CN219218199U - 一种用于水电镀的钛篮装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种用于水电镀的钛篮装置，包括支撑架、上阳极钛篮、下阳极钛篮以及水泵，所述支撑架具有上支撑位以及位于所述上支撑位下方的下支撑位，所述上阳极钛篮设置于所述上支撑位，所述下阳极钛篮设置于所述下支撑位，所述上阳极钛篮和下阳极钛篮之间形成供导电薄膜穿过的空间，所述上阳极钛篮的底部和下阳极钛篮的底部均呈V状，所述水泵设置在所述支撑架的底部并位于所述下支撑位的下方，所述水泵用于将电镀槽内的镀液向上移送。本实用新型可保证导电薄膜的上下两侧均存在满足电镀的铜离子，且可保证导电薄膜的镀层的均匀性。

Description

一种用于水电镀的钛篮装置

技术领域

本实用新型涉及电镀技术领域，具体的是涉及一种用于水电镀的钛篮装置。

背景技术

导电薄膜是一种表面镀有金属的一种高分子材料，广泛运用于锂离子电池中，在锂离子电池中主要作为电池集流体使用。电镀工艺是导电薄膜制造过程中的重要环节，它是指利用电解原理，在导电薄膜表面形成均匀、致密、结合良好的金属或合金沉积层的过程。

目前现有的钛篮装置通常包括若干个阳极钛篮，若干个阳极钛篮通常呈左右平行设置，阳极钛篮内通常放置有多个铜球，且阳极钛篮的底部通常呈水平状，在实际进行电镀时，若干个阳极钛篮均位于导电薄膜的上侧，通电后，铜球溶解从而形成铜离子，铜离子附着到导电薄膜的上下两个表面，从而在导电薄膜的上下两个表面分别形成镀层。该种结构中，由于若干个阳极钛篮呈左右平行设置，在实际进行电镀时，无法保证导电薄膜的上下两侧都存在满足电镀的铜离子，且由于阳极钛篮的底部呈水平状，在多个铜球放置到阳极钛篮内后，每个铜球的位置是固定的，而在电镀过程中，铜球的溶解速率是不一样的，有的溶解快，有的溶解慢，这样阳极钛篮内的铜球分布会变得不均匀，从而导致导电薄膜的镀层不均匀。

实用新型内容

为了克服现有技术的不足，本实用新型提供一种用于水电镀的钛篮装置，可保证导电薄膜的上下两侧均存在满足电镀的铜离子，且可保证导电薄膜的镀层的均匀性。

本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是：

一种用于水电镀的钛篮装置，包括支撑架、上阳极钛篮、下阳极钛篮以及水泵，所述支撑架具有上支撑位以及位于所述上支撑位下方的下支撑位，所述上阳极钛篮设置于所述上支撑位，所述下阳极钛篮设置于所述下支撑位，所述上阳极钛篮和下阳极钛篮之间形成供导电薄膜穿过的空间，所述上阳极钛篮的底部和下阳极钛篮的底部均呈V状，所述水泵设置在所述支撑架的底部并位于所述下支撑位的下方，所述水泵用于将电镀槽内的镀液向上移送。

作为优选的技术方案，所述下阳极钛篮的两端分别设有两个连接部，所述两个连接部的内部分别与所述下阳极钛篮的内部连通，所述两个连接部的顶部分别连接有两个加料部，所述支撑架位于所述两个加料部、两个连接部之间，所述加料部的内部与对应的连接部的内部连通，所述加料部的顶部开口。

作为优选的技术方案，所述加料部包括连接盒和加料盒，所述连接盒的一端与对应的连接部的顶部连接，另一端与所述加料盒的底部连接，所述连接盒的内部形成有落料通道，所述加料盒的底部具有与其内部连通的漏料口，所述加料盒的顶部开口，所述落料通道的一端与对应的连接部的内部连通，另一端与所述漏料口连通；所述支撑架位于所述两个加料部的连接盒之间，所述两个加料部的加料盒分别位于所述支撑架的上方。

