐渐向所述直齿倾斜设置。

在本实用新型的一实施例中，所述直齿的两侧均设有若干所述斜齿，且位于所述直齿两侧的斜齿关于所述直齿对称设置。

在本实用新型的一实施例中，位于所述直齿同一侧的若干所述斜齿中，相邻的两所述斜齿在所述清洁件的运动方向上至少部分重叠。

在本实用新型的一实施例中，所述梳齿具有沿所述清洁件的运动方向依次设置的后侧和前侧；

至少一所述梳齿的后侧具有背向所述前侧设置的倒勾，用于勾住所述清洁件上的脏污物，所述倒勾为所述清洁结构；和/或，所述前侧具有避让斜坡。

本实用新型还提出一种清洁基站，包括：

基站本体，所述基站本体具有容纳清洁设备的容置部，所述清洁设备的清洁件能够在所述容置部内运动；以及

如上所述的梳齿件，所述本体连接于所述基站本体，所述清洁结构位于所述清洁件的运动路径上，在所述清洁件运动时，所述清洁结构被配置为清洁所述清洁件上的脏污物。

在本实用新型的一实施例中，所述容置部的一侧壁开设有至少一个喷液口，至少一个所述喷液口朝向所述梳齿件和所述容置部的内底壁中的至少一者喷液，另一侧壁开设有至少一个排液口。

在本实用新型的一实施例中，在从所述喷液口至所述排液口的方向上，所述容置部的内底壁逐渐向下倾斜。

本实用新型还提出一种清洁头，应用于清洁设备，所述清洁头包括：

壳体；

清洁件，所述清洁件可活动地设于所述壳体上，所述清洁件被配置为清洁待清洁表面；以及

如上所述的梳齿件，所述主体连接于所述壳体，所述清洁结构位于所述清洁件的运行路径上，在所述清洁件运动时，所述清洁结构被配置为清洁所述清洁件上的脏污物。

本实用新型还提出一种清洁系统，包括如上所述的清洁基站以及清洁设备。

本实用新型还提出一种清洁系统，包括清洁基站以及清洁设备，所述清洁设备包括如上所述的清洁头。

本实用新型还提出一种清洁系统，包括如上所述的清洁基站以及清洁设备，所述清洁设备包括如上所述的清洁头。

在本实用新型的一实施例中，所述清洁头的梳齿的延伸方向与所述清洁基站的梳齿的延伸方向相反；所述清洁件在执行清洁工作时沿第一方向转动，所述清洁头的梳齿沿所述第一方向延伸；

所述清洁基站的梳齿沿所述第一方向的相反方向延伸。

本实用新型提出的梳齿件中，清洁设备的清洁件执行完清洁任务后，当清洁件上缠绕有脏污物时，由于梳齿件上的清洁结构抵接清洁件的表面，清洁结构便可以自动清洁缠绕在清洁件上的脏污物，例如，通过梳齿将清洁件上的脏污物勾走，从而在每次清洁过后，无需用户手动清理清洁件上的脏污物，从而本实用新型通过梳齿件代替人工完成对清洁件上的脏污物的清理工作，提高了对清洁件的清洁效率和清洁效果。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图示出的结构获得其他的附图。

图1为本实用新型清洁系统一实施例的结构示意图；

图2为本实用新型清洁系统一实施例的部分结构剖视图；

图3为本实用新型清洁基站一实施例在转轴部处于第一状态时的结构示意图；

图4为本实用新型清洁基站一实施例在转轴部处于第二状态时的结构示意图；

图5为本实用新型清洁系统另一实施例的结构示意图；

图6为本实用新型清洁系统另一实施例的剖视图；

图7为本实用新型清洁头一实施例在清洁状态时的剖视图；

图8为本实用新型清洁头一实施例在运动过程中(封闭状态)的剖视图；

图9为本实用新型清洁头一实施例在倾倒状态时的剖视图；

图10为本实用新型清洁头一实施例的剖视图；

图11为本实用新型清洁头一实施例的部分分解图；

图12为本实用新型清洁设备一实施例的剖视图。

附图标号说明：

标号	名称	标号	名称
				10000	清洁系统	2113	排液口
1000	清洁设备	2200	梳齿件
				100	清洁头	2210	转轴部
10	壳体	2220	梳齿
				11	安装槽	2221	直齿
20	清洁件	2221a	倒勾
				200	机架	2221b	避让斜坡
2000	清洁基站	2221c	清洁凸点
				2100	基站本体	2222	斜齿
2110	容置部	2230	盖合部
				2111	敞口	2300	自清洁件
2112	喷液口	2310	清洁槽

