CN218657328U - 晶圆标记设备 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开一种晶圆标记设备，包括机架和激光头，所述机架设有机台，所述机台设有标记工位，晶圆固定于所述标记工位；所述激光头内形成有两组激光光路结构，两组所述激光光路结构均设于所述机架，两所述激光光路的出光口均朝向所述标记工位设置，且两所述激光头的出光口分别对应所述晶圆的不同位置，以实现同时对晶圆的不同位置进行标记加工。本实用新型技术方案旨在提升晶圆的标记效率和标记的一致性。

Description

晶圆标记设备

技术领域

本实用新型涉及激光标记设备技术领域，特别涉及一种晶圆标记设备。

背景技术

碳化硅(SiC)也称作硅晶片，是硅半导体电路的重要的原材料。通常会在晶圆上进行标记，以实现对于晶圆产品的质量跟踪溯源。其中，部分晶圆产品，需要在晶圆表面的不同位置标记多类信息。现有的方案是通过一个激光头依次在晶圆的不同位置分别加工标记信息，这种方式不仅标记效率低，并且还需要对晶圆或激光头的位置进行调整，容易产生误差，影响标记质量。

实用新型内容

本实用新型的主要目的是提供一种晶圆标记设备，旨在提升晶圆的标记效率和标记的一致性。

为实现上述目的，本实用新型提出的晶圆标记设备，包括：

机架，所述机架设有机台，所述机台设有标记工位，晶圆固定于所述标记工位；

激光头，所述激光头内形成有两组激光光路结构，两组所述激光光路结构均设于所述机架，两所述激光光路的出光口均朝向所述标记工位设置，且两所述激光头的出光口分别对应所述晶圆的不同位置，以实现同时对晶圆的不同位置进行标记加工。

在本实用新型的一实施例中，所述机架还包括：

底板，所述底板设于所述机台的下方；

两安装板，两安装板均与所述底板、所述机台固定连接，且两所述安装板间隔设置；

连接板，所述连接板与所述两安装板连接，并与机台固定。

在本实用新型的一实施例中，所述激光光路结构包括沿光路的传播方向依次设置的激光器、反射组件、振镜以及场镜，所述场镜形成有所述出光口；

两所述激光器均与所述底板固定，两所述反射组件分别固定于所述安装板，两所述振镜、两所述场镜均固定于所述连接板上；

所述机台设有让位口，两所述出光口均朝向所述让位口设置。

在本实用新型的一实施例中，所述激光器和所述反射组件之间还设有功率计和衰减器，所述功率计靠近所述激光器设置，所述衰减器靠近所述反射组件设置。

在本实用新型的一实施例中，所述反射组件包括至少两个间隔设置的反射镜，相邻的两个所述反射镜的反射面不在同一平面上。

在本实用新型的一实施例中，所述激光光路结构还包括扩束镜，所述扩束镜设于两所述反射镜之间。

在本实用新型的一实施例中，所述晶圆标记设备还包括：

第一密封罩，所述第一密封罩与所述连接板固定，并与所述连接板围合形成第一密封空间，两所述振镜、两所述场镜均容置于所述密封空间内。

在本实用新型的一实施例中，所述晶圆标记设备还包括：

两个第二密封罩，所述第二密封罩与所述安装板固定，并与所述安装板围合形成第二密封空间，所述功率计和所述衰减器均设于所述第二密封空间内。

在本实用新型的一实施例中，所述反射组件包括：两个第三密封罩，所述第三密封罩与所述安装板固定，并与所述安装板围合形成第三密封空间，所述扩束镜设于所述第三密封空间内。

在本实用新型的一实施例中，所述反射镜包括：

安装座，所述安装座可调节地固定于所述安装板，所述安装座内部设有安装空间，所述安装座还设有连通安装空间的进光口和过光口，所述进光口和所述过光口位于所述安装座相邻的两表面，所述安装座还设有连通所述安装空间的调节窗；

