CN218710828U - 一种低压化学气相沉淀工艺设备的进气喷管装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供一种低压化学气相沉淀工艺设备的进气喷管装置，真空腔门上安装有悬臂桨，悬臂桨上放置有石英舟，真空腔门通过第一密封圈与进气法兰密封，进气法兰通过标准件与进气水套法兰连接，在进气法兰和进气水套法兰左端设置有石英反应腔，石英反应腔另外一端穿过抽气水套法兰和抽气法兰，石英反应腔外壁通过第二密封圈与抽气法兰和抽气水套法兰密封，抽气法兰左端面通过第三密封圈与真空管道连接，真空管道另外一侧连接真空机组，进气法兰的进气口连接有供气气路管路，供气气路管路另一端连接供气系统,在实际使用的时候，石英舟前侧和后的产品片都可以均匀高效的与工艺气体接触，使得产品片沉积薄膜的均匀性达到一致性。

Description

一种低压化学气相沉淀工艺设备的进气喷管装置

技术领域

本实用新型涉及一种半导体材料的低压化学气相沉淀工艺设备，尤其一种低压化学气相沉淀工艺设备的新型进气喷管装置。

背景技术

低压化学气相沉积（LPCVD）系统用于集成电路、分立器件、MEMS等不同尺寸晶圆的薄膜沉积及掺杂等工艺。

目前国内厂家生产的同类产品中，通用型设备在工艺生长过程中，往反应腔内通入工艺气体比较单一，一般选择由进气法兰进行通气，进入反应腔内的工艺气体分布非常不均匀，导致产品片做出来的效果不好，片内均匀性很差，大大影响产品的生产合格率。

实用新型内容

针对现有技术存在的不足，本实用新型目的是提供一种低压化学气相沉淀工艺设备的进气喷管装置，解决上述背景技术中提出的问题。

本实用新型通过以下的技术方案实现：一种低压化学气相沉淀工艺设备的进气喷管装置，包括石英反应腔、石英舟、悬臂桨、真空腔门、进气法兰、进气水套法兰、第一进气喷管、第二进气喷管、抽气水套法兰、抽气法兰、第四密封圈、真空管道、真空机组、供气气路管路、供气系统，真空腔门上安装有悬臂桨，悬臂桨上放置有石英舟，真空腔门通过第一密封圈与进气法兰密封，进气法兰通过标准件与进气水套法兰连接，在进气法兰和进气水套法兰左端设置有石英反应腔，石英反应腔另外一端穿过抽气水套法兰和抽气法兰，石英反应腔外壁通过第二密封圈与抽气法兰和抽气水套法兰密封，抽气法兰左端面通过第三密封圈与真空管道连接，真空管道另外一侧连接真空机组，进气法兰的进气口连接有供气气路管路，供气气路管路另一端连接供气系统。

作为一优选的实施方式，进气法兰上设有两个进气口和两个出气口，进气口和出气口的直径在6-12mm之间，进气法兰的两个出气口连接有第一进气喷管和第二进气喷管，第一进气喷管和第二进气喷管的材质为高纯石英，内直径在3-9mm之间，外直径在6-12mm之间，第一进气喷管和第二进气喷管的管壁上有单侧直径在3-6mm之间的出气孔，出气孔之间的间距在5-10mm之间。

作为一优选的实施方式，石英反应腔外壁通过第四密封圈与进气法兰和进气水套法兰进行密封。

采用了上述技术方案后，本实用新型的有益效果是：在实际使用的时候，石英舟前侧和后的产品片都可以均匀高效的与工艺气体接触，使得产品片沉积薄膜的均匀性达到一致性。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1所示为本实用新型的进气喷管装置正面示意图；

图2所示为本实用新型的进气喷管装置进气法兰局部连接示意图；

图3所示为本实用新型的进气喷管放大示意图；

图中，石英反应腔1、石英舟2、悬臂桨3、真空腔门4、进气法兰5、进气水套法兰6、第一进气喷管7、第二进气喷管8、抽气水套法兰9、抽气法兰10、第四密封圈11、真空管道12、真空机组13、供气气路管路14、供气系统15。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