本实用新型目的的实现、功能特点及优点将结合实施例，参照附图做进一步说明。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

需要说明，本实用新型实施例中所有方向性指示(诸如上、下、左、右、前、后……)仅用于解释在某一特定姿态(如附图所示)下各部件之间的相对位置关系、运动情况等，如果该特定姿态发生改变时，则该方向性指示也相应地随之改变。

在本实用新型中，除非另有明确的规定和限定，术语“连接”、“固定”等应做广义理解，例如，“固定”可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系，除非另有明确的限定。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

另外，若本实用新型实施例中有涉及“第一”、“第二”等的描述，则该“第一”、“第二”等的描述仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示其相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。另外，全文中出现的“和/或”的含义，包括三个并列的方案，以“A和/或B”为例，包括A方案、或B方案、或A和B同时满足的方案。另外，各个实施例之间的技术方案可以相互结合，但是必须是以本领域普通技术人员能够实现为基础，当技术方案的结合出现相互矛盾或无法实现时应当认为这种技术方案的结合不存在，也不在本实用新型要求的保护范围之内。

本实用新型提出一种梳齿件2200、清洁基站2000、清洁头100及清洁系统10000，旨在解决现有技术中清洁设备1000的清洁件20通过人工清理导致效率低的问题。

结合参阅图1至图10，在本实用新型实施例提供的梳齿件2200可以应用于清洁基站2000中，也可以应用于清洁设备1000的清洁头100中，清洁设备1000包括但不限于扫地机器人、洗地机、扫拖一体机等等。其中，梳齿件2200包括本体和多个梳齿2220，多个梳齿2220间隔设置于本体上，在垂直于多个梳齿2220的排布方向上，梳齿2220的一端连接于本体上，另一端设置有清洁结构，清洁结构用于抵接清洁件20的表面，以清洁清洁件20上的脏污物。

可以理解的是，本实用新型提出的梳齿件2200中，清洁设备1000的清洁件20执行完清洁任务后，当清洁件20上缠绕有脏污物时，由于梳齿件2200上的清洁结构抵接清洁件20的表面，清洁结构便可以自动清洁缠绕在清洁件20上的脏污物，例如，通过梳齿2220将清洁件20上的脏污物勾走，从而在每次清洁过后，无需用户手动清理清洁件20上的脏污物，从而本实用新型通过梳齿件2200代替人工完成对清洁件20上的脏污物的清理工作，提高了对清洁件20的清洁效率和清洁效果。

需要说明的是，在清洁结构自动清洁缠绕在清洁件20上的脏污物时，清洁结构与清洁件20相对运动；例如，清洁件20处于运动状态，清洁结构处于静止状态；或者，清洁件20处于静止状态，清洁结构处于运动状态。

在实际应用过程中，当梳齿件2200应用于清洁基站2000时，梳齿件2200可通过本体连接于清洁基站2000的基站本体2100；当梳齿件2200应用于清洁设备1000时，梳齿件2200可通过本体连接于清洁设备1000中清洁头100的壳体10。

结合参阅图10，在一些实施例中，在多个梳齿2220间隔排布方向上，梳齿2220倾斜设置和/或竖直设置。如此设置，清洁件20在运动过程中，便可以通过倾斜设置和/或竖直设置的梳齿2220勾住清洁件20表面的脏污物，以充分清除清洁表面的脏污物。