作为优选的技术方案，所述落料通道的宽度与铜球的直径相适配。

作为优选的技术方案，所述连接部内设有铜球缓冲组件，所述铜球缓冲组件包括缓冲板以及位于所述缓冲板下方的弹性件，所述连接部的两侧内壁分别设有两个沿其高度方向延伸的滑槽，所述缓冲板的两端分别与所述两个滑槽滑动配合，所述缓冲板可相对所述连接部上下滑动，所述弹性件的一端与所述缓冲板连接，另一端与所述连接部内的底部连接。

作为优选的技术方案，所述支撑架的顶部设有沿电镀槽的宽度方向延伸的支撑板，所述支撑板用于架设在电镀槽的开口端。

作为优选的技术方案，所述支撑板的两端分别向下弯折并形成有两个限位板，所述限位板具有螺纹孔，所述螺纹孔内螺纹连接有螺杆，所述两个限位板的螺杆的末端分别用于抵接到电镀槽的两侧外壁。

作为优选的技术方案，还包括两个L型网状挡板，所述L型网状挡板包括横部以及与所述横部的一端连接的竖部，所述两个连接部的顶部分别凸出于所述下阳极钛篮的顶部，所述两个L型网状挡板的横部分别盖设在所述下阳极钛篮两端的顶部上，两个L型网状挡板的竖部分别与所述两个连接部顶部的靠近所述下阳极钛篮的一侧接触。

本实用新型的有益效果是：本实用新型可保证导电薄膜的上下两侧均存在满足电镀的铜离子，且上阳极钛篮和下阳极钛篮的底部均呈V状，从而在电镀过程中，随着铜球的溶解，铜球能够自行向钛篮的中部聚拢，这样导电薄膜的镀层会比较均匀，再利用水泵将电镀槽内的镀液向上移送，从而可实现搅动电镀槽内的镀液，从而能够使镀液中的铜离子分布的更加均匀，从而使得导电薄膜的镀层更加均匀。

附图说明

下面结合附图和实施例对本实用新型进一步说明。

图1是本实用新型一实施例提供的一种用于水电镀的钛篮装置的结构示意图；

图2是图1所示钛篮装置和电镀槽的结构示意图；

图3是图1所示钛篮装置的主视示意图；

图4是图1所示钛篮装置的剖视示意图；

图5是图1所示钛篮装置的爆炸示意图。

附图标号说明：

10、支撑架；122、底框；123a、第一前竖杆；123b、第二前竖杆；123c、第一后竖杆；123d、第二后竖杆；124、第一横杆；125、第二横杆；126、支撑杆；14、支撑板；142、限位板；144、螺杆；

20、上阳极钛篮；

30、下阳极钛篮；32、连接部；322、缓冲板；324、弹性件；326、滑槽；34、加料部；342、连接盒；3422、落料通道；344、加料盒；3442、漏料口；

40、水泵；

50、L型网状挡板；52、横部；54、竖部；

100、电镀槽。

具体实施方式

以下将结合实施例和附图对本实用新型的构思、具体结构及产生的技术效果进行清楚、完整地描述，以充分地理解本实用新型的目的、特征和效果。显然，所描述的实施例只是本实用新型的一部分实施例，而不是全部实施例，基于本实用新型的实施例，本领域的技术人员在不付出创造性劳动的前提下所获得的其他实施例，均属于本实用新型保护的范围。另外，专利中涉及到的所有联接/连接关系，并非单指构件直接相接，而是指可根据具体实施情况，通过添加或减少联接辅件，来组成更优的联接结构。本实用新型创造中的各个技术特征，在不互相矛盾冲突的前提下可以交互组合。

