CN219218142U - 一种用于立式真空镀膜的陪镀片夹具 - Google Patents

Abstract

本实用新型实施例公开了一种用于立式真空镀膜的陪镀片夹具，包括自其中一个侧面向内凹陷形成有嵌入槽的主夹体，以及连接于所述主夹体上，且止挡所述嵌入槽的至少一端的挡板；其中，所述嵌入槽自其中一端至另一端倾斜延伸。本实用新型采用主夹体和挡板配合设置的方式，使陪镀片能够稳定地装夹于嵌入槽中，并基于嵌入槽的倾斜延伸设置，使得陪镀片能够贴附放置于嵌入槽中，避免整个陪镀片夹具的晃动等情况造成陪镀片的晃动或是脱落。

Description

一种用于立式真空镀膜的陪镀片夹具

技术领域

本实用新型实施例涉及表面镀膜加工技术领域，具体涉及一种用于立式真空镀膜的陪镀片夹具。

背景技术

钕铁硼磁体拥有极高的磁性能，且其质地坚硬，性能稳定，有很好的性价比，故其应用极其广泛。但因为磁体中富Nd相化学活性很强，磁体极易腐蚀，需要在其表面制备耐蚀性防护凃层。同时其高温性能不佳，高温下磁损较大，一般为80℃左右。在经过重稀土涂层+热扩散处理后的磁铁，其最高工作温度才可达200℃。无论是耐蚀性防护凃层还是重稀土涂层，均需要采用涂层制备技术。

真空镀膜技术如磁控溅射、离子镀，是沉积涂层较好的手段之一。采用该技术在钕铁硼表面沉积耐蚀性防护涂层，其稳定性和镀层/基体结合力、致密度高，在冷热交变环境下的防腐能力较强。同时涂层厚度精确可控，有利于提高重稀土的利用率。另外，真空镀膜技术应用过程中，不存在任何固、液、气等污染物的排放，是一种具有良好应用前景的绿色涂层制备技术。

在涂层制备过程中，除了在镀膜设备中放置钕铁硼磁体，通常需要放置陪镀的单晶硅片，以便于分析涂层的微结构、性能以及沉积效率等指标。然而，不同与钕铁硼磁体优异的力学性能，单晶硅片脆性大，若采用钕铁硼磁体所用的夹具对其进行装夹，因夹具存在强受力点，单晶硅片极易破碎。目前企业通常采用不锈钢丝对单晶硅片进行绑定，但每次镀膜均需要重复该操作，效率较低。因此，亟需提出一种针对陪镀硅片的夹具来解决现有技术中存在的问题。

实用新型内容

为此，本实用新型实施例提供一种用于立式真空镀膜的陪镀片夹具，采用主夹体和挡板配合设置的方式，使陪镀片能够稳定地装夹于嵌入槽中，并基于嵌入槽的倾斜延伸设置，使得陪镀片能够贴附放置于嵌入槽中，避免整个陪镀片夹具的晃动等情况造成陪镀片的晃动或是脱落。

为了实现上述目的，本实用新型的实施方式提供如下技术方案：

在本实用新型实施例的一个方面，提供了一种用于立式真空镀膜的陪镀片夹具，包括自其中一个侧面向内凹陷形成有嵌入槽的主夹体，以及连接于所述主夹体上，且止挡所述嵌入槽的至少一端的挡板；其中，

所述嵌入槽自其中一端至另一端倾斜延伸。

作为本实用新型的一种优选方案，所述嵌入槽的其中一端形成为开放，所述挡板位于所述嵌入槽的另一端；且，

所述挡板止挡至少部分所述主夹体的侧面。

作为本实用新型的一种优选方案，所述主夹体上至少部分贯穿形成有轴线与所述嵌入槽的凹陷方向相平行的螺纹孔，所述挡板上对应形成有通孔，所述螺纹孔与所述通孔通过连接件配合连接。

作为本实用新型的一种优选方案，所述嵌入槽自开放端至另一端斜向外倾斜延伸；且，

倾斜面与竖直面之间的夹角为10°-30°。

作为本实用新型的一种优选方案，所述主夹体中沿所述嵌入槽的凹陷方向上的宽度不小于8mm，所述挡板中沿所述嵌入槽的凹陷方向上的宽度不小于2mm。

作为本实用新型的一种优选方案，所述主夹体上还贯穿形成至少部分沿所述嵌入槽的延伸方向可移动地设置的顶推组件，且所述顶推组件的移动端能够位于所述嵌入槽中。

作为本实用新型的一种优选方案，所述主夹体上沿所述嵌入槽的延伸方向贯通形成有容纳孔，所述顶推组件包括可自转地设置于所述容纳孔中的螺杆，以及与所述螺杆螺接，且仅能沿所述容纳孔的轴线方向移动的螺套，所述螺套中靠近所述嵌入槽的一端连接有推板。

