CN219141368U - 一种均匀烘干的单晶硅片烘干装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了单晶硅片烘干技术领域的一种均匀烘干的单晶硅片烘干装置，包括烘干箱，烘干箱内底部通过轴承连接设有转动杆，转轴另一端连接设有液压杆，液压杆一端连接设有压板，烘干箱内左侧壁铰接设有喷板，喷板右侧壁设有多组喷嘴，烘干箱内左侧壁铰接设有电动伸缩杆，电动伸缩杆一端与喷板左侧壁相铰接，烘干箱左侧壁设有过滤盒，本实用在两组滤孔不同的过滤网和活性炭吸附层的配合下能够对空气进行过滤净化，从而能够保证吹向单晶硅片的风更加干净，空气中的灰尘不会污染单晶硅片的，提高烘干洁净度，在电动伸缩杆的作用下能够对喷板进行转动，从而能够对喷嘴的倾斜角度进行改变，从而喷嘴喷风的方向能够进行改变，能够提高烘干效果。

Description

一种均匀烘干的单晶硅片烘干装置

技术领域

本实用新型涉及单晶硅片烘干技术领域，具体为一种均匀烘干的单晶硅片烘干装置。

背景技术

单晶硅片的纯度要求达到99.9999％，甚至达到99.9999999％以上，单晶硅片用于制造半导体器件、太阳能电池等，是用高纯度的多晶硅在单晶炉内拉制而成，单晶硅片在生产时需要进行清洗，清洗完成后需要对其进行烘干，但是现有烘干装置对单晶硅片的烘干的时候大多是带动单晶硅片进行旋转，然后利用喷嘴喷风的形式对单晶硅片进行均匀烘干，但是现有的喷嘴位置大多是固定设置的，从而喷出风的方向不方便进行调节，从而只能够同一方向对单晶硅片进行喷风烘干，烘干效果不佳，因此，需要一种均匀烘干的单晶硅片烘干装置。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种均匀烘干的单晶硅片烘干装置，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种均匀烘干的单晶硅片烘干装置，包括烘干箱，所述烘干箱内底部通过轴承连接设有转动杆，转动杆顶部设有圆盘，所述烘干箱内设有转轴，所述烘干箱顶部设有电机，所述电机输出端贯穿烘干箱顶部与转轴一端相连接，所述转轴另一端连接设有液压杆，所述液压杆一端连接设有压板，所述烘干箱内左侧壁铰接设有喷板，所述喷板右侧壁设有多组喷嘴，所述烘干箱内左侧壁铰接设有电动伸缩杆，所述电动伸缩杆一端与喷板左侧壁相铰接，所述烘干箱左侧壁设有过滤盒，所述过滤盒顶部设有抽风机，所述抽风机出风端与过滤盒内部相连通，所述过滤盒底部贯穿连通设有输风管，所述输风管一端贯穿烘干箱左侧壁与喷板内部相连通。

进一步的，所述过滤盒内设有两组过滤网，两组所述过滤网左右两侧分别与过滤盒内左右侧壁相连接，两组所述过滤网下方设有活性炭吸附层，所述活性炭吸附层左右两侧分别与过滤盒内左右侧壁相连接。

进一步的，两组所述过滤网从上到下滤孔依次减小。

进一步的，多组所述喷嘴在所述喷板右侧壁呈线性阵列分布。

进一步的，所述圆盘顶部开设有多组放置槽，多组所述放置槽在所述圆盘顶部呈环形阵列分布，所述压板底部开设有多组与放置槽相匹配的定位槽。

进一步的，所述烘干箱前侧壁铰接设有箱门，所述烘干箱右侧壁设有控制面板。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：本实用在电机、转动杆、压板和圆盘的配合下能够带动单晶硅片进行转动，然后在喷嘴的作用下喷风对单晶硅片进行均匀烘干，在两组滤孔不同的过滤网和活性炭吸附层的配合下能够对空气进行过滤净化，从而能够保证吹向单晶硅片的风更加干净，空气中的灰尘不会污染单晶硅片的，提高烘干洁净度，在电动伸缩杆的作用下能够对喷板进行转动，从而能够对喷嘴的倾斜角度进行改变，从而喷嘴喷风的方向能够进行改变，能够提高烘干效果。

附图说明

图1为本实用新型结构示意图；

图2为本实用新型A结构示意图；

图3为本实用新型结构主视图。

图中：1、烘干箱；2、控制面板；3、圆盘；4、放置槽；5、压板；6、液压杆；7、转轴；8、电机；9、抽风机；10、过滤盒；11、输风管；12、电动伸缩杆；13、喷板；14、喷嘴；15、过滤网；16、活性炭吸附层；17、箱门。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

