CN218845194U - 气体分流装置 - Google Patents
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- 238000009826 distribution Methods 0.000 claims abstract description 45
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 claims abstract description 21
- 238000005452 bending Methods 0.000 claims description 9
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract description 9
- 230000002950 deficient Effects 0.000 abstract description 3
- 230000008859 change Effects 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 230000008569 process Effects 0.000 description 3
- 238000003466 welding Methods 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 1
- 238000003780 insertion Methods 0.000 description 1
- 230000037431 insertion Effects 0.000 description 1
- 238000004518 low pressure chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 1
- 238000000623 plasma-assisted chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 238000004080 punching Methods 0.000 description 1
- 230000008707 rearrangement Effects 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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Abstract
本实用新型属于气体输送技术领域,公开了一种气体分流装置,该装置包括变径接头,变径接头一端与气源相连,变径接头的另一端的连接有分流盘,分流盘上设置有若干第一通行孔,气体分流装置还包括分流管,分流管的第一端与分流盘上的第一通行孔相连。通过变径接头、分流盘和分流管能够使分流管的进气端与进气口的位置相同,从而使气体进入到分流管时的流量均匀,避免进气端距离进气口不同造成的气体流量不同,从而降低生产产品的不良率,提高生产效率。
Description
技术领域
本实用新型涉及气体输送技术领域,尤其涉及一种气体分流装置。
背景技术
半导体或光伏材料广泛应用于电子、新能源等行业,半导体和光伏材料通常都需要经过各种加工处理后才能够应用到产品上,例如太阳能电池片使用LPCVD、PECVD等方式镀膜,将片状材料送入反应腔室中,在一定温度、压力、工艺气体等条件下进行反应来获得所需产品,因此通入工艺气体需要用到进气管道。在现有技术中,工艺气体采用进气管道打孔分流的方式,此方式分流不均匀,出气口离进气口近的气体流量大,而离进气口远的出气口气体流量小,因此会导致产品质量参差不齐,返工率高,影响生产效率。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种气体分流装置,通过变径接头、分流盘和分流管能够使气体在进入到分流管时流量均匀,从而降低生产产品的不良率,提高生产效率。
为达此目的,本实用新型采用以下技术方案:
气体分流装置,包括:
分流盘,所述分流盘上设置有若干第一通行孔;
变径接头,所述变径接头的一端与所述分流盘相连;所述变径接头的另一端与气源相连;
分流管,所述分流管的第一端与所述分流盘上的所述第一通行孔相连。
作为优选,还包括外管,所述外管的两端均设有所述分流盘,所述外管与所述变径接头的尺寸较大的一端连接,所述分流管的第一端穿过设置于所述外管第一端的所述分流盘上的所述第一通行孔,并与设置于所述外管第二端的所述分流盘上的所述第一通行孔相连。