需要说明的是，梳齿2220倾斜设置指的是相对于本体的径向方向倾斜设置，梳齿2220竖直设置指的是与本体的径向方向一致的设置。

结合参阅图1至图4，在一些实施例中，本体包括转轴部2210，转轴部2210用于与基站本体2100连接且在第一状态和第二状态之间切换，多个梳齿2220在转轴部2210的轴向上依次间隔开；在转轴部2210处于第一状态时，清洁结构与清洁件20接触，在清洁件20运动时，清洁结构清除清洁件20上的脏污物；在转轴部2210处于第二状态时，清洁结构脱离清洁件20。

如此设置，当清洁件20执行完清洁任务后，清洁设备1000将移动至配套的清洁基站2000中，在此之前，转轴部2210转动至第一状态，以使清洁件20可以顺利移动至与清洁结构接触，之后，清洁件20运动，在此过程中，清洁结构将清除清洁件20上的脏污物；对清洁件20清洁完成后，清洁设备1000离开清洁基站2000，以继续执行清洁任务，之后，转轴部2210转动至第二状态。

进一步地，结合参阅图1至图4，在一些实施例中，本体还包括盖合部2230，盖合部2230设置于转轴部2210的径向侧壁，且盖合部2230与梳齿2220在转轴部2210的径向上间隔开；其中，在转轴部2210处于第一状态时，盖合部2230打开基站本体2100的敞口2111，且清洁结构与清洁件20接触；在转轴部2210处于第二状态时，盖合部2230盖合敞口2111。

如此设置，当清洁件20执行完清洁任务后，清洁设备1000将移动至配套的清洁基站2000中，在此之前，转轴部2210转动至第一状态，盖合部2230将打开基站本体2100的敞口2111，以使清洁件20可以顺利伸入基站本体2100的敞口2111以与清洁结构接触；对清洁件20清洁完成后，清洁设备1000离开清洁基站2000，以继续执行清洁任务，之后，转轴部2210转动至第二状态，盖合部2230将盖合基站本体2100的敞口2111，以使梳齿件2200的梳齿2220位于相对密闭的空间内，可以减少异味散出。

进一步地，在一些实施例中，梳齿件2200还可以包括加热件，加热件与梳齿2220连接；当梳齿件2200上收集有脏污物后，加热件工作以将梳齿件2200上的脏污物烧断，以便于后续梳齿件2200的自清洁，例如，可通过喷液或喷气的方式直接将梳齿件2200上的脏污物喷走即可。

示例性的，可以直接在梳齿2220的外表面设置有加热片，加热片加热即可将梳齿2220上的脏污物烧断。

进一步地，结合参阅图5和图6，在一些实施例中，梳齿件2200还可以包括自清洁件2300，自清洁件2300设置于本体，用于清洁梳齿2220；当梳齿件2200将清洁件20上的脏污物清洁完成后，梳齿件2200上会残留有脏污物，此时，自清洁件2300工作，以对梳齿件2200上的梳齿2220进行自清洁，即可代替人工的方式对梳齿2220进行清洁，从而提高了对梳齿件2200的清洁效率和清洁效果。

进一步地，结合参阅图5和图6，在一些实施例中，梳齿2220位于清洁件20与自清洁件2300之间；当梳齿2220朝向自清洁件2300方向转动时，梳齿2220将与自清洁件2300配合以清洁梳齿2220，以使梳齿2220上的脏污物收集到自清洁件2300上。

进一步地，结合参阅图6，在一些实施例中，自清洁件2300可以包括至少一个清洁槽2310，且清洁槽2310与梳齿2220一一对应，梳齿2220与清洁槽2310适配；其中，当梳齿件2200朝向自清洁件2300方向转动时，梳齿2220可以从对应的清洁槽2310穿过，梳齿2220上的脏污物将被刮落在清洁槽2310中，进而可以在重力的作用下从清洁槽2310中落下。

进一步地，结合参阅图1至图6，在一些实施例中，梳齿2220可以朝向清洁件20方向弯曲，并呈弧形状。如此设置，可以增加梳齿2220与清洁件20的接触面积，进而增加清洁结构与清洁件20的接触面积，从而可以提升对清洁件20的清洁效果。