调节座，所述调节座设于所述安装空间内，所述调节座设有安装槽，所述调节座还设有连通所述安装槽的调节孔；

镜座，所述镜座设于所述安装槽内，所述镜座上设有镜片，所述镜片的反射面均朝向所述进光口和所述过光口设置；以及

调节件，所述调节件经由所述调节窗插设于所述调节孔，并与所述镜座抵接，以调节所述镜座的位置。

本实用新型技术方的晶圆标记设备包括机架和激光头，其中，激光头内形成有两组激光光路结构，两组激光光路结构均设于机架，两激光光路的出光口均朝向标记工位设置，且两激光头的出光口分别对应晶圆的不同位置，由于本实用新型技术方案中的激光头内同时设有两组激光光路结构，且两组激光光路结构的出光口分别对应同一晶圆的不同位置，在加工时，两组激光光路结构可以同时对晶圆的不同位置进行标记加工，从而提升了晶圆标记的效率。并且，加工的过程中也不需要对晶圆或激光头的位置进行调整，避免因晶圆或激光头的位置变换而带来标记位置不一致的情况，使得不同晶圆的标志位置的一致性高，提升了标记的质量。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图示出的结构获得其他的附图。

图1为本实用新型晶圆标记设备一实施例的结构示意图；

图2为图1激光光路结构一实施例的结构示意图；

图3为图1激光光路结构另一实施例的结构示意图；

图4为本实用新型反射镜的结构示意图；

图5为图4的结构分解图。

附图标号说明：

本实用新型目的的实现、功能特点及优点将结合实施例，参照附图做进一步说明。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

需要说明，本实用新型实施例中所有方向性指示(诸如上、下、左、右、前、后……)仅用于解释在某一特定姿态(如附图所示)下各部件之间的相对位置关系、运动情况等，如果该特定姿态发生改变时，则该方向性指示也相应地随之改变。

在本实用新型中，除非另有明确的规定和限定，术语“连接”、“固定”等应做广义理解，例如，“固定”可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系，除非另有明确的限定。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

另外，在本实用新型中如涉及“第一”、“第二”等的描述仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示其相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。另外，全文中出现的“和/或”的含义为，包括三个并列的方案，以“A和/或B为例”，包括A方案，或B方案，或A和B同时满足的方案。另外，各个实施例之间的技术方案可以相互结合，但是必须是以本领域普通技术人员能够实现为基础，当技术方案的结合出现相互矛盾或无法实现时应当认为这种技术方案的结合不存在，也不在本实用新型要求的保护范围之内。

本实用新型提出一种晶圆标记设备100。

参照图1至图5，本实用新型一实施例的晶圆标记设备100包括机架和激光头，所述机架设有机台11，所述机台11设有标记工位，晶圆(未图示)固定于所述标记工位(未标示)；所述激光头内形成有两组激光光路结构30，两组所述激光光路结构30均设于所述机架，两所述激光光路的出光口351均朝向所述标记工位设置，且两所述激光头的出光口351分别对应所述晶圆的不同位置，以实现同时对晶圆的不同位置进行标记加工。

机架为激光头以及其他部件的安装提供载体。机架可以方形框架式机架，也可以是其他类型的机架。机架的材质可以包括大理石、金属以及其他满足强度的材质制成。其中，机台11为晶圆标记的加工台面，机台11的表面呈水平设置，以便工件的装夹固定。通常，标记工位上还会设置夹具用于夹紧固定待标记的晶圆。

本实用新型技术方的晶圆标记设备100包括机架和激光头，其中，激光头内形成有两组激光光路结构30，两组激光光路结构30均设于机架，两激光光路的出光口351均朝向标记工位设置，且两激光头的出光口351分别对应晶圆的不同位置，由于本实用新型技术方案中的激光头内同时设有两组激光光路结构30，且两组激光光路结构30的出光口351分别对应同一晶圆的不同位置，在加工时，两组激光光路结构30可以同时对晶圆的不同位置进行标记加工，从而提升了晶圆标记的效率。并且，加工的过程中也不需要对晶圆或激光头的位置进行调整，避免因晶圆或激光头的位置变换而带来标记位置不一致的情况，使得不同晶圆的标志位置的一致性高，提升了标记的质量。

参照图1和图2，在本实用新型的一实施例中，所述机架还包括：

底板13，所述底板13设于所述机台11的下方；

两安装板15，两安装板15均与所述底板13、所述机台11固定连接，且两所述安装板15间隔设置；

连接板17，所述连接板17与所述两安装板15连接，并与机台11固定。

本实用新型一实施例的技术方案中，底板13和机台11呈间隔设置，以为激光头的安装提供安装空间。本方案中是对晶圆的背面做标记，故将激光头设于机台11的底部，此时，机台11上设有让位口111，以方便两出光口351射出的激光穿过让位口111投射晶圆的表面设置。两安装板15的长度方向均沿机架竖直方向延伸设置，安装板15大致L形板。