作为优选,靠近所述变径接头的所述分流盘深入到所述外管的管内,以在所述分流盘与所述变径接头之间形成气体缓冲区。
作为优选,至少两根所述分流管的长度不相同。
作为优选,所述分流管的长度与其管内尺寸成正比。
作为优选,所述分流管的出气端设有出气阀。
作为优选,在位于所述气体缓冲区内设置有转盘,所述转盘上设置有与所述分流盘上所述第一通行孔相对应的转盘孔,所述转盘与靠近所述气体缓冲区的所述分流盘抵接,所述转盘上设置有与外部驱动设备连接的转轴。
作为优选,所述分流管的第二端设置有弯折部,且至少两根所述分流管的弯折部的弯折方向不相同。
作为优选,还包括进气管,所述进气管的一端连接在所述变径接头的尺寸较小的一端,另一端与外部气源连接。
作为优选,还具有支架,所述支架包括安置板,所述安置板上设有第二通行孔,所述分流管穿设于所述第二通行孔。
作为优选,所述支架上设置有支撑板,所述支撑板与所述安置板互相垂直;所述支撑板上具有固定孔,所述支撑板通过固定孔与外部连接。
本实用新型的有益效果:
通过变径接头、分流盘和分流管能够使分流管的进气端与进气口的位置相同,从而使气体进入到分流管时的流量均匀,避免进气端距离进气口不同造成的气体流量不同,从而降低生产产品的不良率,提高生产效率。
附图说明
图1是本实用新型气体分流装置的结构示意图;
图2是本实用新型气体分流装置的剖视图;
图3是本实用新型气体分流装置显示气体缓冲区的结构示意图;
图4是图3中的A、B、C、D、E、F处的分流管截面示意图;
图5是本实用新型气体分流装置中分流管端部安装出气阀的示意图;
图6是本实用新型气体分流装置的分流盘的示意图;
图7是本实用新型气体分流装置中气体缓冲区设置转盘的示意图;
图8是本实用新型气体分流装置转盘上的转盘孔与第一通行孔交错状态下的示意图。
图中:
1-进气管;2-变径接头;3-分流盘;31-第一通行孔;4-外管;41-气体缓冲区;5-分流管;51-弯折部;6-支架;61-安置板;611-第二通行孔;62-支撑板;621-固定孔;7-出气阀;8-转盘;81-转盘孔;82-转轴。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本实用新型作进一步的详细说明。可以理解的是,此处所描述的具体实施例仅仅用于解释本实用新型,而非对本实用新型的限定。另外还需要说明的是,为了便于描述,附图中仅示出了与本实用新型相关的部分而非全部结构。
在本实用新型的描述中,除非另有明确的规定和限定,术语“相连”、“连接”、“固定”应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或成一体;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连,可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系。对于本领域的普通技术人员而言,可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。
在本实用新型中,除非另有明确的规定和限定,第一特征在第二特征之“上”或之“下”可以包括第一和第二特征直接接触,也可以包括第一和第二特征不是直接接触而是通过它们之间的另外的特征接触。而且,第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”包括第一特征在第二特征正上方和斜上方,或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”包括第一特征在第二特征正下方和斜下方,或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。
在本实施例的描述中,术语“上”、“下”、“左”、“右”、等方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述和简化操作,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本实用新型的限制。此外,术语“第一”、“第二”仅仅用于在描述上加以区分,并没有特殊的含义。
如图1-8所示,本实施例提供一种气体分流装置,该装置包括变径接头2,变径接头2的一端与分流盘3相连;变径接头2的另一端与气源相连,分流盘3上设置有若干第一通行孔31,气体分流装置还包括分流管5,本实施例中分流管5采用的圆管,以方便进行安装,分流管5的第一端与分流盘3上的第一通行孔31连通。通过变径接头2和分流盘3能够使气体进入到分流管5的流量均匀,从而降低生产产品的不良率,提高生产效率。