请参阅图1至图3，本实用新型提供一种技术方案：一种低压化学气相沉淀工艺设备的进气喷管装置，包括石英反应腔1、石英舟2、悬臂桨3、真空腔门4、进气法兰5、进气水套法兰6、第一进气喷管7、第二进气喷管8、抽气水套法兰9、抽气法兰10、第四密封圈11、真空管道12、真空机组13、供气气路管路14、供气系统15，真空腔门4上安装有悬臂桨3，悬臂桨3上放置有石英舟2，真空腔门4通过第一密封圈与进气法兰5密封，进气法兰5通过标准件与进气水套法兰6连接，在进气法兰5和进气水套法兰6左端设置有石英反应腔1，石英反应腔1另外一端穿过抽气水套法兰9和抽气法兰10，石英反应腔1外壁通过第二密封圈与抽气法兰10和抽气水套法兰9密封，抽气法兰10左端面通过第三密封圈与真空管道12连接，真空管道12另外一侧连接真空机组13，进气法兰5的进气口连接有供气气路管路14，供气气路管路14另一端连接供气系统15。

进气法兰5上设有两个进气口和两个出气口，进气口和出气口的直径在6-12mm之间，进气法兰5的两个出气口连接有第一进气喷管7和第二进气喷管8，第一进气喷管7和第二进气喷管8的材质为高纯石英，内直径在3-9mm之间，外直径在6-12mm之间，第一进气喷管7和第二进气喷管8的管壁上有单侧直径在3-6mm之间的出气孔，出气孔之间的间距在5-10mm之间。

石英反应腔1外壁通过第四密封圈11与进气法兰5和进气水套法兰6进行密封。

作为本实用新型的一个实施例：产品片生长薄膜的均匀性的好坏是评价低压化学气相沉淀系统的一个关键指标。本实用新型进气喷管装置的石英反应腔1通过第二密封圈、第一密封圈与进气法兰5、抽气法兰10密封，进气水套法兰6和抽气水套法兰9又有冷却水对第二密封圈、第一密封圈进行保护，有效的保证了石英反应腔1的真空度和漏气率；第一进气喷管7和第二进气喷管8，第一进气喷管7和第二进气喷管8管壁上有单侧的出气孔，工艺气体可以通过进气法兰5进入第一进气喷管7和第二进气喷管8，然后通过出气孔进入石英反应腔1内，这样工艺气体可以均匀的分布到石英反应腔1内；安装在真空腔门4上的悬臂桨3将石英舟2送入至石英反应腔1内，产品片放在石英舟2内，石英舟2前侧和后的产品片都可以均匀高效的与工艺气体接触，使得产品片沉积薄膜的均匀性达到一致性；大大提高了产品的合格率和高质量，使产品的性能指标大大得到提升。

以上所述仅为本实用新型的较佳实施例而已，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。

Claims (3)

1.一种低压化学气相沉淀工艺设备的进气喷管装置，包括石英反应腔、石英舟、悬臂桨、真空腔门、进气法兰、进气水套法兰、第一进气喷管、第二进气喷管、抽气水套法兰、抽气法兰、第四密封圈、真空管道、真空机组、供气气路管路、供气系统，其特征在于，所述真空腔门上安装有悬臂桨，所述悬臂桨上放置有石英舟，真空腔门通过第一密封圈与进气法兰密封，所述进气法兰通过标准件与进气水套法兰连接，在所述进气法兰和进气水套法兰左端设置有石英反应腔，所述石英反应腔另外一端穿过抽气水套法兰和抽气法兰，石英反应腔外壁通过第二密封圈与抽气法兰和抽气水套法兰密封，所述抽气法兰左端面通过第三密封圈与真空管道连接，所述真空管道另外一侧连接真空机组，进气法兰的进气口连接有供气气路管路，所述供气气路管路另一端连接供气系统。

2.如权利要求1所述的一种低压化学气相沉淀工艺设备的进气喷管装置，其特征在于：所述进气法兰上设有两个进气口和两个出气口，进气口和出气口的直径在6-12mm之间，进气法兰的两个出气口连接有第一进气喷管和第二进气喷管，第一进气喷管和第二进气喷管的材质为高纯石英，内直径在3-9mm之间，外直径在6-12mm之间，第一进气喷管和第二进气喷管的管壁上有单侧直径在3-6mm之间的出气孔，出气孔之间的间距在5-10mm之间。

3.如权利要求1所述的一种低压化学气相沉淀工艺设备的进气喷管装置，其特征在于：所述石英反应腔外壁通过第四密封圈与进气法兰和进气水套法兰进行密封。

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