CN218743604U - 一种光学元件超洗装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供一种光学元件超洗装置，属于超声清洗设备技术领域，该一种光学元件超洗装置，包括超声清洗器本体，所述超声清洗器本体包括机体和上盖，所述机体具有清洗槽，所述清洗槽底部设有排水管道，所述上盖可向清洗槽内喷洒干净的清洗液，所述清洗槽内设有污渍截留器，所述机体一侧设有用于过滤清洗液中污渍的过滤部件。本实用新型的有益效果：通过盖板向光学元件喷洒干净的清洗液，在清洗槽内完成二次清洗作业，从而在不需要转移的情况下直接完成光学元件完整的清洗操作，简化清洗操作的步骤，实现更高效的清洗工作。

Description

一种光学元件超洗装置

技术领域

本实用新型属于超声清洗设备技术领域，具体涉及一种光学元件超洗装置。

背景技术

超声波清洗是指利用超声波在液体中的空化作用、加速度作用及直进流作用对液体和污物直接、间接的作用，使污物层被分散、乳化、剥离而达到清洗目的。

但是，目前在对光学元件进行超声波清洗时，通过超声波从光学元件上剥离的污物，依旧存在于清洗液中，当光学元件从清洗液中取出时，表面仍然带有一定的污物，需要进行二次清洗，把超声清洗之后，光学元件上粘附的污物冲洗掉，才算真正的完成光学元件的清洗作业。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种光学元件超洗装置，旨在解决现有的超声清洗设备清洗之后的光学元件，还需要进二次清洗的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种光学元件超洗装置，包括超声清洗器本体，所述超声清洗器本体包括机体和上盖，所述机体具有清洗槽，所述清洗槽底部设有排水管道，所述上盖可向清洗槽内喷洒干净的清洗液，所述清洗槽内设有污渍截留器，所述机体一侧设有用于过滤清洗液中污渍的过滤部件。

为了使得该一种光学元件超洗装置中的污渍截留器便于加工生产，作为本实用新型一种优选的，所述污渍截留器为一体式，一体式的所述污渍截留器包括壳体，所述壳体内设有排水腔，所述排水腔与排水管道连通，所述壳体上端开设有多个与排水腔连通的漏污孔。

为了使得该一种光学元件超洗装置中的污渍截留器便于清理，作为本实用新型一种优选的，所述污渍截留器为组合式，组合式的所述污渍截留器包括底座和盖板，所述盖板上设有多个漏污孔，所述底座内侧与排水管道连通。

为了使得该一种光学元件超洗装置中的污渍截留器能够更好的防止污渍反入清洗槽内，作为本实用新型一种优选的，所述漏污孔呈上大下小的锥形。

为了使得该一种光学元件超洗装置能够直接在清洗槽内完成二次清洗操作，作为本实用新型一种优选的，所述上盖内设有蓄水腔，所述蓄水腔底壁上设有多个用于喷洒清洗液的喷淋部件。

优选的，所述喷淋部件为喷淋头。

具体的，所述过滤部件包括保护壳，所述保护壳内设有过滤桶，所述过滤桶内设有滤芯，所述保护壳内设有与排水管道连通的水泵A，所述水泵A抽出的污水经导管注入过滤桶内的滤芯上，所述保护壳内设有用于抽出过滤桶内干净的清洗液的水泵B，所述水泵B经导管与盖板的蓄水腔连通。

为了使得该一种光学元件超洗装置中的滤芯能够起到更好的过滤效果，作为本实用新型一种优选的，所述滤芯上设有用于承接污水的凹槽。

为了使得该一种光学元件超洗装置便于放置需要清洗的光学元件，作为本实用新型一种优选的，所述清洗槽内设有用于盛放需要清洗的元件的过滤篮。

为了使得该一种光学元件超洗装置便于控制超声清洗器和过滤部件工作，作为本实用新型一种优选的，所述机体上设有用于控制超声清洗器和过滤部件的控制器。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

1.该光学元件超洗装置，当需要进行二次清洗时，首先把清洗槽内的清洗液抽吸进过滤部件内，直到清洗液的液面低于正在清洗的光学元件，此时通过盖板向光学元件喷洒干净的清洗液，在清洗槽内完成二次清洗作业，从而在不需要转移的情况下直接完成光学元件完整的清洗操作，简化清洗操作的步骤，实现更高效的清洗工作；

2.该光学元件超洗装置，在超声清洗短暂结束之后，污渍经过短暂的沉淀，会落入污渍截留器中，污渍截留器把更多的污渍截留在其内，防止再次清洗时，由于清洗液的激荡，致使清洗液的水质再次浑浊影响清洗效果；

3.该光学元件超洗装置，过滤部件在工作时，通过水泵A把清洗槽内含有污渍的清洗液抽处，并注入到滤芯上，把其中的污渍过滤干净，保留在过滤桶内，在需要二次清洗时，启动水泵B，把过滤干净的清洗液注入到盖板上的蓄水腔内，再通过喷淋头喷出，实现清洗液的循环使用，节约水资源。