进一步地，结合参阅图2，在一些实施例中，本体设有清洁凸点2221c，用于在清洁件20转动时，与清洁件20接触以清洁清洁件20。清洁件20在转动过程中，清洁件20的表面将与本体上的清洁凸点2221c发生摩擦，可以进一步清洁清洁件20。

结合参阅图7至图10，在一些实施例中，清洁件20具有轴线，若干梳齿2220包括直齿2221和斜齿2222，在轴向上，直齿2221设置于清洁件20的中部设置，并沿清洁件20的运动方向延伸设置，斜齿2222沿清洁件20的运动方向逐渐向直齿2221倾斜设置。

如此，清洁件20在运动过程中并经过梳齿件2200时，清洁件20上的脏污物(包括毛发、沙土等垃圾)将在斜齿2222的导向下向直齿2221靠拢，即使得脏污物向中部靠拢，以便于后期的清洁。

进一步地，结合参阅图10，在一些实施例中，直齿2221的两侧均设有若干斜齿2222，且位于直齿2221两侧的斜齿2222关于直齿2221对称设置。如此，清洁件20在运动过程中并经过梳齿件2200时，可以使得清洁件20两侧的脏污物更好地向中部靠拢。

进一步地，结合参阅图10，在一些实施例中，位于直齿2221同一侧的若干斜齿2222中，相邻的两斜齿2222在清洁件20的运动方向上至少部分重叠。如此设置，清洁件20在运动过程中并经过梳齿件2200时，便可以通过斜齿2222和直齿2221充分将清洁件20上的脏污物勾走，以避免出现遗漏的情况。

进一步地，结合参阅图9，在一些实施例中，梳齿2220具有沿清洁件20的运动方向依次设置的后侧和前侧；至少一梳齿2220的后侧具有背向前侧设置的倒勾2221a，用于勾住清洁件20上的脏污物，倒勾2221a为清洁结构；和/或，前侧具有避让斜坡2221b。如此设置，清洁件20在正向运动过程中并经过梳齿件2200时，将通过梳齿2220上的倒勾2221a勾住清洁件20上的脏污物，以实现对清洁件20上脏污物的清洁；而当清洁件20发生反向运动时，可以使清洁件20上的脏污物在避让斜坡2221b的避让下顺利越过梳齿2220，从而使得清洁件20在再次正向运动时，以将清洁件20上的脏污物均勾住在倒勾2221a上，以便于清理待清洁体上的脏污物。

结合参阅图3和图4，本实用新型还提出一种清洁基站2000，该清洁基站2000包括基站本体2100及如前所述的梳齿件2200，该梳齿件2200的具体结构详见前述实施例。由于本清洁基站2000采用了前述实施例的全部技术方案，因此至少具有前述所有实施例的全部技术方案所带来的所有有益效果，在此不再一一赘述。其中，基站本体2100具有容纳清洁设备1000的容置部2110，清洁设备1000的清洁件20能够在容置部2110内运动；本体连接于基站本体2100，清洁结构位于清洁件20的运动路径上，在清洁件20运动时，清洁结构被配置为清洁清洁件20上的脏污物。

可以理解的是，本实用新型提出的清洁基站2000中，当清洁设备1000的清洁件20执行完清洁任务后，清洁设备1000将移动至配套的清洁基站2000中，并使清洁设备1000的清洁件20能够在清洁本体的容置部2110内运动，在此过程中，当清洁件20上缠绕有脏污物时，梳齿件2200将自动清洁缠绕在清洁件20上的脏污物，例如，可以勾走清洁件20上的脏污物，从而在每次清洁过后，无需用户手动清理清洁件20上的脏污物，从而本实用新型通过梳齿件2200代替人工完成对清洁件20上的脏污物的清理工作，提高了对清洁件20的清洁效率和清洁效果。

结合参阅图3，在一些实施例中，容置部2110的一侧壁开设有至少一个喷液口2112，至少一个喷液口2112朝向梳齿件2200和容置部2110的内底壁中的至少一者喷液，另一侧壁开设有至少一个排液口2113。