在其他实施例中，若是对晶圆的正面做标记，则可将激光头设于机台11的顶部。底板13为激光器31提供安装的载体，通过两个间隔设置的安装板15和和连接板17，以为方便两组激光光路结构30的安装，同时也避免两组激光光路结构30相对影响。

进一步，参照图2和图3，在本实用新型的一实施例中，所述激光光路结构30包括沿光路的传播方向依次设置的激光器31、反射组件、振镜33以及场镜35，所述场镜35形成有所述出光口351；两所述激光器31均与所述底板13固定，两所述反射组件分别固定于所述安装板15，两所述振镜33、两所述场镜35均固定于所述连接板17上；

在本实用新型一实施的技术方案中，通过设置两安装板15以分别固定两组激光光路结构30中的反射组件，以提升两组激光光路结构30的安装的方便性，同时也避免两组反射组件相对影响。反射组件(未标示)包括至少两个间隔设置的反射镜32，相邻的两个所述反射镜32的反射面不在同一平面上，如此，各反射镜32可以改变激光光路的传播方向，实现在较小的空间内完成激光光线的处理。安装板15可以同时固定两组激光光路组件中的振镜33和场镜35，以使得激光头的结构紧凑。同时，使用同一个连接板17实现安装对两个激光光路结构30的安装，也能简化安装结构，降低成本。

进一步，参照图2和图3，在本实用新型的一实施例中，所述激光器31和所述反射组件之间还设有功率计41和衰减器42，所述功率计41靠近所述激光器31设置，所述衰减器42靠近所述反射组件设置。功率计41用于检测激光器31的输出功率，衰减器42用以检测输激光传输过程中衰减的情况，以便于作业人员及时了解激光头的性能，确保晶圆的标记质量。

请继续参照图2和图3，在本实用新型的一实施例中，所述激光光路结构30还包括扩束镜43，所述扩束镜43设于两所述反射镜32之间。扩束镜43可以改变激光光束的直径和发散角角度，使得激光器31输出符合要求的激光束，提升标记的质量。

参照图3，在本实用新型的一实施例中，所述晶圆标记设备100还包括：一个第一密封罩51、两个第二密封罩52以及两个第三密封罩53。其中，所述第一密封罩51与所述连接板17固定，并与所述连接板17围合形成第一密封空间，两所述振镜33、两所述场镜35均容置于所述密封空间内。两个第二密封罩52分别与两个安装板15固定，并与所述安装板15围合形成第二密封空间，所述功率计41和所述衰减器42均设于所述第二密封空间内。两个第二密封罩52分别与两个所述安装板15固定，并与所述安装板15围合形成第三密封空间，所述扩束镜43设于所述第三密封空间内。第一密封罩51、第二密封罩52以及第三密封罩53的材质为金属材质，但也可不局限于金属材质，也可以是塑胶材质。进一步，第一密封罩51与连接板17之间，两个第二密封罩52、两个第三密封罩53与安装板15之间均设有密封件以提升密封性能。第一密封罩51、两个第二密封罩52以及两个第三密封罩53的设置，可以确保各光学器件的在无尘的环境中工作。可以理解地，第一密封罩51、两个第二密封罩52以及两个第三密封罩53的均对应设有入光部和出光部，以确保激光能透过第一密封罩51、两个第二密封罩52以及两个第三密封罩53设置。

进一步，请参照图4和图5，在本实用新型的一实施例中，所述反射镜32包括安装座321、调节座323、镜座324以及调节件325，所述安装座321可调节地固定于所述安装板15，所述安装座321内部设有安装空间，所述安装座321还设有连通安装空间的进光口和过光口，所述进光口和所述过光口位于所述安装座321相邻的两表面，所述安装座321还设有连通所述安装空间的调节窗3211；所述调节座323设于所述安装空间内，所述调节座323设有安装槽3231，所述调节座323还设有连通所述安装槽3231的调节孔(未标示)；所述镜座324设于所述安装槽3231内，所述镜座324上设有镜片，所述镜片的反射面均朝向所述进光口和所述过光口设置；所述调节件325经由所述调节窗3211插设于所述调节孔，并与所述镜座324抵接，以调节所述镜座324的位置。