附图说明

附图用来提供对本实用新型的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本实用新型的实施例一起用于解释本实用新型，并不构成对本实用新型的限制。在附图中：

图1为本实用新型中的具体实施例的轴测示意图；

图2为本实用新型中的具体实施例的全剖轴测示意图；

图3为本实用新型中的具体实施例中二次清洗的状态示意图；

图4为本实用新型中的具体实施例中过滤部件的全剖轴测示意图；

图5为本实用新型中的具体实施例中组合式的污渍截留器的示意图；

图6为本实用新型中的具体实施例图2中一体式的污渍截留器的局部放大示意图。

图中：1、机体；2、上盖；3、清洗槽；4、污渍截留器；5、过滤部件； 401、壳体；402、排水腔；403、漏污孔；404、底座；405、盖板；201、蓄水腔；202、喷淋部件；501、保护壳；502、过滤桶；503、滤芯；504、水泵 A；505、水泵B；506、凹槽；6、过滤篮；7、控制器。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

请参阅图1-5，本实用新型提供以下技术方案：一种光学元件超洗装置，包括超声清洗器本体，所述超声清洗器本体包括机体1和上盖2，所述机体1 具有清洗槽3，所述清洗槽3底部设有排水管道，所述上盖2可向清洗槽3内喷洒干净的清洗液，所述清洗槽3内设有污渍截留器4，所述机体1一侧设有用于过滤清洗液中污渍的过滤部件5。

在本实用新型的具体实施例中，在使用时，需要清洗的光学元件放入清洗槽3内进行清洗，清洗过程中，溶解的污渍掉落到清洗液内，完成正常的超声清洗作业，当需要进行二次清洗时，首先把清洗槽3内的清洗液抽吸进过滤部件5内，直到清洗液的液面低于正在清洗的光学元件，此时通过盖板 405向光学元件喷洒干净的清洗液，在清洗槽3内完成二次清洗作业，从而在不需要转移的情况下直接完成光学元件完整的清洗操作，简化清洗操作的步骤，实现更高效的清洗工作。

请参阅图2和图6，所述污渍截留器4为便于生产加工的一体式，一体式的所述污渍截留器4包括壳体401，所述壳体401内设有排水腔402，所述排水腔402与排水管道连通，所述壳体401上端开设有多个与排水腔402连通的漏污孔403；在超声清洗短暂结束之后，污渍经过短暂的沉淀，会落入污渍截留器4中，污渍截留器4把更多的污渍截留在其内，防止再次清洗时，由于清洗液的激荡，致使清洗液的水质再次浑浊影响清洗效果，而污渍截留器4 在工作时，污渍从漏污孔403进入排水腔402内，从而被截留在其内，防止污渍在被反出而融合在清洗液中。

请参阅图5，所述污渍截留器4为便于对其内部进行清洗的组合式，组合式的所述污渍截留器4包括底座404和盖板405，所述盖板405上设有多个漏污孔403，所述底座404内侧与排水管道连通；在使用时，盖板405与底座 404卡接或是插接或是使用螺钉连接组成一个整体，安装在清洗槽3的底部，同时底座404与排水管道连通，便于排水或过滤清洗液，污渍进入组合式的污渍截留器4时，也是通过盖板405上的漏儿孔进入的。

请参阅图5和图6，所述漏污孔403呈上大下小的锥形；如此清洗液中的污渍能够更准确的落入污渍截留器4内，并且漏污孔403下端的开口较小，能够起到更好的截留效果，而且在排水或是过滤清洗液时，含有污渍的清洗液在被抽吸进污渍截留器4时，漏污孔403的上端，在水流的冲击下，能够把停留在污渍截留器4上端的污渍全部抽吸进其内部，起到更好排污效果，同时由于漏污孔403的下端较小，水流的对污渍截留器4的底部冲击力更大，还能够对其内起到冲刷效果，保证污渍截留器4内部干净；

依据漏污孔403的功能，还能污渍截留器4还能进一步的保证的清洗槽3 底部的干净，避免每次使用后还要使用抹布等对清洗槽3的底部进行擦拭的麻烦。

请参阅图2和图3，所述上盖2内设有蓄水腔201，所述蓄水腔201底壁上设有多个用于喷洒清洗液的喷淋部件202。

优选的，所述喷淋部件202为喷淋头；在使用时，干净的清洗液首先进入蓄水腔201，再通过喷淋头喷洒在清洗槽3内的光学元件上，实现二次清洗操作，简化清洗操作的步骤，提高清洗效率。

