CN218630259U - 一种防窥膜 - Google Patents
一种防窥膜 Download PDFInfo
- Publication number
- CN218630259U CN218630259U CN202222193372.3U CN202222193372U CN218630259U CN 218630259 U CN218630259 U CN 218630259U CN 202222193372 U CN202222193372 U CN 202222193372U CN 218630259 U CN218630259 U CN 218630259U
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- light
- units
- shading
- shielding
- layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Landscapes
- Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
Abstract
一种防窥膜,包括支撑层(1)、透光层(2)和遮光层(3),所述遮光层(3)包括若干基本沿第一方向排列的遮光单元(31);所述遮光单元(31)呈棱柱结构,所述遮光单元(31)与支撑层(1)垂直且平行于第一方向的两个面为所述遮光单元(31)底面,所述遮光单元(31)底面与支撑层(1)直接接触的边的长度为所述遮光单元(31)的厚度Wa;所述沿第一方向排列的相邻遮光单元(31)的厚度Wa不相同。所述防窥膜,具有优异防窥效果和透光率,采用了遮光单元宽度周期性变化的棱柱遮光单元结构,可以显著的降低防窥膜使用过程中出现的干涉纹路,实现了优良的解干涉效果。
Description
技术领域
本实用新型涉及光学技术领域,尤其涉及一种防窥膜。
背景技术
目前,在显示面板上增加一层防窥膜,在大视角方向的其他人将看不到显示画面。目前市面的防窥膜制备方案主要为:模具加工→透光胶结构压印固化→黑色防窥胶填充固化,其受到以下限制:现有的防窥膜结构是利用模具加工转印,受限于模具的加工难度限制,目前的防窥结构,均为等高、笔直的光栅结构,单个光栅的高度相同,光栅之间的间距相同,光线穿透射出该结构层时,易产生摩尔干涉等不良光学效应。为了解干涉,传统的防窥膜,通常采用转角度,或支撑面做雾面处理,钢化玻璃做雾面处理等方式;其中转角处理会增加材料的裁切损耗,且在不同尺寸或分辨率的显示器上,转角度数差异较大,通用性大大降低;而采用支撑面或钢化玻璃做雾面处理,会在降低防窥效果的同时,增加了闪点异常,导致用户体验感较差。传统防窥膜的生产过程中,结构固化转印,受到结构脱膜难的问题影响,产品良率不高,模具报废几率也很高,且对胶水的要求较高,否则无法达到预期效果。
因此,急需一种防窥膜来解决上述问题。
实用新型内容
为了解决上述现有技术的不足,本实用新型提供一种防窥膜,通过采用了遮光单元宽度周期性变化的棱柱结构作为防窥结构,解决了现有技术中的不良问题。
本实用新型所要解决的技术问题通过以下技术方案予以实现:
一种防窥膜,包括支撑层、透光层和遮光层,所述透光层和遮光层设置在支撑层的同一侧表面上,所述遮光层包括若干基本沿第一方向排列的遮光单元;
所述遮光单元呈棱柱结构,所述遮光单元与支撑层垂直且平行于第一方向的两个面为所述遮光单元底面,所述遮光单元底面与支撑层直接接触的边的长度为所述遮光单元的厚度 Wa;所述沿第一方向排列的相邻遮光单元的厚度Wa不相同。
进一步地,所述遮光单元的底面为四边形,优选为矩形或腰与垂线的夹角不高于2°的梯形。
进一步地,所述沿第一方向排列的遮光单元的厚度Wa呈周期性变化,或所述沿第一方向排列的遮光单元的厚度Wa呈随机变化。
进一步地,每三个或三个以上遮光单元的厚度Wa变化为一个周期,周期内所述遮光单元的厚度Wa变化呈单调递增、单调递减、先增后减和先减后增中的任意一种。
进一步地,所述周期内相邻遮光单元的厚度Wa变化公差为1~5μm。
进一步地,所述遮光单元的厚度Wa为1-50μm,优选所述遮光单元的厚度Wa为5-20μm。
进一步地,所述相邻的遮光单元之间相对的两个侧面在支撑层上第一方向上的间距为所述遮光单元之间的间距S,所述遮光单元之间的间距S相同或不同,优选地,所述遮光单元之间的间距S不同。
进一步地,所述遮光单元之间的间距S为20-50μm。
进一步地,所述遮光单元之间的间距S不同时,所述遮光单元之间的间距S呈随机变化,或所述遮光单元之间的间距S随着相邻遮光单元的厚度Wa的变化而变化,优选地,所述防窥膜满足S/(Wa+S)≥75%。
进一步地,所述遮光单元的高度Ha为1-1000μm,优选所述遮光单元的高度Ha为100-180μm,所述透光层由若干透光单元组成,所述透光单元与遮光单元相互嵌合,所述透光单元的高度Hb为1-1000μm,优选所述透光单元的高度Hb为100-180μm。
