CN219064159U - 一种适用于真空镀碳炉的匀气装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及匀气装置领域，具体为一种适用于真空镀碳炉的匀气装置，包括两个平行布置的气管，所述气管一端均封闭，所述气管另一端均与分气罐连通，所述气管的侧壁上均匀分布有出气孔，且其中一所述气管侧壁上的出气孔所在位置与另一所述气管的位置错开。气管上均匀分布有出气孔将气体均匀分散，充满整个空间。位于腔体内的工件表面能够相对的，更加均匀的覆盖镀层。并且由于气体扩散较快、较为均匀，不易出现由于工件位置不同而导致的表面镀层出现较厚或较薄的情况，从而使得镀层加工成型时间短，通气量小，且镀层厚度更易把控。有效解决了现有真空镀碳时间长，通气量和镀层物料用量大，以及镀层质量难以把控的技术问题。

Description

一种适用于真空镀碳炉的匀气装置

技术领域

本实用新型涉及匀气装置领域，具体为一种适用于真空镀碳炉的匀气装置。

背景技术

真空镀碳生产过程中需要将含有镀层物料的气体均匀的送至镀料空间中，以充满整个腔体，以形成腔体空间。但是目前的真空镀碳设备是直接通过气孔将气体排放至空腔内部，导致靠近气孔处的工件表面镀层较厚，而远离气孔处的镀层较薄，甚至镀层不完整。因此，需要较长时间的通气，并且镀层物料用量大，导致浪费。

实用新型内容

为解决现有真空镀碳时间长，通气量和镀层物料用量大的技术问题，以实现均匀通气，以及工件表面镀层均匀目的，本实用新型通过以下技术方案予以实现：

一种适用于真空镀碳炉的匀气装置，包括两个平行布置的气管，所述气管一端均封闭，所述气管另一端均与分气罐连通，所述气管的侧壁上均匀分布有出气孔，且其中一所述气管侧壁上的出气孔所在位置与另一所述气管的位置错开。

进一步的，所述气管远离分气罐的一端焊接有封闭端口的封板。

进一步的，所述气管之间设有加强件，所述加强件上设有用于固定的槽口。

进一步的，所述气管靠近所述分气罐所在的位置处依次设有气管支撑件和法兰。

进一步的，所述气管通过所述法兰与配套设备密封连接。

进一步的，所述气管的材质为不锈钢。

进一步的，所述分气罐上设有供料管，且分气罐通过所述供料管与供料装置连通。

进一步的，所述出气孔为喇叭形。

本实用新型提供了一种适用于真空镀碳炉的匀气装置。具备以下有益效果：

在原有的直接通气的基础上增加了分气罐和气管，通过供料管将气体送入分气罐中，再由气管输入真空镀碳设备内，气管上均匀分布有出气孔将气体均匀分散，充满整个空间。位于腔体内的工件表面能够相对的，更加均匀的覆盖镀层。并且由于气体扩散较快、较为均匀，不易出现由于工件位置不同而导致的表面镀层出现较厚或较薄的情况，从而使得镀层加工成型时间短，通气量小，且镀层厚度更易把控。有效解决了现有真空镀碳时间长，通气量和镀层物料用量大，以及镀层质量难以把控的技术问题。

附图说明

图1为一种适用于真空镀碳炉的匀气装置中的一个实施方式的端面视图；

图2为图1中A-A处的剖视图；

图3为实施例中的气管喷气方位示意图。

图中：1、气管；2、分气罐；3、出气孔；4、封板；5、加强件；6、槽口；7、气管支撑件；8、法兰；9、供料管。

具体实施方式

以下结合附图对本发明实施例的具体实施方式进行详细说明。应当理解的是，此处所描述的具体实施方式仅用于说明和解释本发明实施例，并不用于限制本发明实施例。

实施例一：

结合附图，一种适用于真空镀碳炉的匀气装置可以包括：气管1、分气罐2、出气孔3。其中，气管1一端封闭，另一端均与分气罐2连通，且数量优选为两个，根据设备内部空间大小，也可设置为多个，气管1的侧壁上均匀分布有出气孔3，且其中一气管1侧壁上的出气孔3所在位置与另一气管1的位置错开。具体的，在真空工作环境下，含镀层物料的气体通过气管1上的出气孔3均匀分散到腔体内，而位于腔体内的工件表面能够相对的，更加均匀的覆盖镀层。并且由于气体扩散较快、较为均匀，不易出现由于工件位置不同而导致的表面镀层出现较厚或较薄的情况，从而使得镀层加工成型时间短，通气量小，且镀层厚度更易把控。有效解决了现有真空镀碳时间长，通气量和镀层物料用量大，以及镀层质量难以把控的技术问题。

气管1封闭的一端采用封板4进行焊接，以保证气管1端部封闭。当然在必要时也可在封板4上开设通孔用于排气。

在本实施方式中，气管1靠近分气罐2所在的位置处依次设有气管支撑件7和法兰8。气管支撑件7用于对气管1的整体进行支撑和位置固定，确保气管1在镀层加工腔中的位置不发生改变。而法兰8的设置是方便气管1与配套设备密封连接，例如可通过法兰8直接与分气罐2密封连接，当然，也可以将气管1的开口端与分气罐2焊接。优选地，气管1通过法兰8与配套设备密封连接。

在本实施方式中，气管1的材质为不锈钢。由于真空镀层是在超高真空、高温环境下进行的，因此，采用不锈钢材质的气管1能够在这种环境下稳定工作，而不易出现变形、损害。

此外，分气罐2上设有供料管9，且分气罐2通过供料管9与供料装置连通。传统的供气都是直接由供料管9向设备内部供气，而供料管9先与分气罐2连通，在通过分气罐2与两个气管1连通。

实施例二：

基于实施例一中的结构，还可以在气管1之间设有加强件5，加强件5上设有用于固定的槽口6。由于气管1伸入镀层加工腔的部分较长，为避免气管1布置不牢，以及单根气管1结构强度不高的问题，在两个气管1伸至镀层加工腔的部分之间焊接加强件5，使得两个气管1构成整体。此外，加强件5上的槽口6也便于螺栓将加强件5以及气管1的位置固定。

如图3所示，所述出气孔3为喇叭形，有一定角度的斜面，其内侧壁孔径较小，外侧壁孔径较大，可以将气体扩散，带有箭头虚线为气路走向。

本申请的技术方案，在原有的直接通气的基础上增加了分气罐2和气管1，通过供料管9将气体送入分气罐2中，再由气管1输入真空镀碳设备内，气管1上均匀分布有出气孔3将气体均匀分散，充满整个空间。位于腔体内的工件表面能够相对的，更加均匀的覆盖镀层。并且由于气体扩散较快、较为均匀，不易出现由于工件位置不同而导致的表面镀层出现较厚或较薄的情况，从而使得镀层加工成型时间短，通气量小，且镀层厚度更易把控。

以上结合附图详细描述了本发明的优选实施方式，但是，本发明并不限于此。在本发明的技术构思范围内，可以对本发明的技术方案进行多种简单变型，包括各个具体技术特征以任何合适的方式进行组合。为了避免不必要的重复，本发明对各种可能的组合方式不再另行说明。但这些简单变型和组合同样应当视为本发明所公开的内容，均属于本发明的保护范围。

Claims (8)

1.一种适用于真空镀碳炉的匀气装置，其特征在于，包括两个平行布置的气管(1)，所述气管(1)一端均封闭，所述气管(1)另一端均与分气罐(2)连通，所述气管(1)的侧壁上均匀分布有出气孔(3)，且其中一所述气管(1)侧壁上的出气孔(3)所在位置与另一所述气管(1)的位置错开。

2.根据权利要求1所述的一种适用于真空镀碳炉的匀气装置，其特征在于：所述气管(1)远离分气罐(2)的一端焊接有封闭端口的封板(4)。

3.根据权利要求2所述的一种适用于真空镀碳炉的匀气装置，其特征在于：所述气管(1)之间设有加强件(5)，所述加强件(5)上设有用于固定的槽口(6)。

4.根据权利要求2所述的一种适用于真空镀碳炉的匀气装置，其特征在于：所述气管(1)靠近所述分气罐(2)所在的位置处依次设有气管支撑件(7)和法兰(8)。

5.根据权利要求4所述的一种适用于真空镀碳炉的匀气装置，其特征在于：所述气管(1)通过所述法兰(8)与配套设备密封连接。

6.根据权利要求1-5任意一项所述的一种适用于真空镀碳炉的匀气装置，其特征在于：所述气管(1)的材质为不锈钢。

7.根据权利要求1所述的一种适用于真空镀碳炉的匀气装置，其特征在于：所述分气罐(2)上设有供料管(9)，且分气罐(2)通过所述供料管(9)与供料装置连通。

8.根据权利要求1或6所述的一种适用于真空镀碳炉的匀气装置，其特征在于：所述出气孔(3)为喇叭形。

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