在本实用新型一实施的技术方案中，安装座321大致为方形，调节座323经由调节窗装入安装空间内，镜座324与安装槽3231的轮廓大致适配，镜片固定在镜座324的中心位置。调节件325可以螺丝或调节杆等结构，通过控制调节件325插设于调节的孔的深度，以实现调节镜座324和镜片相对在安装槽3231内的位置，提升其灵活性。

以上所述仅为本实用新型的优选实施例，并非因此限制本实用新型的专利范围，凡是在本实用新型的发明构思下，利用本实用新型说明书及附图内容所作的等效结构变换，或直接/间接运用在其他相关的技术领域均包括在本实用新型的专利保护范围内。

Claims (10)

1.一种晶圆标记设备，其特征在于，包括：

机架，所述机架设有机台，所述机台设有标记工位，晶圆固定于所述标记工位；

激光头，所述激光头内形成有两组激光光路结构，两组所述激光光路结构均设于所述机架，两所述激光光路的出光口均朝向所述标记工位设置，且两所述激光头的出光口分别对应所述晶圆的不同位置，以实现同时对晶圆的不同位置进行标记加工。

2.如权利要求1所述的晶圆标记设备，其特征在于，所述机架还包括：

底板，所述底板设于所述机台的下方；

两安装板，两安装板均与所述底板、所述机台固定连接，且两所述安装板间隔设置；

连接板，所述连接板与所述两安装板连接，并与机台固定。

3.如权利要求2所述的晶圆标记设备，其特征在于，所述激光光路结构包括沿光路的传播方向依次设置的激光器、反射组件、振镜以及场镜，所述场镜形成有所述出光口；

两所述激光器均与所述底板固定，两所述反射组件分别固定于所述安装板，两所述振镜、两所述场镜均固定于所述连接板上；

所述机台设有让位口，两所述出光口均朝向所述让位口设置。

4.如权利要求3所述的晶圆标记设备，其特征在于，所述激光器和所述反射组件之间还设有功率计和衰减器，所述功率计靠近所述激光器设置，所述衰减器靠近所述反射组件设置。

5.如权利要求4所述的晶圆标记设备，其特征在于，所述反射组件包括至少两个间隔设置的反射镜，相邻的两个所述反射镜的反射面不在同一平面上。

6.如权利要求5所述的晶圆标记设备，其特征在于，所述激光光路结构还包括扩束镜，所述扩束镜设于两所述反射镜之间。

7.如权利要求3所述的晶圆标记设备，其特征在于，所述晶圆标记设备还包括：

第一密封罩，所述第一密封罩与所述连接板固定，并与所述连接板围合形成第一密封空间，两所述振镜、两所述场镜均容置于所述密封空间内。

8.如权利要求5所述的晶圆标记设备，其特征在于，所述晶圆标记设备还包括：

两个第二密封罩，所述第二密封罩与所述安装板固定，并与所述安装板围合形成第二密封空间，所述功率计和所述衰减器均设于所述第二密封空间内。

9.如权利要求6所述的晶圆标记设备，其特征在于，所述反射组件包括：两个第三密封罩，所述第三密封罩与所述安装板固定，并与所述安装板围合形成第三密封空间，所述扩束镜设于所述第三密封空间内。

10.如权利要求6所述的晶圆标记设备，其特征在于，所述反射镜包括：

安装座，所述安装座可调节地固定于所述安装板，所述安装座内部设有安装空间，所述安装座还设有连通安装空间的进光口和过光口，所述进光口和所述过光口位于所述安装座相邻的两表面，所述安装座还设有连通所述安装空间的调节窗；

调节座，所述调节座设于所述安装空间内，所述调节座设有安装槽，所述调节座还设有连通所述安装槽的调节孔；

镜座，所述镜座设于所述安装槽内，所述镜座上设有镜片，所述镜片的反射面均朝向所述进光口和所述过光口设置；以及

调节件，所述调节件经由所述调节窗插设于所述调节孔，并与所述镜座抵接，以调节所述镜座的位置。

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