CN219052217U - 一种适用于电控盒生产装置的水冷清洗系统 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及数控机床技术领域，尤指一种适用于电控盒生产装置的水冷清洗系统；所述清洗系统安装于一种电控盒的生产装置上，所述清洗系统包括U型环喷、过滤水箱、水泵、控制阀组件、PLC控制系统和若干管路；所述PLC控制系统分别与水泵和控制阀组件相连接；所述水泵通过管路分别与U型环喷和过滤水箱相连通；所述控制阀组件安装于管路上；所述的生产装置内设有集液槽，所述集液槽设于U型环喷下方；所述集液槽设有与过滤水箱相对应的排液口。具有清洁强度高、冷却效果好、稳定性强和循环清洗的特点。

Description

一种适用于电控盒生产装置的水冷清洗系统

技术领域

本实用新型涉及数控机床技术领域，尤指一种适用于电控盒生产装置的水冷清洗系统。

背景技术

在大部分装置中都设置有集成的电控板，该电控板用于控制电器的正常运行。通常为了保护电控板，会将电控板装在一个盒子里，该盒子称为电控盒。在现有技术中，传统电控盒生产装置的清洗系统清洗力度不够，生产出来的产品往往需要繁杂的多次清理才能清理干净，同时在加工过程中清洗力度不够，导致碎屑被清理的不及时影响加工作业进行；冷却效果不好，不利于长时间的加工作业；存在较大安全隐患不利于作业安全，同时不够环保。

实用新型内容

为了克服现有技术中的不足，本实用新型旨在现有技术中进行突破创新，提供一种适用于电控盒生产装置的水冷清洗系统，具有清洁强度高、冷却效果好、稳定性强和循环清洗的特点。

为实现上述目的，本实用新型采用的技术方案是：一种适用于电控盒生产装置的水冷清洗系统，所述清洗系统安装于一种电控盒的生产装置上；所述清洗系统包括U型环喷、过滤水箱、水泵、控制阀组件、PLC控制系统和若干管路；所述PLC控制系统分别与水泵和控制阀组件相连接；所述水泵通过管路分别与U型环喷和过滤水箱相连通；所述控制阀组件安装于管路上；所述的生产装置内设有集液槽，所述集液槽设于U型环喷下方；所述集液槽设有与过滤水箱相对应的排液口。

进一步地，所述过滤水箱包括过滤组件、液位控制器和水箱底座；所述水箱底座内设有储液槽，所述水箱底座上表面两端分别开设有储液口；所述储液口开口处设有两条支撑块；所述过滤组件为两组，分别安装于水箱底座两端储液口的支撑块上；所述过滤组件和水箱底座可拆卸式连接；所述液位控制器安装于水箱底座左侧。

进一步地，所述过滤组件包括第一过滤槽和第二过滤槽；所述第一过滤槽设于第二过滤槽内；所述第一过滤槽和第二过滤槽可拆卸式连接。

进一步地，所述第一过滤槽表面设有若干个过滤孔，两侧上端设有把手；所述第二过滤槽内底面的前端设有若干过滤孔，后端设有限位块；所述第二过滤槽前侧和后侧分别设有扶手。

进一步地，所述水箱底座的后端设有出液口；所述储液口通过管路与水泵相连通。

进一步地，所述控制阀组件包括调节阀、止回阀和自动排气阀。

进一步地，所述水泵连通U型环喷的管路上设有调节阀、止回阀和自动排气阀；所述水泵连通过滤水箱的管路上设有止回阀。

进一步地，所述U型环喷上方设有连接件，下方设有若干个喷头；所述喷头的喷口向内弯曲；所述U型环喷通过连接件与生产装置相连接。

本实用新型的有益效果体现在：

第一、清洁强度高，冷却效果好，用U型环喷结构，U型环喷上设有若干个喷头。喷头的喷口均向内弯曲，形成环绕对点集中喷射效果，有效增加了清洗力度和冷却效果。

第二、稳定性强，采用PLC控制系统对控制阀组件和水泵进行系统控制，保证清洗液输入输出的稳定流速；同时控制阀组件设有若干阀门，包括调节阀、止回阀和自动排气阀，止回阀防止防止清洗液回流，自动排气阀防止清洗系统中产生气体影响清洗系统运作，为清洗系统的稳定运行提供保障。

第三、循环清洗，可对清洗液体进行循环利用，清洗作业时，清洗液体从U型环喷中喷出，流入至集液槽，再通过排液口流入过滤水箱；在过滤水箱中通过过滤组件将加工过程中的碎屑过滤出来，清洗液体流入储液槽；水泵将储液槽内的清洗液体再次运输至U型环喷，实现清洗液体的循环利用，有利于节约资源。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其它的附图。