下面详细介绍本实用新型,如图1-8所示,气体分流装置包括变径接头2,变径接头2尺寸较小的一端连接有外部气源,具体的,气体分流装置包括进气管1,进气管1的一端连接在变径接头2的尺寸较小的一端,另一端与外部气源连接,本实施例中,进气管1与变径接头2焊接连接,变径接头2的尺寸较大的一端设有分流盘3,一方面能够使分流盘3上能够承载更多的分流管5,同时也使气体的分配更加的均匀。分流盘3上设置有若干均匀分布的第一通行孔31,分流管5的第一端与第一通行孔31相连。本实施例中变径接头2采用漏斗形,由此可以增大变径接头2一端的出气面积,同时也能够容纳更多的分流管5。具体的,如图3所示,气体分流装置包括外管4,分流盘3设在外管4的两端部,本实施例中,分流盘3与外管4焊接连接。分流管5的第一端穿过设置于外管4第一端的分流盘3上的第一通行孔31,并与设置于外管4第二端的分流盘3上的第一通行孔31相连,需要说明的是,本实施例中,分流管5的第一端可以与外管4第二端的分流盘3上的第一通行孔31焊接相连以防止漏气,其他实施例中可以采用密封插接。外管4与变径接头2的尺寸较大的一端连接,以通过外管4固定分流管5,防止分流管5散开。进一步地,靠近变径接头2的分流盘3深入到外管4的管内,本实施例中指的即是位于外管4第二端的分流盘3,以在分流盘3与变径接头2之间形成气体缓冲区41。气体缓冲区41能够使气体在进入到分流管5前进行缓冲,避免分流管5离变径接头2的尺寸较小的一端距离过近,导致分布于外周分流管5的气量小于处于内侧的分流管5的气量,使气体进入到分流管5内的流量一致;另一方面外管4的设置也能避免分流盘3固定时重复焊接导致的形变,即外管4作为焊接缓冲的作用以方便焊接。
进一步地,至少两根分流管5的长度不相同,避免分流管5长度相同导致的气体汇集一处,使该处气体没浓度高,无分流管5处气体浓度低,导致气体浓度大的区域持续反应,并集中附于硅片表面使薄膜呈现颗粒状,降低薄膜质量。更进一步地,可以采用任意两个分流管5的长度不相同,能够为使用提供更多的选择。为了更平衡的控制各个分流管5的气体均匀度,本实施例中,分流管5的长度与其管内尺寸成正比,即靠近进气管1进口的分流管5的管内尺寸小于远离进气管1进口的分流管5的管内尺寸,如图4所示,本实施例抽选A、B、C、D、E、F进行比较示出,分流管5内设置堵块以改变分流管5的管内尺寸,堵块与分流管5一体成型设置,而每根分流管5的具体尺寸则可以根据使用场景进行前期的规划设计。如图5所示,而其他实施例中,也可不改变分流管5的管内尺寸,在分流管5的出气端安装出气阀7以平衡的控制各个分流管5的气体均匀度,出气阀7可以选用电磁阀,可以理解的是,电磁阀通过电控控制系统进行控制,当气体经分流管5输送前,出气阀7关闭,开始输送后,当气体输送至最长的分流管5的端口时,最长的分流管5上的出气阀7打开送气,与此同时比该管短的分流管5的出气阀7同步打开送气,以平衡的控制各个分流管5的气体均匀度。
其他实施例中,在位于气体缓冲区41内也设置有转盘8,转盘8上设置有与第一通行孔31相对应的转盘孔81,转盘8与靠近气体缓冲区41的分流盘3抵接,转盘中部设置有转轴82,转轴82连接外部的驱动装置(连接驱动装置的部分为现有技术,此处不在进行赘述),需要说明的是,转盘8能够相对于靠近气体缓冲区41的分流盘3转动,当转盘8上的转盘孔81与分流盘3的第一通行孔31同轴时气体通过两最大,当进行转盘8的转动时,转盘孔81与能够调节第一通行孔31交错从而改变过气时的孔径大小,由此可以改变气体的输气浓度,进一步地,可以在每个分流管5的端部设置气压传感器(图中未示出),通过气压传感器可以测量每个出气口出的气压状况,根据气压状况调节转盘8的转动角度,从而平衡各个出口的气体量。
进一步地,分流管5的第二端设置有弯折部51,并且至少两根分流管5的弯折部51的弯折方向不相同。更进一步地,可以采用任意两根分流管5的弯折部51的弯折方向不相同,使分流气体分流装置能够为不同方向、不同位置进行供气,为不同的生产环境提供多种供气选择。
进一步地,气体分流装置具有支架6,需要说明的是,本实施例中,支架6的数量可以为多个,沿分流管5的长度方向上间隔设置。支架6包括安置板61,安置板61上设有第二通行孔611,分流管5穿设于第二通行孔611,以能够为较长的分流管5进行支撑固定,避免较长的分流管5在端部散开,避免分流管5不稳固甚至出现破损。为了能够更加稳固的支撑,本实施例中,支架6上设置有支撑板62,支撑板62与安置板61互相垂直,支撑板62上具有固定孔621,支撑板62通过固定孔621与外部连接。本实施例中采用的螺钉或者螺栓穿过固定孔621将支撑板62与外部部件连接。