梳齿件2200对清洁件20清洁完成后，梳齿件2200上和/或容置部2110的内底壁上会残留有脏污物，如此，通过在容置部2110的一侧壁开设有至少一个喷液口2112，至少一个喷液口2112可以朝向梳齿件2200和容置部2110的内底壁中的至少一者喷液，便可以将梳齿件2200上的脏污物喷下至容置部2110的内底壁上，还可以将落下在容置部2110内底壁上的脏污物喷向排液口2113处，以实现对梳齿件2200和容置部2110的自清洁。

示例性的，可以只设置有一个喷液口2112，该喷液口2112可以转动并具有第一喷液状态和第二喷液状态，当喷液口2112处于第一喷液状态时，该喷液口2112可以朝向梳齿件2200喷液，当喷液口2112处于第二喷液状态时，该喷液口2112可以朝向容置部2110的内底壁喷液。或者也可以设置有两个喷液口2112，其中一个喷液口2112可以朝向梳齿件2200喷液，另一个喷液口2112可以朝向容置部2110的内底壁喷液。

进一步地，为了使容置部2110内底壁上的脏污物可以顺利排向排液口2113，结合参阅图3，在一些实施例中，在从喷液口2112至排液口2113的方向上，可以使容置部2110的内底壁逐渐向下倾斜。

结合参阅图7至图10，本实用新型还提出一种清洁头100，该清洁头100包括壳体10、清洁件20及如前所述的梳齿件2200，该梳齿件2200的具体结构详见前述实施例。由于本清洁头100采用了前述实施例的全部技术方案，因此至少具有前述所有实施例的全部技术方案所带来的所有有益效果，在此不再一一赘述。其中，清洁件20可活动地设于壳体10上，清洁件20被配置为清洁待清洁表面；主体连接于壳体10，清洁结构位于清洁件20的运行路径上，在清洁件20运动时，清洁结构被配置为清洁清洁件20上的脏污物。

可以理解的是，本实用新型提出的清洁头100中，在需要对地板、地毯等待清洁表面进行清洁时，清洁件20工作，通过相对于壳体10运动的过程中不断地与待清洁表面摩擦，从而起到清洁待清洁表面的作用，在此过程中，当清洁件20缠绕有脏污物时，梳齿件2200将自动清洁缠绕在清洁件20上的脏污物，例如，可以勾走清洁件20上的脏污物，从而在每次清洁过后，无需用户手动清理清洁件20上的脏污物，从而本实用新型通过梳齿件2200代替人工完成对清洁件20上的脏污物的清理工作，同样提高了对清洁件20的清洁效率和清洁效果。

示例性的，壳体10具有安装槽11，清洁件20可活动地设于安装槽11内，并可相对于壳体10运动，梳齿件2200设置在安装槽11内，并连接于安装槽11朝向清洁件20的侧壁上，如此，通过将清洁件20安装在安装槽11内，不仅可以美化外观，还可以对清洁件20进行保护。

结合参阅图1、图2、图5、图6，本实用新型还提出一种清洁系统10000，该清洁系统10000包括如前所述的清洁基站2000及清洁设备1000，该清洁基站2000的具体结构详见前述实施例。由于本清洁系统10000采用了前述实施例的全部技术方案，因此至少具有前述所有实施例的全部技术方案所带来的所有有益效果，在此不再一一赘述。如此，便可以通过清洁基站2000上的梳齿件2200来清洁清洁件20。

结合图11和图12，本实用新型还提出一种清洁系统10000，该清洁系统10000包括清洁基站2000及清洁设备1000，该清洁设备1000包括如前所述的清洁头100，该清洁头100的具体结构详见前述实施例。由于本清洁系统10000采用了前述实施例的全部技术方案，因此至少具有前述所有实施例的全部技术方案所带来的所有有益效果，在此不再一一赘述。如此，便可以通过清洁设备1000中清洁头100上的梳齿件2200来清洁清洁件20。

本实施例中，清洁设备1000还可以包括机架200，清洁头100可以活动设置在机架200上；如此，当清洁头100对凹凸不平的待清洁表面进行清洁时，清洁头100可以相对于机架200运动，以使清洁头100上的清洁件20能够更好地贴合凹凸不平的待清洁表面，从而有效保证对待清洁表面的清洁效果。