请参照图1至图5，本实用新型一实施例提供的一种用于水电镀的钛篮装置，包括支撑架10、上阳极钛篮20、下阳极钛篮30、水泵40和两个L型网状挡板50。

支撑架10具有上支撑位以及位于上支撑位下方的下支撑位，上阳极钛篮20设置于上支撑位，下阳极钛篮30设置于下支撑位，上阳极钛篮20和下阳极钛篮30呈上下间隔设置且两者之间形成供导电薄膜穿过的空间，在实际应用时，空间与电镀槽100的内部连通，上阳极钛篮、下阳极钛篮的长度大于导电薄膜的宽度。上阳极钛篮20为顶部开口的盒状结构，下阳极钛篮30为顶部以及两端均开口的盒状结构，上阳极钛篮20和下阳极钛篮30分别用于放置多个铜球，上阳极钛篮20的底部和下阳极钛篮30的底部均呈V状。水泵40设置在支撑架10的底部并位于下支撑位的下方，水泵40用于将电镀槽100内的镀液向上移送。通过该种结构，在实际进行电镀时，先将支撑架10置于电镀槽100内，如图2所示，然后使导电薄膜从上阳极钛篮20和下阳极钛篮30之间的空间穿过，这样上阳极钛篮20和下阳极钛篮30即分别位于导电薄膜的上方、下方，如此保证了导电薄膜的上下两侧均存在满足电镀的铜离子，且上阳极钛篮20和下阳极钛篮30的底部均呈V状，在电镀过程中，随着铜球的溶解，铜球能够自行向钛篮的中部聚拢，这样导电薄膜的镀层会比较均匀，再利用水泵40将电镀槽100内的镀液向上移送，从而可实现搅动电镀槽100内的镀液，从而能够使镀液中的铜离子分布均匀，使导电薄膜的镀层更加均匀。

本实施例中，如图5所示，支撑架10包括底框122、第一前竖杆123a、第二前竖杆123b、第一后竖杆123c、第二后竖杆123d、两个第一横杆124以及两个第二横杆125。底框122包括两个长杆和两个短杆，两个长杆的两端之间分别设有两个短杆。水泵40设置在底框122的两个长杆之间，水泵40的数量优选为两个，可以理解地，水泵40的数量可根据实际情况进行设置。第一前竖杆123a和第一后竖杆123c呈前后平行设置，第二前竖杆123b和第二后竖杆123d呈前后平行设置。第一前竖杆123a、第二前竖杆123b、第一后竖杆123c和第二后竖杆123d分别设置在底框122的两个长杆的顶部上。两个第一横杆124呈前后平行设置，其中一个第一横杆124设置在第一前竖杆123a和第二前竖杆123b之间，另一个第一横杆124设置在第一后竖杆123c、第二后竖杆123d之间。两个第二横杆125呈左右平行设置，其中一个第二横杆125设置在第一前竖杆123a和第一后竖杆123c之间，另一个第二横杆125设置在第二前竖杆123b和第二后竖杆123d之间，两个第一横杆124的顶部、底部和两个第二横杆125的顶部、底部平齐，两个第二横杆125的顶部形成上述的第一支撑位。

底框122的两个短杆的顶部上分别设有四个支撑杆126，四个支撑杆126两两呈前后平行设置，其中两个呈前后平行设置的支撑杆126分别靠近第一前竖杆123a和第一后竖杆123c并位于第一前竖杆123a和第一后竖杆123c之间，另外两个呈前后平行设置的支撑杆126分别靠近第二前竖杆123b和第二后竖杆123d并位于第二前竖杆123b和第二后竖杆123d之间，四个支撑杆126的顶部形成上述的下支撑位。

进一步地，下阳极钛篮30的两端分别设有两个连接部32，两个连接部32的顶部以及靠近下阳极钛篮30的一侧均开口，两个连接部32的内部分别与下阳极钛篮30的内部连通。两个连接部32的顶部分别连接有两个加料部34，支撑架10位于两个加料部34、两个连接部32之间，加料部34的内部与对应的连接部32的内部连通，加料部34的顶部开口。