显然,本实用新型的上述实施例仅仅是为了清楚说明本实用新型所作的举例,而并非是对本实用新型的实施方式的限定。对于所属领域的普通技术人员来说,能够进行各种明显的变化、重新调整和替代而不会脱离本实用新型的保护范围。这里无需也无法对所有的实施方式予以穷举。凡在本实用新型的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等,均应包含在本实用新型权利要求的保护范围之内。
Claims (10)
1.气体分流装置,其特征在于,包括:
分流盘(3),所述分流盘(3)上设置有若干第一通行孔(31);
变径接头(2),所述变径接头(2)的一端与所述分流盘(3)相连;所述变径接头(2)的另一端与气源相连;
分流管(5),所述分流管(5)的第一端与所述分流盘(3)上的所述第一通行孔(31)相连。
2.根据权利要求1所述的气体分流装置,其特征在于,还包括外管(4),所述外管(4)的两端均设有所述分流盘(3),所述外管(4)与所述变径接头(2)的尺寸较大的一端连接,所述分流管(5)的第一端穿过设置于所述外管(4)第一端的所述分流盘(3)上的所述第一通行孔(31),并与设置于所述外管(4)第二端的所述分流盘(3)上的所述第一通行孔(31)相连。
3.根据权利要求2所述的气体分流装置,其特征在于,靠近所述变径接头(2)的所述分流盘(3)深入到所述外管(4)的管内,以在所述分流盘(3)与所述变径接头(2)之间形成气体缓冲区(41)。
4.根据权利要求1所述的气体分流装置,其特征在于,至少两根所述分流管(5)的长度不相同。
5.根据权利要求4所述的气体分流装置,其特征在于,所述分流管(5)的长度与其管内尺寸成正比。
6.根据权利要求4所述的气体分流装置,其特征在于,所述分流管(5)的出气端设有出气阀(7)。
7.根据权利要求4所述的气体分流装置,其特征在于,在位于所述气体缓冲区(41)内设置有转盘(8),所述转盘(8)上设置有与所述第一通行孔(31)相对应的转盘孔(81),所述转盘(8)与靠近所述气体缓冲区(41)的所述分流盘(3)抵接,所述转盘(8)上设置有与外部驱动设备连接的转轴(82)。
8.根据权利要求1所述的气体分流装置,其特征在于,所述分流管(5)的第二端设置有弯折部(51),且至少两根所述分流管(5)的弯折部(51)的弯折方向不相同。
9.根据权利要求1-8任一所述的气体分流装置,其特征在于,还具有支架(6),所述支架(6)包括安置板(61),所述安置板(61)上设有第二通行孔(611),所述分流管(5)穿设于所述第二通行孔(611)。
10.根据权利要求9所述的气体分流装置,其特征在于,所述支架(6)上设置有支撑板(62),所述支撑板(62)与所述安置板(61)互相垂直;所述支撑板(62)上具有固定孔(621),所述支撑板(62)通过固定孔(621)与外部连接。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202222978258.1U CN218845194U (zh) | 2022-11-09 | 2022-11-09 | 气体分流装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202222978258.1U CN218845194U (zh) | 2022-11-09 | 2022-11-09 | 气体分流装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN218845194U true CN218845194U (zh) | 2023-04-11 |
Family
ID=87303497
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202222978258.1U Active CN218845194U (zh) | 2022-11-09 | 2022-11-09 | 气体分流装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN218845194U (zh) |
-
2022
- 2022-11-09 CN CN202222978258.1U patent/CN218845194U/zh active Active
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---|---|---|---|
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant |