CN219326820U - 一种可提高镀膜均匀度的真空镀膜机放置架 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种可提高镀膜均匀度的真空镀膜机放置架，包括镀膜机箱和箱门，所述镀膜机箱的前表面活动安装有箱门，所述镀膜机箱的下表面固定安装有底座，所述镀膜机箱的上表面固定安装有驱动电机，所述镀膜机箱的内部靠近上方和下方固定安装有十字架。本实用新型所述的一种可提高镀膜均匀度的真空镀膜机放置架，通过立杆、十字架、驱动电机、一号挂环、二号挂环和定位组件相互配合的方式，可以便利的调节挂钩之间的高度间距，这样可以悬挂较长的物体进行镀膜，并且立杆和转轴之间的间距可以便利的调节，这样可以对体积较大的物体进行悬挂，并且在取下转轴上的物体时，由于立杆与转轴之间的间距较大，所以可以方便的取下。

Description

一种可提高镀膜均匀度的真空镀膜机放置架

技术领域

本实用新型涉及真空镀膜机领域，特别涉及一种可提高镀膜均匀度的真空镀膜机放置架。

背景技术

真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空电阻加热蒸发，电子枪加热蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积，离子束溅射等很多种，主要思路是分成蒸发和溅射两种。

需要镀膜的物体都是悬挂在真空镀膜机内部的放置架上进行镀膜的，放置架由多根立杆组成，但是立杆之间的间距不能进行调节，这使得在取出位置中部立杆上的物体时比较麻烦，并且在悬挂体积较大的物体时，由于立杆之间的间距不可调节，所以便无法悬挂物体，而立杆上的挂钩之间的上下高度也不能便利的进行调节，当需要悬挂长度较长的物体时，便无法对长度较长的物体进行悬挂。

实用新型内容

本实用新型的主要目的在于提供一种可提高镀膜均匀度的真空镀膜机放置架，可以有效解决背景技术中的技术问题。

为实现上述目的，本实用新型采取的技术方案为：

一种可提高镀膜均匀度的真空镀膜机放置架，包括镀膜机箱和箱门，所述镀膜机箱的前表面活动安装有箱门，所述镀膜机箱的下表面固定安装有底座，所述镀膜机箱的上表面固定安装有驱动电机，所述镀膜机箱的内部靠近上方和下方固定安装有十字架，所述十字架之间且位于四角活动安装有立杆，所述立杆的表面靠近下方固定套设有一号挂环，所述立杆的表面位于一号挂环的上方固定套设有二号挂环，所述立杆的表面且位于二号挂环的上方固定套设有三号挂环，所述一号挂环和二号挂环的两侧表面活动安装有定位组件。

优选的，所述驱动电机的输出端固定安装有转轴，所述转轴的表面也固定套设有一号挂环、二号挂环和三号挂环，所述转轴的下端延伸于镀膜机箱的内部且穿过十字架，所述转轴的表面且位于十字架的内部固定套设有一号锥齿轮。

优选的，所述十字架的上表面且靠近四角开设有移动槽，所述移动槽的内部活动安装有螺纹杆，所述螺纹杆的一端表面固定安装有二号锥齿轮，所述一号锥齿轮与二号锥齿轮啮合。

优选的，所述立杆的两侧表面纵向开设有定位槽，所述立杆的上端面和下端面固定安装有螺纹套块，所述转轴的两侧表面也纵向开设有定位槽，所述定位槽的数量为若干个，所述螺纹套块套设在螺纹杆的表面。

优选的，所述一号挂环、二号挂环和三号挂环的下表面均固定安装有挂钩，所述挂钩的数量为四个，所述一号挂环的表面靠近边缘位置开设有滑口，所述滑口的数量为四个，所述一号挂环和二号挂环靠近上方的两侧表面均开设有回弹槽。

优选的，所述定位组件由弧形拉块、止挡块、卡块、定位柱、止挡环和弹簧组成，所述弧形拉块的后表面靠近两端开设有卡槽，所述弧形拉块的后表面靠近两端活动安装有止挡块，所述止挡块的前表面固定安装有卡块，所述卡块活动嵌设在卡槽中，所述止挡块的后表面固定安装有定位柱，所述定位柱的后端穿过回弹槽嵌设在定位槽中，所述定位柱的表面且位于回弹槽的内部固定套设有止挡环，所述定位柱的表面且位于止挡环的前方套设有弹簧。