实施例1：

请参阅图1-3，本实用新型提供一种技术方案：一种均匀烘干的单晶硅片烘干装置，包括烘干箱1，烘干箱1前侧壁铰接设有箱门17，烘干箱1右侧壁设有控制面板2，控制面板2能够对烘干装置整体进行控制，烘干箱1内底部通过轴承连接设有转动杆，转动杆顶部设有圆盘3，圆盘3顶部开设有多组放置槽4，放置槽4能够对单晶硅片的底部进行放置，多组放置槽4在圆盘3顶部呈环形阵列分布，压板5底部开设有多组与放置槽4相匹配的定位槽，在定位槽的作用下能够对单晶硅片的顶部进行定位，烘干箱1内设有转轴7，烘干箱1顶部设有电机8，电机8输出端贯穿烘干箱1顶部与转轴7一端相连接，转轴7另一端连接设有液压杆6，液压杆6一端连接设有压板5，压板5呈圆形状设置，且与圆盘3大小相同，烘干箱1内左侧壁铰接设有喷板13，喷板13右侧壁设有多组喷嘴14，多组喷嘴14在喷板13右侧壁呈线性阵列分布，多组喷嘴14能够更好的对单晶硅片进行喷风烘干，烘干箱1内左侧壁铰接设有电动伸缩杆12，电动伸缩杆12一端与喷板13左侧壁相铰接，烘干箱1左侧壁设有过滤盒10，过滤盒10顶部设有抽风机9，抽风机9出风端与过滤盒10内部相连通，过滤盒10底部贯穿连通设有输风管11，输风管11一端贯穿烘干箱1左侧壁与喷板13内部相连通。

请参阅图2，过滤盒10内设有两组过滤网15，两组过滤网15从上到下滤孔依次减小，能够更好的对空气中的灰尘进行过滤，两组过滤网15左右两侧分别与过滤盒10内左右侧壁相连接，两组过滤网15下方设有活性炭吸附层16，活性炭吸附层16左右两侧分别与过滤盒10内左右侧壁相连接。

工作原理：需要对单晶硅片进行烘干的时候，工作人员将单晶硅片依次放置在放置槽4内，然后在液压杆6的作用下带动压板5向下移动，压板5能够对单晶硅片进行压紧，在抽风机9的作用下能够将空气抽入到过滤盒10内，在两组滤孔不同的过滤网15的作用下能够对空气进行过滤，在活性炭吸附层16的作用下能够对空气进行净化，能够保证空气的洁净度，然后空气提高输风管11进入到喷板13内，然后在喷嘴14的作用下将空气喷出，从而能够对单晶硅片进行烘干，此时电机8带动转轴7进行转动，从而能够带动单晶硅片进行旋转，从而能够对单晶硅片进行均匀烘干，在电动伸缩杆12的作用下带动喷板13进行转动，从而能够对喷嘴14的倾斜角度进行调节，从而能够改变喷风的方向，能够提高多晶硅片的烘干效果。

尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。

Claims (6)

1.一种均匀烘干的单晶硅片烘干装置，包括烘干箱(1)，其特征在于：所述烘干箱(1)内底部通过轴承连接设有转动杆，转动杆顶部设有圆盘(3)，所述烘干箱(1)内设有转轴(7)，所述烘干箱(1)顶部设有电机(8)，所述电机(8)输出端贯穿烘干箱(1)顶部与转轴(7)一端相连接，所述转轴(7)另一端连接设有液压杆(6)，所述液压杆(6)一端连接设有压板(5)，所述烘干箱(1)内左侧壁铰接设有喷板(13)，所述喷板(13)右侧壁设有多组喷嘴(14)，所述烘干箱(1)内左侧壁铰接设有电动伸缩杆(12)，所述电动伸缩杆(12)一端与喷板(13)左侧壁相铰接，所述烘干箱(1)左侧壁设有过滤盒(10)，所述过滤盒(10)顶部设有抽风机(9)，所述抽风机(9)出风端与过滤盒(10)内部相连通，所述过滤盒(10)底部贯穿连通设有输风管(11)，所述输风管(11)一端贯穿烘干箱(1)左侧壁与喷板(13)内部相连通。

2.根据权利要求1所述的一种均匀烘干的单晶硅片烘干装置，其特征在于：所述过滤盒(10)内设有两组过滤网(15)，两组所述过滤网(15)左右两侧分别与过滤盒(10)内左右侧壁相连接，两组所述过滤网(15)下方设有活性炭吸附层(16)，所述活性炭吸附层(16)左右两侧分别与过滤盒(10)内左右侧壁相连接。

3.根据权利要求2所述的一种均匀烘干的单晶硅片烘干装置，其特征在于：两组所述过滤网(15)从上到下滤孔依次减小。

4.根据权利要求1所述的一种均匀烘干的单晶硅片烘干装置，其特征在于：多组所述喷嘴(14)在所述喷板(13)右侧壁呈线性阵列分布。

5.根据权利要求1所述的一种均匀烘干的单晶硅片烘干装置，其特征在于：所述圆盘(3)顶部开设有多组放置槽(4)，多组所述放置槽(4)在所述圆盘(3)顶部呈环形阵列分布，所述压板(5)底部开设有多组与放置槽(4)相匹配的定位槽。

6.根据权利要求1所述的一种均匀烘干的单晶硅片烘干装置，其特征在于：所述烘干箱(1)前侧壁铰接设有箱门(17)，所述烘干箱(1)右侧壁设有控制面板(2)。

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