作为本实用新型的一种优选方案，所述螺杆上延伸连接有位于所述主夹体外部的转动把手，所述转动把手可自转地卡接于所述主夹体上；

所述螺套的外表面沿轴向方向延伸形成有凸条，所述容纳孔的内壁上形成有与所述凸条相配合的凹槽。

作为本实用新型的一种优选方案，所述推板的表面能够与所述嵌入槽的表面位于同一平面上。

作为本实用新型的一种优选方案，所述嵌入槽的表面凹陷形成有与所述推板相配合的嵌槽，所述推板能够嵌设于所述嵌槽中。

本实用新型的实施方式具有如下优点：

1、与传统方法中采用不锈钢丝对陪镀片进行装夹相比，本实用新型采用主夹体和挡板配合的方式对陪镀片进行装夹，可大幅提高生产效率，避免每次镀膜均需进行不锈钢丝绑定的操作。且本实用新型的技术方案对陪镀片(硅片)进行装夹时，仅需要将硅片放入其中即可，操作简易。

2、本实用新型中是采用嵌入槽作为主受力面，这样的接触受力方式对硅片而言无强受力点，因此，单晶硅片不会在安装过程中发生破碎的现象。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型的实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍。显而易见地，下面描述中的附图仅仅是示例性的，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据提供的附图引伸获得其它的实施附图。

本说明书所绘示的结构、比例、大小等，均仅用以配合说明书所揭示的内容，以供熟悉此技术的人士了解与阅读，并非用以限定本实用新型可实施的限定条件，故不具技术上的实质意义，任何结构的修饰、比例关系的改变或大小的调整，在不影响本实用新型所能产生的功效及所能达成的目的下，均应仍落在本实用新型所揭示的技术内容得能涵盖的范围内。

图1为本实用新型实施例提供的主夹体的侧视图；

图2是图1沿A-A方向上的剖视图；

图3是本实用新型实施例提供的挡板的侧视图；

图4是图3沿B-B方向上的剖视图；

图5是本实用新型实施例提供的其中一种陪镀片夹具的结构示意图；

图6是本实用新型实施例提供的另一陪镀片夹具的结构示意图。

图中：

1-主夹体；2-挡板；3-顶推组件；

11-嵌入槽；12-螺纹孔；13-容纳孔；

21-通孔；

31-螺杆；32-螺套；33-推板；34-转动把手。

具体实施方式

以下由特定的具体实施例说明本实用新型的实施方式，熟悉此技术的人士可由本说明书所揭露的内容轻易地了解本实用新型的其他优点及功效，显然，所描述的实施例是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

以下结合附图对本实用新型的具体实施例进行进一步的说明。

如图1-图6所示，本实用新型提供了一种用于立式真空镀膜的陪镀片夹具，包括主夹体1和挡板2两部分，均可以采用优质304不锈钢加工而成。如图1和图2所示，其中主夹体1的体积为L2*H2*D，其中心区域以一定的角度开出一个投影面积为L1*H1的嵌入槽11，嵌入槽11沿斜向延伸，且如图2所示，其倾斜面与竖直面之间形成有夹角α，且在嵌入槽11的左右下角分别有两个螺纹孔12。进一步地，螺纹孔12形成为盲孔，且螺纹孔12的内底面与嵌入槽11的内底面可以位于同一平面上，或螺纹孔12的内底面与嵌入槽11的内底面沿螺纹孔12的轴向方向的距离差值在设定范围内(即螺纹孔12的内底面与嵌入槽11的内底面在轴向上的落差不大)。如图3和图4所示，挡板2体积为L2*H3*d，左右两侧布有通孔21，通孔21的直径与螺纹孔12相关，并通过尺寸匹配的螺钉(即一种具体的连接件)将挡板2固定在嵌入槽11的下侧。

需要说明的是，这里的主夹体1和挡板2的尺寸与陪镀片的尺寸相关，本领域技术人员可以根据本领域常规技术手段针对性地进行尺寸的设计，在此不多作赘述。同时，为避免因高温而产生的热变形问题，D需大于8mm，d需大于2mm，H3与螺纹孔大小相关。α在10-30°之间。

以下以一种具体的实施例对各部件的尺寸大小进行进一步的解释和说明，当然，需要说明的是，本实用新型并不局限于以下具体数值，任意合适的参数设置在此均可以使用。具体地，若陪镀片的尺寸为30mm*30mm*2mm，主夹体1的体积可具体设置为60mm*60mm*10mm，嵌入槽11的投影面积为35mm*35mm，α为20°，挡板2体积为60mm*6mm*3mm。嵌入槽11的左右下角分别有两个M2的螺纹孔12，螺纹孔12的内底面与嵌入槽11的内底面位于同一平面上。挡板2左右两侧布有直径为2.5mm的通孔21，并通过螺钉将挡板2固定在嵌入槽11的下侧。夹具装配后，可直接将陪镀片放入嵌入槽11中，随意晃动夹具，陪镀片并未发生脱落，也无陪镀片破碎现象出现。