结合参阅图1、图2、图5、图6，本实用新型还提出一种清洁系统10000，该清洁系统10000包括如前所述的清洁基站2000及清洁设备1000，该清洁设备1000包括如前所述的清洁头100，该清洁基站2000和清洁头100的具体结构详见前述实施例。由于本清洁系统10000采用了前述实施例的全部技术方案，因此至少具有前述所有实施例的全部技术方案所带来的所有有益效果，在此不再一一赘述。如此，便可以通过清洁基站2000上的梳齿件2200以及清洁设备1000中清洁头100上的梳齿件2200来清洁清洁件20。

结合参阅图1、图2、图5、图6，在一些实施例中，清洁头100的梳齿2220的延伸方向与清洁基站2000的梳齿2220的延伸方向相反；清洁件20在执行清洁工作时沿第一方向转动，清洁头100的梳齿2220沿第一方向延伸；清洁基站2000的梳齿2220沿第一方向的相反方向延伸。

如此设置，当清洁基站2000和清洁头100上均设置有梳齿件2200时，清洁头100上的清洁件20在对待清洁表面清洁的过程中，清洁件20上的部分脏污物可以收集至清洁头100的梳齿件2200上；清洁件20对待清洁表面清洁完成后，具有清洁头100的清洁设备1000将移动至配套的基站中，此时，清洁设备1000上的清洁件20反向(第一方向)转动，以将收集在清洁头100中梳齿件2200上的脏污物反吐出来，反吐出来的脏污物将收集至清洁基站2000的梳齿件2200上，同时清洁基站2000上的梳齿件2200还可以清洁清洁件20上残留的脏污物，因此，不仅可以通过清洁头100上的梳齿件2200来清洁清洁件20，还可以通过清洁基站2000上的梳齿件2200来清洁清洁件20，以达到更好的清洁效果。

以上所述仅为本实用新型的可选实施例，并非因此限制本实用新型的专利范围，凡是在本实用新型的发明构思下，利用本实用新型说明书及附图内容所作的等效结构变换，或直接/间接运用在其他相关的技术领域均包括在本实用新型的专利保护范围内。

Claims (22)

1.一种梳齿件，其特征在于，所述梳齿件包括：

本体；

多个梳齿，多个所述梳齿间隔设置于所述本体上，在垂直于多个所述梳齿的排布方向上，所述梳齿的一端连接于所述本体上，另一端设置有清洁结构，所述清洁结构用于抵接清洁件的表面，以清洁清洁件上的脏污物。