本实施例中，加料部34包括连接盒342和加料盒344。连接盒342的一端与对应的连接部32的顶部连接，另一端与加料盒344的底部连接，连接盒342的内部形成有落料通道3422，加料盒344的底部具有与其内部连通的漏料口3442，加料盒344的顶部开口，落料通道3422的一端与对应的连接部32的内部连通，另一端与漏料口3442连通。支撑架10位于两个加料部34的连接盒342之间，两个加料部34的加料盒344分别位于支撑架10的上方。在实际应用时，当下阳极钛篮30内需添加铜球时，可将铜球经加料盒344的漏料口3442放入到落料通道3422内，放入的铜球可在其自身重力作用下经落料通道3422、对应的连接部32的内部进入到下阳极钛篮30内，如此即可实现向下阳极钛篮30内添加铜球。设置的连接部32、加料部34，便于向下阳极钛篮30内添加铜球，可防止铜球掉落到电镀槽100内，使用方便，提高了生产效率。

两个连接部32和下阳极钛篮30优选为一体成型，便于制造。

落料通道3422的宽度与铜球的直径相适配，这样落料通道3422在宽度方向上一次仅允许一颗铜球进入，不会出现阻塞现象，便于铜球进入到下阳极钛篮30内，并可使铜球在下阳极钛篮30内的分布会更加均匀。

连接部32内设有铜球缓冲组件，铜球缓冲组件包括缓冲板322以及位于缓冲板322下方的弹性件324。连接部32的两侧内壁分别设有两个沿其高度方向延伸的滑槽326，缓冲板322的两端分别与两个滑槽326滑动配合，缓冲板322可相对连接部32上下滑动。弹性件324的一端与缓冲板322连接，另一端与连接部32内的底部连接。弹性件324优选为弹簧。铜球在进入到连接部32内后会先落在缓冲板322上，之后再进入到下阳极钛篮30内，在铜球落在缓冲板322上时，缓冲板322可在铜球的重力作用下向下移动并会下压弹性件324，从而弹性件324压缩，在铜球进入到下阳极钛篮30内后，缓冲板322可在弹性件324的复位作用下向上移动以回到初始位置，设置的缓冲板322和弹性件324，可减少铜球对连接部32内的底部的冲击，使得铜球添加的过程更加稳定。

本实施例中，弹性件324的数量为三个，三个弹性件324沿缓冲板322的长度方向呈间隔设置，可以理解地，弹性件324的数量可根据实际情况进行设置。

两个L型网状挡板50均包括横部52以及与横部52的一端连接的竖部54。两个连接部32的顶部分别凸出于下阳极钛篮30的顶部，两个L型网状挡板50的横部52分别盖设在下阳极钛篮30两端的顶部上，以对下阳极钛篮30顶部的部分开口进行封闭，两个L型网状挡板50的竖部54分别与两个连接部32顶部的靠近下阳极钛篮30的一侧接触，以对连接部32顶部的靠近下阳极钛篮30一侧的开口进行封闭。设置的L型网状挡板50起到阻挡作用，可防止铜球掉落到电镀槽100内。

进一步地，支撑架10的第一前竖杆123a和第二前竖杆123b的顶部、第一后竖杆123c和第二后竖杆123d的顶部分别设有沿电镀槽100的宽度方向延伸的两个支撑板14，两个支撑板14呈前后平行设置，两个支撑板14用于架设在电镀槽100的开口端。在实际应用时，支撑板14的两端分别凸出于电镀槽100的两侧外壁。支撑板14的两端分别向下弯折并形成有两个限位板142，限位板142具有螺纹孔，螺纹孔内螺纹连接有螺杆144，两个限位板142的螺杆144的末端分别用于抵接到电镀槽100的两侧外壁。在实际应用时，通过转动两个限位板142的螺杆144，并使两个限位板142的螺杆144的末端分别抵接到电镀槽100的两侧外壁，从而可实现将支撑架10固定到电镀槽100的开口端，这样在向下阳极钛篮30内添加铜球时，支撑架10不会发生偏移。