本实用新型基于上述设计，在真空镀膜过程中，单晶硅片(即陪镀片)可以直接插入嵌入槽11中，由于挡板2以及嵌入槽11的斜面设计，单晶硅片可以固定在嵌入槽11内部，不会从其中脱出。同时，由于整个陪镀片夹具中并无强受力点，单晶硅片不会在安装过程中发生破碎的现象。

进一步地，为了便于镀膜后将贴附于嵌入槽11中的陪镀片取出，如图6所示，还可以进一步设置顶推组件3，顶推组件3的移动端能够沿嵌入槽11的延伸方向移动，并能够通过移动位于嵌入槽11中，以从侧面(例如，以图6为例，则为从左至右)将陪镀片顶出，使得陪镀片与嵌入槽11分离。

具体的一种实施例中，顶推组件3可以具体包括以下结构：主夹体1上沿嵌入槽11的延伸方向贯通形成有容纳孔13，顶推组件3包括可自转地设置于容纳孔13中的螺杆31，以及与螺杆31螺接，且仅能沿容纳孔13的轴线方向移动的螺套32，螺套32中靠近嵌入槽11的一端连接有推板33。螺杆31上延伸连接有位于主夹体1外部的转动把手34，转动把手34可自转地卡接于主夹体1上；螺套32的外表面沿轴向方向延伸形成有凸条，容纳孔13的内壁上形成有与凸条相配合的凹槽。

通过上述设置，只需要手动旋转转动把手34，即可带动螺杆31自转，由于螺套32仅能沿轴向方向移动，因此，转动把手34的旋转即可实现螺套32沿左右方向的移动，并进而带动推板33的左右移动，从而实现嵌设于嵌槽中，或是离开嵌槽对陪镀片进行推动，使得陪镀片与嵌入槽11分离。

虽然，上文中已经用一般性说明及具体实施例对本实用新型作了详尽的描述，但在本实用新型基础上，可以对之作一些修改或改进，这对本领域技术人员而言是显而易见的。因此，在不偏离本实用新型精神的基础上所做的这些修改或改进，均属于本实用新型要求保护的范围。

Claims (10)

1.一种用于立式真空镀膜的陪镀片夹具，其特征在于，包括自其中一个侧面向内凹陷形成有嵌入槽(11)的主夹体(1)，以及连接于所述主夹体(1)上，且止挡所述嵌入槽(11)的至少一端的挡板(2)；其中，

所述嵌入槽(11)自其中一端至另一端倾斜延伸。

2.根据权利要求1所述的一种陪镀片夹具，其特征在于，所述嵌入槽(11)的其中一端形成为开放，所述挡板(2)位于所述嵌入槽(11)的另一端；且，

所述挡板(2)止挡至少部分所述主夹体(1)的侧面。

3.根据权利要求1或2所述的一种陪镀片夹具，其特征在于，所述主夹体(1)上至少部分贯穿形成有轴线与所述嵌入槽(11)的凹陷方向相平行的螺纹孔(12)，所述挡板(2)上对应形成有通孔(21)，所述螺纹孔(12)与所述通孔(21)通过连接件配合连接。

4.根据权利要求2所述的一种陪镀片夹具，其特征在于，所述嵌入槽(11)自开放端至另一端斜向外倾斜延伸；且，

倾斜面与竖直面之间的夹角为10°-30°。

5.根据权利要求2所述的一种陪镀片夹具，其特征在于，所述主夹体(1)中沿所述嵌入槽(11)的凹陷方向上的宽度不小于8mm，所述挡板(2)中沿所述嵌入槽(11)的凹陷方向上的宽度不小于2mm。

6.根据权利要求1或2所述的一种陪镀片夹具，其特征在于，所述主夹体(1)上还贯穿形成至少部分沿所述嵌入槽(11)的延伸方向可移动地设置的顶推组件(3)，且所述顶推组件(3)的移动端能够位于所述嵌入槽(11)中。

7.根据权利要求6所述的一种陪镀片夹具，其特征在于，所述主夹体(1)上沿所述嵌入槽(11)的延伸方向贯通形成有容纳孔(13)，所述顶推组件(3)包括可自转地设置于所述容纳孔(13)中的螺杆(31)，以及与所述螺杆(31)螺接，且仅能沿所述容纳孔(13)的轴线方向移动的螺套(32)，所述螺套(32)中靠近所述嵌入槽(11)的一端连接有推板(33)。

8.根据权利要求7所述的一种陪镀片夹具，其特征在于，所述螺杆(31)上延伸连接有位于所述主夹体(1)外部的转动把手(34)，所述转动把手(34)可自转地卡接于所述主夹体(1)上；

所述螺套(32)的外表面沿轴向方向延伸形成有凸条，所述容纳孔(13)的内壁上形成有与所述凸条相配合的凹槽。

9.根据权利要求7或8所述的一种陪镀片夹具，其特征在于，所述推板(33)的表面能够与所述嵌入槽(11)的表面位于同一平面上。

10.根据权利要求9所述的一种陪镀片夹具，其特征在于，所述嵌入槽(11)的表面凹陷形成有与所述推板(33)相配合的嵌槽，所述推板(33)能够嵌设于所述嵌槽中。

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