2.根据权利要求1所述的梳齿件，其特征在于，在多个所述梳齿间隔排布方向上，所述梳齿倾斜设置和/或竖直设置。

3.根据权利要求2所述的梳齿件，其特征在于，所述本体包括：

转轴部，所述转轴部用于与基站本体连接且在第一状态和第二状态之间切换，多个所述梳齿在所述转轴部的轴向上依次间隔开；

其中，在所述转轴部处于所述第一状态时，所述清洁结构与所述清洁件接触，在所述清洁件运动时，所述清洁结构清除所述清洁件上的脏污物；

在所述转轴部处于所述第二状态时，所述清洁结构脱离所述清洁件。

4.根据权利要求3所述的梳齿件，其特征在于，所述本体还包括：

盖合部，所述盖合部设置于所述转轴部的径向侧壁，且所述盖合部与所述梳齿在所述转轴部的径向上间隔开；

其中，在所述转轴部处于所述第一状态时，所述盖合部打开所述基站本体的敞口，且所述清洁结构与所述清洁件接触；

在所述转轴部处于所述第二状态时，所述盖合部盖合所述敞口。

5.根据权利要求3所述的梳齿件，其特征在于，所述梳齿件还包括加热件，所述加热件与所述梳齿连接。

6.根据权利要求3所述的梳齿件，其特征在于，所述梳齿件还包括：

自清洁件，所述自清洁件设置于所述本体，用于清洁所述梳齿。

7.根据权利要求6所述的梳齿件，其特征在于，所述梳齿位于所述清洁件与所述自清洁件之间；

所述梳齿朝向所述自清洁件方向转动，并与所述自清洁件配合以清洁所述梳齿。

8.根据权利要求7所述的梳齿件，其特征在于，所述自清洁件包括至少一个清洁槽，且所述清洁槽与所述梳齿一一对应，所述梳齿与所述清洁槽适配；

其中，所述梳齿件朝向所述自清洁件方向转动，所述梳齿从对应的所述清洁槽穿过，以清除所述梳齿上的脏污物。

9.根据权利要求3所述的梳齿件，其特征在于，所述梳齿朝向所述清洁件方向弯曲，并呈弧形状。

10.根据权利要求3所述的梳齿件，其特征在于，所述本体设有清洁凸点，用于在所述清洁件转动时，与所述清洁件接触以清洁所述清洁件。

11.根据权利要求2所述的梳齿件，其特征在于，所述清洁件具有轴线，若干所述梳齿包括直齿和斜齿，在轴向上，所述直齿设置于所述清洁件的中部位置，并沿所述清洁件的运动方向延伸设置，所述斜齿沿所述清洁件的运动方向逐渐向所述直齿倾斜设置。

12.如权利要求11所述的梳齿件，其特征在于，所述直齿的两侧均设有若干所述斜齿，且位于所述直齿两侧的斜齿关于所述直齿对称设置。

13.如权利要求12所述的梳齿件，其特征在于，位于所述直齿同一侧的若干所述斜齿中，相邻的两所述斜齿在所述清洁件的运动方向上至少部分重叠。

14.如权利要求11所述的梳齿件，其特征在于，所述梳齿具有沿所述清洁件的运动方向依次设置的后侧和前侧；

至少一所述梳齿的后侧具有背向所述前侧设置的倒勾，用于勾住所述清洁件上的脏污物，所述倒勾为所述清洁结构；和/或，所述前侧具有避让斜坡。

15.一种清洁基站，其特征在于，包括：

基站本体，所述基站本体具有容纳清洁设备的容置部，所述清洁设备的清洁件能够在所述容置部内运动；以及

如权利要求1至10中任一项所述的梳齿件，所述本体连接于所述基站本体，所述清洁结构位于所述清洁件的运动路径上，在所述清洁件运动时，所述清洁结构被配置为清洁所述清洁件上的脏污物。

16.根据权利要求15所述的清洁基站，其特征在于，所述容置部的一侧壁开设有至少一个喷液口，至少一个所述喷液口朝向所述梳齿件和所述容置部的内底壁中的至少一者喷液，另一侧壁开设有至少一个排液口。

17.根据权利要求16所述的清洁基站，其特征在于，在从所述喷液口至所述排液口的方向上，所述容置部的内底壁逐渐向下倾斜。

18.一种清洁头，应用于清洁设备，其特征在于，所述清洁头包括：

壳体；

清洁件，所述清洁件可活动地设于所述壳体上，所述清洁件被配置为清洁待清洁表面；以及

如权利要求1、2以及11至14中任一项所述的梳齿件，所述本体连接于所述壳体，所述清洁结构位于所述清洁件的运行路径上，在所述清洁件运动时，所述清洁结构被配置为清洁所述清洁件上的脏污物。

19.一种清洁系统，其特征在于，包括如权利要求15至17任一项所述的清洁基站以及清洁设备。

20.一种清洁系统，其特征在于，包括清洁基站以及清洁设备，所述清洁设备包括如权利要求18所述的清洁头。

21.一种清洁系统，其特征在于，包括如权利要求15至17中任一项所述的清洁基站以及清洁设备，所述清洁设备包括如权利要求18所述的清洁头。

22.根据权利要求21所述的清洁系统，其特征在于，所述清洁头的梳齿的延伸方向与所述清洁基站的梳齿的延伸方向相反；所述清洁件在执行清洁工作时沿第一方向转动，所述清洁头的梳齿沿所述第一方向延伸；

所述清洁基站的梳齿沿所述第一方向的相反方向延伸。

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