以上是对本实用新型的较佳实施进行了具体说明，但本实用新型创造并不限于所述实施例，熟悉本领域的技术人员在不违背本实用新型精神的前提下还可做出种种的等同变形或替换，这些等同的变形或替换均包含在本申请权利要求所限定的范围内。

Claims (8)

1.一种用于水电镀的钛篮装置，其特征在于，包括支撑架、上阳极钛篮、下阳极钛篮以及水泵，所述支撑架具有上支撑位以及位于所述上支撑位下方的下支撑位，所述上阳极钛篮设置于所述上支撑位，所述下阳极钛篮设置于所述下支撑位，所述上阳极钛篮和下阳极钛篮之间形成供导电薄膜穿过的空间，所述上阳极钛篮的底部和下阳极钛篮的底部均呈V状，所述水泵设置在所述支撑架的底部并位于所述下支撑位的下方，所述水泵用于将电镀槽内的镀液向上移送。

2.根据权利要求1所述的用于水电镀的钛篮装置，其特征在于，所述下阳极钛篮的两端分别设有两个连接部，所述两个连接部的内部分别与所述下阳极钛篮的内部连通，所述两个连接部的顶部分别连接有两个加料部，所述支撑架位于所述两个加料部、两个连接部之间，所述加料部的内部与对应的连接部的内部连通，所述加料部的顶部开口。

3.根据权利要求2所述的用于水电镀的钛篮装置，其特征在于，所述加料部包括连接盒和加料盒，所述连接盒的一端与对应的连接部的顶部连接，另一端与所述加料盒的底部连接，所述连接盒的内部形成有落料通道，所述加料盒的底部具有与其内部连通的漏料口，所述加料盒的顶部开口，所述落料通道的一端与对应的连接部的内部连通，另一端与所述漏料口连通；所述支撑架位于所述两个加料部的连接盒之间，所述两个加料部的加料盒分别位于所述支撑架的上方。

4.根据权利要求3所述的用于水电镀的钛篮装置，其特征在于，所述落料通道的宽度与铜球的直径相适配。

5.根据权利要求2所述的用于水电镀的钛篮装置，其特征在于，所述连接部内设有铜球缓冲组件，所述铜球缓冲组件包括缓冲板以及位于所述缓冲板下方的弹性件，所述连接部的两侧内壁分别设有两个沿其高度方向延伸的滑槽，所述缓冲板的两端分别与所述两个滑槽滑动配合，所述缓冲板可相对所述连接部上下滑动，所述弹性件的一端与所述缓冲板连接，另一端与所述连接部内的底部连接。

6.根据权利要求2所述的用于水电镀的钛篮装置，其特征在于，所述支撑架的顶部设有沿电镀槽的宽度方向延伸的支撑板，所述支撑板用于架设在电镀槽的开口端。

7.根据权利要求6所述的用于水电镀的钛篮装置，其特征在于，所述支撑板的两端分别向下弯折并形成有两个限位板，所述限位板具有螺纹孔，所述螺纹孔内螺纹连接有螺杆，所述两个限位板的螺杆的末端分别用于抵接到电镀槽的两侧外壁。

8.根据权利要求2所述的用于水电镀的钛篮装置，其特征在于，还包括两个L型网状挡板，所述L型网状挡板包括横部以及与所述横部的一端连接的竖部，所述两个连接部的顶部分别凸出于所述下阳极钛篮的顶部，所述两个L型网状挡板的横部分别盖设在所述下阳极钛篮两端的顶部上，两个L型网状挡板的竖部分别与所述两个连接部顶部的靠近所述下阳极钛篮的一侧接触。

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