与现有技术相比，本实用新型具有如下有益效果：

本实用新型中，通过设置立杆、十字架、驱动电机、一号挂环、二号挂环和定位组件相互配合的方式，当需要在立杆和驱动电机的转轴上悬挂较大体积的物体时，启动驱动电机，驱动电机带动转轴和一号锥齿轮进行旋转，旋转的一号锥齿轮便会带动二号锥齿轮进行旋转，从而促使立杆的螺纹套块在十字架的螺纹杆上移动，直至立杆与转轴之间的间距调节到需要的大小，然后便可以在立杆和转轴上悬挂体积较大的物体，并且立杆与转轴之间的间距也方便取下位于中间位置转轴上的物体，由于立杆与转轴之间的间距较大，所以在进行镀膜的时候，可以使得物质充分接触悬挂的物体，从而达到均匀镀膜的目的，当需要在立杆和转轴上悬挂长度较长的物体时，拉动定位组件，使得定位组件的定位柱从定位槽中抽出，然后便可以便利的下调二号挂环，并使得二号挂环的挂钩穿过一号挂环的滑口延伸于一号挂环的下方，这样便可以给三号挂环留有足够长的空间来悬挂长度较长的物体。

附图说明

图1为本实用新型一种可提高镀膜均匀度的真空镀膜机放置架的整体结构图；

图2为本实用新型一种可提高镀膜均匀度的真空镀膜机放置架的局部安装示意图；

图3为本实用新型一种可提高镀膜均匀度的真空镀膜机放置架的图2中A处放大图；

图4为本实用新型一种可提高镀膜均匀度的真空镀膜机放置架的驱动电机与十字架连接示意图；

图5为本实用新型一种可提高镀膜均匀度的真空镀膜机放置架的定位组件结构图。

图中：1、镀膜机箱；2、箱门；3、底座；4、驱动电机；401、转轴；402、一号锥齿轮；5、十字架；501、移动槽；502、螺纹杆；503、二号锥齿轮；6、立杆；601、定位槽；602、螺纹套块；7、一号挂环；701、滑口；702、挂钩；8、定位组件；801、弧形拉块；802、止挡块；803、卡块；804、卡槽；805、定位柱；806、止挡环；807、弹簧；9、二号挂环；10、三号挂环。

具体实施方式

为使本实用新型实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解，下面结合具体实施方式，进一步阐述本实用新型。

如图1-5所示一种可提高镀膜均匀度的真空镀膜机放置架，包括镀膜机箱1和箱门2，镀膜机箱1的前表面活动安装有箱门2，镀膜机箱1的下表面固定安装有底座3，镀膜机箱1的上表面固定安装有驱动电机4，镀膜机箱1的内部靠近上方和下方固定安装有十字架5，十字架5之间且位于四角活动安装有立杆6，立杆6的表面靠近下方固定套设有一号挂环7，立杆6的表面位于一号挂环7的上方固定套设有二号挂环9，立杆6的表面且位于二号挂环9的上方固定套设有三号挂环10，一号挂环7和二号挂环9的两侧表面活动安装有定位组件8。

驱动电机4的输出端固定安装有转轴401，转轴401的表面也固定套设有一号挂环7、二号挂环9和三号挂环10，转轴401的下端延伸于镀膜机箱1的内部且穿过十字架5，转轴401的表面且位于十字架5的内部固定套设有一号锥齿轮402，驱动电机4可以带动转轴401旋转，旋转的转轴401可以带动一号挂环7、二号挂环9和三号挂环10上悬挂的物件进行旋转；十字架5的上表面且靠近四角开设有移动槽501，移动槽501的内部活动安装有螺纹杆502，螺纹杆502的一端表面固定安装有二号锥齿轮503，一号锥齿轮402与二号锥齿轮503啮合，旋转的二号锥齿轮503可以促使螺纹套块602进行移动，从而控制立杆6与转轴401之间的间距；立杆6的两侧表面纵向开设有定位槽601，立杆6的上端面和下端面固定安装有螺纹套块602，转轴401的两侧表面也纵向开设有定位槽601，定位槽601的数量为若干个，螺纹套块602套设在螺纹杆502的表面，定位槽601与定位柱805的配合，可以对二号挂环9和一号挂环7的安装位置进行固定；一号挂环7、二号挂环9和三号挂环10的下表面均固定安装有挂钩702，挂钩702的数量为四个，一号挂环7的表面靠近边缘位置开设有滑口701，滑口701的数量为四个，一号挂环7和二号挂环9靠近上方的两侧表面均开设有回弹槽，二号挂环9下调后，可以使得二号挂环9的挂钩702穿过滑口701延伸于一号挂环7的下方，这样可以给三号挂环10留有足够长的空间来悬挂较长的物体；定位组件8由弧形拉块801、止挡块802、卡块803、定位柱805、止挡环806和弹簧807组成，弧形拉块801的后表面靠近两端开设有卡槽804，弧形拉块801的后表面靠近两端活动安装有止挡块802，止挡块802的前表面固定安装有卡块803，卡块803活动嵌设在卡槽804中，止挡块802的后表面固定安装有定位柱805，定位柱805的后端穿过回弹槽嵌设在定位槽601中，定位柱805的表面且位于回弹槽的内部固定套设有止挡环806，定位柱805的表面且位于止挡环806的前方套设有弹簧807，止挡环806可以防止定位柱805从回弹槽中抽出，弹簧807对止挡环806具有靠近立杆6的推力。

需要说明的是，本实用新型为一种可提高镀膜均匀度的真空镀膜机放置架，在使用时，当需要在立杆6和驱动电机4的转轴401上悬挂较大体积的物体时，启动驱动电机4，驱动电机4带动转轴401和一号锥齿轮402进行旋转，旋转的一号锥齿轮402便会带动二号锥齿轮503进行旋转，从而促使立杆6的螺纹套块602在十字架5的螺纹杆502上移动，直至立杆6与转轴401之间的间距调节到需要的大小，然后便可以在立杆6和转轴401上悬挂体积较大的物体，并且立杆6与转轴401之间的间距也方便取下位于中间位置转轴401上的物体，由于立杆6与转轴401之间的间距较大，所以在进行镀膜的时候，可以使得物质充分接触悬挂的物体，从而达到均匀镀膜的目的，当需要在立杆6和转轴401上悬挂长度较长的物体时，拉动定位组件8，使得定位组件8的定位柱805从定位槽601中抽出，然后便可以便利的下调二号挂环9，并使得二号挂环9的挂钩702穿过一号挂环7的滑口701延伸于一号挂环7的下方，这样便可以给三号挂环10留有足够长的空间来悬挂长度较长的物体。

以上显示和描述了本实用新型的基本原理和主要特征和本实用新型的优点。本行业的技术人员应该了解，本实用新型不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理，在不脱离本实用新型精神和范围的前提下，本实用新型还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内。本实用新型要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。

Claims (6)

1.一种可提高镀膜均匀度的真空镀膜机放置架，其特征在于：包括镀膜机箱(1)和箱门(2)，所述镀膜机箱(1)的前表面活动安装有箱门(2)，所述镀膜机箱(1)的下表面固定安装有底座(3)，所述镀膜机箱(1)的上表面固定安装有驱动电机(4)，所述镀膜机箱(1)的内部靠近上方和下方固定安装有十字架(5)，所述十字架(5)之间且位于四角活动安装有立杆(6)，所述立杆(6)的表面靠近下方固定套设有一号挂环(7)，所述立杆(6)的表面位于一号挂环(7)的上方固定套设有二号挂环(9)，所述立杆(6)的表面且位于二号挂环(9)的上方固定套设有三号挂环(10)，所述一号挂环(7)和二号挂环(9)的两侧表面活动安装有定位组件(8)。

2.根据权利要求1所述的一种可提高镀膜均匀度的真空镀膜机放置架，其特征在于：所述驱动电机(4)的输出端固定安装有转轴(401)，所述转轴(401)的表面也固定套设有一号挂环(7)、二号挂环(9)和三号挂环(10)，所述转轴(401)的下端延伸于镀膜机箱(1)的内部且穿过十字架(5)，所述转轴(401)的表面且位于十字架(5)的内部固定套设有一号锥齿轮(402)。

3.根据权利要求2所述的一种可提高镀膜均匀度的真空镀膜机放置架，其特征在于：所述十字架(5)的上表面且靠近四角开设有移动槽(501)，所述移动槽(501)的内部活动安装有螺纹杆(502)，所述螺纹杆(502)的一端表面固定安装有二号锥齿轮(503)，所述一号锥齿轮(402)与二号锥齿轮(503)啮合。

4.根据权利要求3所述的一种可提高镀膜均匀度的真空镀膜机放置架，其特征在于：所述立杆(6)的两侧表面纵向开设有定位槽(601)，所述立杆(6)的上端面和下端面固定安装有螺纹套块(602)，所述转轴(401)的两侧表面也纵向开设有定位槽(601)，所述定位槽(601)的数量为若干个，所述螺纹套块(602)套设在螺纹杆(502)的表面。

5.根据权利要求4所述的一种可提高镀膜均匀度的真空镀膜机放置架，其特征在于：所述一号挂环(7)、二号挂环(9)和三号挂环(10)的下表面均固定安装有挂钩(702)，所述挂钩(702)的数量为四个，所述一号挂环(7)的表面靠近边缘位置开设有滑口(701)，所述滑口(701)的数量为四个，所述一号挂环(7)和二号挂环(9)靠近上方的两侧表面均开设有回弹槽。

6.根据权利要求5所述的一种可提高镀膜均匀度的真空镀膜机放置架，其特征在于：所述定位组件(8)由弧形拉块(801)、止挡块(802)、卡块(803)、定位柱(805)、止挡环(806)和弹簧(807)组成，所述弧形拉块(801)的后表面靠近两端开设有卡槽(804)，所述弧形拉块(801)的后表面靠近两端活动安装有止挡块(802)，所述止挡块(802)的前表面固定安装有卡块(803)，所述卡块(803)活动嵌设在卡槽(804)中，所述止挡块(802)的后表面固定安装有定位柱(805)，所述定位柱(805)的后端穿过回弹槽嵌设在定位槽(601)中，所述定位柱(805)的表面且位于回弹槽的内部固定套设有止挡环(806)，所述定位柱(805)的表面且位于止挡环(806)的前方套设有弹簧(807)。

Images