具体的，所述过滤部件5包括保护壳501，所述保护壳501内设有过滤桶 502，所述过滤桶502内设有滤芯503，所述保护壳501内设有与排水管道连通的水泵A504，所述水泵A504抽出的污水经导管注入过滤桶502内的滤芯 503上，所述保护壳501内设有用于抽出过滤桶502内干净的清洗液的水泵 B505，所述水泵B505经导管与盖板405的蓄水腔201连通；过滤部件5在工作时，通过水泵A504把清洗槽3内含有污渍的清洗液抽处，并注入到滤芯503上，把其中的污渍过滤干净，保留在过滤桶502内，在需要二次清洗时，启动水泵B505，把过滤干净的清洗液注入到盖板405上的蓄水腔201内，再通过喷淋头喷出，实现清洗液的循环使用，节约水资源。

水泵A504在工作时，清洗槽3内的清洗液通过排水管道被抽出，并且此时，在水流的冲击下，还能把污渍截留器4上端和其内部沉淀的污渍冲干净。

请参阅图2和图3，所述滤芯503上设有用于承接污水的凹槽506；水泵 A504抽出的清洗液直接注入到凹槽506内，能够防止含有污渍的清洗液从滤芯503与过滤桶502的间隙测漏，从而保证所有的清洗液都经过过滤，进而提高污渍的过滤效果。

进一步，所述清洗槽3内设有用于盛放需要清洗的元件的过滤篮6；在超声清洗时，把光学元件放置在过滤篮6内并沉没在清洗液内，而在二次清洗时，光学元件直接在过滤篮6内进行清洗，通过流水把粘附在光学元件上的污渍清洗干净。

请参阅图1，所述机体1上设有用于控制超声清洗器和过滤部件5的控制器7；其中控制器7用于控制超声清洗的开始和结束，以及水泵A504和水泵 B505的启停，此为现有技术，同时超声清洗器的超声清洗原理也为现有技术，二者的具体结构和工作原理在此不再赘述。

在本实用新型的描述中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

对于本领域技术人员而言，显然本实用新型不限于上述示范性实施例的细节，而且在不背离本实用新型的精神或基本特征的情况下，能够以其他的具体形式实现本实用新型。因此，无论从哪一点来看，均应将实施例看作是示范性的，而且是非限制性的，本实用新型的范围由所附权利要求而不是上述说明限定，因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本实用新型内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。

此外，应当理解，虽然本说明书按照实施方式加以描述，但并非每个实施方式仅包含一个独立的技术方案，说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见，本领域技术人员应当将说明书作为一个整体，各实施例中的技术方案也可以经适当组合，形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。

Claims (9)

1.一种光学元件超洗装置，包括超声清洗器本体，所述超声清洗器本体包括机体(1)和上盖(2)，所述机体(1)具有清洗槽(3)，所述清洗槽(3)底部设有排水管道，其特征在于，所述上盖(2)可向清洗槽(3)内喷洒干净的清洗液，所述清洗槽(3)内设有污渍截留器(4)，所述机体(1)一侧设有用于过滤清洗液中污渍的过滤部件(5)。

2.根据权利要求1所述的一种光学元件超洗装置，其特征在于：所述污渍截留器(4)为一体式，一体式的所述污渍截留器(4)包括壳体(401)，所述壳体(401)内设有排水腔(402)，所述排水腔(402)与排水管道连通，所述壳体(401)上端开设有多个与排水腔(402)连通的漏污孔(403)。

3.根据权利要求1所述的一种光学元件超洗装置，其特征在于：所述污渍截留器(4)为组合式，组合式的所述污渍截留器(4)包括底座(404)和盖板(405)，所述盖板(405)上设有多个漏污孔(403)，所述底座(404)内侧与排水管道连通。

4.根据权利要求2或3所述的一种光学元件超洗装置，其特征在于：所述漏污孔(403)呈上大下小的锥形。

5.根据权利要求1所述的一种光学元件超洗装置，其特征在于：所述上盖(2)内设有蓄水腔(201)，所述蓄水腔(201)底壁上设有多个用于喷洒清洗液的喷淋部件(202)。

6.根据权利要求5所述的一种光学元件超洗装置，其特征在于：所述过滤部件(5)包括保护壳(501)，所述保护壳(501)内设有过滤桶(502)，所述过滤桶(502)内设有滤芯(503)，所述保护壳(501)内设有与排水管道连通的水泵A(504)，所述水泵A(504)抽出的污水经导管注入过滤桶(502)内的滤芯(503)上，所述保护壳(501)内设有用于抽出过滤桶(502)内干净的清洗液的水泵B(505)，所述水泵B(505)经导管与盖板(405)的蓄水腔(201)连通。

7.根据权利要求6所述的一种光学元件超洗装置，其特征在于：所述滤芯(503)上设有用于承接污水的凹槽(506)。

8.根据权利要求1所述的一种光学元件超洗装置，其特征在于：所述清洗槽(3)内设有用于盛放需要清洗的元件的过滤篮(6)。

9.根据权利要求1所述的一种光学元件超洗装置，其特征在于：所述机体(1)上设有用于控制超声清洗器和过滤部件(5)的控制器(7)。

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