图1是本实用新型中清洗系统的流程示意图。

图2是本实用新型中清洗系统的U型环喷立体结构示意图。

图3是本实用新型中清洗系统的过滤水箱立体结构示意图。

图4是本实用新型中清洗系统的过滤水箱后视结构示意图。

图5是本实用新型中清洗系统的水箱底座立体结构示意图。

图6是本实用新型中清洗系统的第二过滤槽立体结构示意图。

附图标注说明：1-U型环喷、2-过滤水箱、3-水泵、4-控制阀组件、5-PLC控制系统、6-集液槽、11-连接件、12-喷头、21-过滤组件、22-液位控制器、23-水箱底座、211-第一过滤槽、212-第二过滤槽、213-过滤孔、2111-把手、2121-限位块、2122-扶手、231-储液槽、232-储液口、233-出液口、2321-支撑块。

具体实施方式

下面将结合附图对本申请实施例的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本申请实施例一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本申请实施例中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请实施例保护的范围。

在本申请实施例的描述中，需要说明的是，术语“中心”、“上”、“下”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请实施例和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请实施例的限制。

在本申请实施例的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可更换连接，或一体地连接，可以是机械连接，也可以是电连接，可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本申请实施例中的具体含义。

本申请实施例公开了一种新型水冷清洗系统，尤指一种适用于电控盒生产装置的水冷清洗系统。

如图1-6所示，本申请实施例中提供的一种适用于电控盒生产装置的水冷清洗系统，清洗系统安装于一种电控盒的生产装置上，清洗系统包括U型环喷1、过滤水箱2、水泵3、控制阀组件4、PLC控制系统5和若干管路。

U型环喷1清洗系统中的清洗液体输出部件；过滤水箱2为清洗系统中清洗液体的承载部件及过滤部件，将加工所产生的的碎屑过滤出来；水泵3为清洗系统的动力源件，为清洗提供动力；控制阀组件4为调节控制部件，控制控制清洗液体的喷出及停止等；PLC控制系统5为清洗系统的控制中枢，负责控制系统的运作，向控制阀组件4和水泵3发出指令。

PLC控制系统5分别与水泵3和控制阀组件4相连接，作为系统的控制中枢下达指令；水泵3通过管路分别与U型环喷1和过滤水箱2相连通；控制阀组件4安装于管路上；生产装置内设有集液槽6，集液槽6设于U型环喷1下方，当U型环喷1进行清洗液体喷出后，顺流至集液槽6；集液槽6设有与过滤水箱2相对应的排液口，清洗液体通过排液口流出至过滤水箱2。

过滤水箱2包括过滤组件21、液位控制器22和水箱底座23；水箱底座23内设有储液槽231，水箱底座23上表面两端分别开设有储液口232，水箱底座23可作为清洗液体的储存部件，通过储液槽231储存清洗液体；储液口232开口处设有两条支撑块2321；过滤组件21为两组，分别安装于水箱底座23两端储液口232的支撑块2321上；过滤组件21可过滤加工作业中产生的碎屑，使清洗液体顺着储液口232流入至水箱底座23内的储液槽231；过滤组件21和水箱底座23可拆卸式连接，可将过滤组件21拆出将过滤出的碎屑倾倒掉；液位控制器22安装于水箱底座23左侧；液位控制器22可监控储液的含量，防止清洗液体不足无法实现清洗冷却效果和防止液体含量过多造成液体溢出。

过滤组件21包括第一过滤槽211和第二过滤槽212；第一过滤槽211设于第二过滤槽212内；第一过滤槽211和第二过滤槽212可拆卸式连接。第一过滤槽211表面设有若干个过滤孔213，两侧上端设有把手2111，可通过过滤孔213将加工所产生的的碎屑过滤出来，再通过把手2111将第一过滤槽211取出，将碎屑进行倾倒处理；第二过滤槽212内底面的前端设有若干过滤孔213，后端设有限位块2121，第一过滤槽211安装与第二过滤槽212内的前端有若干过滤孔213处，限位块2121可将第一过滤槽211的位置限定，防止清洗液体通过排液口流出时第一过滤的位置发生偏移导致无法实现过滤；第二过滤槽212前侧和后侧分别设有扶手2122，可通过扶手2122将第二过滤槽212取出，便于后续的清理工作。

水箱底座23设有后端设有出液口233；储液口232通过管路与水泵3相连通。在PLC控制系统5的指令下，水泵3通过管路从出液口233将清洗液体从过滤水箱2中抽取出来，进入到清洗系统中，进行清洗作业。

控制阀组件4包括调节阀、止回阀和自动排气阀。调节阀控制清洗液体的流量大小，止回阀防止清洗液体回流，自动排气阀防止清洗系统中产生气体影响清洗系统运作，为清洗系统的稳定运行提供保障；水泵3连通U型环喷1的管路上设有调节阀、止回阀和自动排气阀；水泵3连通过滤水箱2的管路上设有止回阀。

U型环喷1上方设有连接件11，下方设有若干个喷头12；喷头12的喷口向内弯曲，形成环绕对点集中喷射效果，有效增加了清洗力度和冷却效果；U型环喷1通过连接件11与生产装置相连接。

工作原理：当生产装置运行时，PLC控制系统5下达指令，控制水泵3将清洗液体从过滤水箱2中抽出，清洗液体进入清洗系统，输送至U型环喷1；PLC控制系统5下达指令，控制阀组件4控制清洗液体的流量大小，将清洗液体通过U型环喷1喷出，对正在加工作业的材料进行清洗冷却，清洗液体与加工作业过程中产生的碎屑一同流入集液槽6，再通过集液槽6的排液口流出，进入到过滤水箱2；在过滤水箱2中，清洗液体和碎屑先进入过滤组件21，通过过滤组件21将碎屑过滤出来，然后清洗液体流入水箱底座23的储液槽231；重复上述过程，实现清洗液体的循环利用；在生产装置的运行过程中，控制阀组件4的止回阀和自动排气阀保障清洗过程的稳定性；等生产装置运行停止后，清洗系统也停止运作，此时可将第一过滤槽211取出，倾倒过滤出的碎屑。

以上所述，仅是本实用新型的较佳实施例，并非对本实用新型的技术范围作任何限制，本行业的技术人员，在本技术方案的启迪下，可以做出一些变形与修改，凡是依据本实用新型的技术实质对以上的实施例所作的任何修改、等同变化与修饰，均仍属于本实用新型技术方案的范围内。

Claims (8)

1.一种适用于电控盒生产装置的水冷清洗系统，所述清洗系统安装于一种电控盒的生产装置上，其特征在于：所述清洗系统包括U型环喷、过滤水箱、水泵、控制阀组件、PLC控制系统和若干管路；

所述PLC控制系统分别与水泵和控制阀组件相连接；

所述水泵通过管路分别与U型环喷和过滤水箱相连通；

所述控制阀组件安装于管路上；

所述的生产装置内设有集液槽，所述集液槽设于U型环喷下方；

所述集液槽设有与过滤水箱相对应的排液口。

2.根据权利要求1所述的一种适用于电控盒生产装置的水冷清洗系统，其特征在于：所述过滤水箱包括过滤组件、液位控制器和水箱底座；

所述水箱底座内设有储液槽，所述水箱底座上表面两端分别开设有储液口；

所述储液口开口处设有两条支撑块；

所述过滤组件为两组，分别安装于水箱底座两端储液口的支撑块上；

所述过滤组件和水箱底座可拆卸式连接；

所述液位控制器安装于水箱底座左侧。

3.根据权利要求2所述的一种适用于电控盒生产装置的水冷清洗系统，其特征在于：所述过滤组件包括第一过滤槽和第二过滤槽；

所述第一过滤槽设于第二过滤槽内；

所述第一过滤槽和第二过滤槽可拆卸式连接。

4.根据权利要求3所述的一种适用于电控盒生产装置的水冷清洗系统，其特征在于：所述第一过滤槽表面设有若干个过滤孔，两侧上端设有把手；

所述第二过滤槽内底面的前端设有若干过滤孔，后端设有限位块；

所述第二过滤槽前侧和后侧分别设有扶手。

5.根据权利要求2所述的一种适用于电控盒生产装置的水冷清洗系统，其特征在于：所述水箱底座的后端设有出液口；

所述储液口通过管路与水泵相连通。

6.根据权利要求1所述的一种适用于电控盒生产装置的水冷清洗系统，其特征在于：所述控制阀组件包括调节阀、止回阀和自动排气阀。

7.根据权利要求1所述的一种适用于电控盒生产装置的水冷清洗系统，其特征在于：所述水泵连通U型环喷的管路上设有调节阀、止回阀和自动排气阀；

所述水泵连通过滤水箱的管路上设有止回阀。

8.根据权利要求1所述的一种适用于电控盒生产装置的水冷清洗系统，其特征在于：所述U型环喷上方设有连接件，下方设有若干个喷头；

所述喷头的喷口向内弯曲；

所述U型环喷通过连接件与生产装置相连接。

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