本实用新型通过3D打印技术克服了现有防窥膜的模具加工壁垒,用3D打印防窥结构的方法,能够精准控制防窥膜的形状、排列方式及结构高度,实现产品升级,具有很强的实用性及应用前景。通过采用了遮光单元宽度周期性变化的棱柱结构作为防窥结构的方式实现无干涉的效果,理论上可以将光栅结构的高度加工至1μm到1000μm不等,光栅结构宽度加工至1μm至1000μm不等,而不必担心结构无法脱膜,模具结构变形等缺陷。利用本实用新型加工的防窥膜,可以实现几乎无干涉的显示效果,且透光率及防窥角不受影响,克服了成品的裁切损耗及简化产品工艺制程。
附图说明
图1,一种实施例中所述防窥膜的俯视图;
图2,图1中A-A'的剖面图。
1、支撑层;2、透光层;3、遮光层;31、遮光单元;X、第一方向;Y、第二方向。
具体实施方式
需要说明的是,在不冲突的情况下,本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本实用新型。
应该指出,以下详细说明都是例示性的,旨在对本申请提供进一步的说明。除非另有指明,本文使用的所有技术和科学术语具有与本申请所属技术领域的普通技术人员通常理解的相同含义。
需要注意的是,这里所使用的术语仅是为了描述具体实施方式,而非意图限制根据本申请的示例性实施方式。如在这里所使用的,除非上下文另外明确指出,否则单数形式也意图包括复数形式,此外,还应当理解的是,当在本说明书中使用术语“包含”和/或“包括”时,其指明存在特征、步骤、操作、器件、组件和/或它们的组合。
下面结合附图和实施例对本实用新型进行详细的说明。
一种防窥膜,所述防窥膜包括支撑层1、透光层2和遮光层3,所述透光层2和遮光层3 设置在支撑层1的同一侧表面上,所述遮光层3包括若干基本沿第一方向排列的遮光单元31;
所述遮光单元31呈棱柱结构,所述遮光单元31与支撑层1垂直且平行于第一方向的两个面为所述遮光单元31底面,所述遮光单元31底面与支撑层1直接接触的边的长度为所述遮光单元31的厚度Wa;所述沿第一方向排列的相邻遮光单元31的厚度Wa不相同。
具体地,如附图1-2所示,所述防窥膜至少包括有支撑层1,所述支撑层1的一个表面上,设置透光层2和遮光层3,所述透光层2和遮光层3位于同一表面上,且相互嵌合形成完整的薄膜结构。所述遮光层3包括若干基本沿第一方向排列的遮光单元31,此处需要注意的是,所述“基本沿第一方向排列”表示一种容错的范围,即所述遮光单元31并非必需要严格按照第一方向排列。例如所述遮光单元31可以是严格按照第一方向排列;也可以是稍微偏离第一方向排列,虽然存在一定的偏差,但是从宏观上依旧呈现“基本沿第一方向排列”,从产品性能上也是可以接受的,并且由于制造工艺等问题,产品结构存在一定范围的偏差也是完全合理的;
如图1-2所示,单个所述遮光单元31外观呈棱柱结构,所述遮光单元31与支撑层1垂直且平行于第一方向的两个面为所述遮光单元31底面,所述遮光单元31底面与支撑层1直接接触的边的长度为所述遮光单元31的厚度Wa;所述沿第一方向排列的相邻遮光单元31的厚度Wa不相同,即相邻的两个遮光单元31之间的厚度Wa存在差异,这样设置遮光单元31,打乱现有技术防窥膜中光栅结构的规律性排列方式,消除因光栅结构规律性排列方式所产生的干涉条纹,可以实现几乎无干涉的显示效果,且透光率及防窥角不受影响。
所述遮光单元31的长度方向为第二方向,所述第一方向和第二方向均平行于所述支撑层 1上设置有透光层2和遮光层3的表面,且所述第一方向和第二方向相互垂直,所述第一方向如附图1-2中X方向所示,第二方向如Y方向所示。
进一步地,所述遮光单元31的底面为四边形,优选为矩形或腰与垂线的夹角不高于2°的梯形。
具体地,如附图2所示,所述遮光单元31的底面为四边形,连接两个底面的四条棱相互平行。作为优选,所述遮光单元31的底面为矩形,或者是梯形,当所述遮光单元31的底面为梯形时,所述梯形的腰与垂线的夹角不超过2°,且进一步优选地,所述梯形下底边,即与支撑层1直接接触的底边相较于上底边更长。
进一步地,所述沿第一方向排列的遮光单元31的厚度Wa呈周期性变化,或所述沿第一方向排列的遮光单元31的厚度Wa呈随机变化。
进一步地,每三个或三个以上遮光单元31的厚度Wa变化为一个周期,周期内所述遮光单元31的厚度Wa变化呈单调递增、单调递减、先增后减和先减后增中的任意一种。
具体地,所述遮光单元31的厚度Wa可以呈现周期性变化,或所述沿第一方向排列的遮光单元31的厚度Wa呈随机变化。所述遮光单元31的厚度Wa呈现周期性变化时,设定每三个或三个以上遮光单元31的厚度Wa变化为一个周期,具体可以为三个、四个、五个等等多个独立且相邻的遮光单元31为一个周期,在一个变化周期内,所述遮光单元31的厚度Wa 变化呈单调递增、单调递减、先增后减和先减后增中任意一种情况。即,在一个变化周期内,所述相邻的遮光单元31的厚度Wa依次递增,或依次递减,也可以是在一个变化周期内,所述相邻的遮光单元31的厚度Wa先增加后减少,或者先减少后递增。
进一步地,所述周期内相邻遮光单元31的厚度Wa变化公差为1~5μm。
进一步地,所述遮光单元31的厚度Wa为1-50μm,优选所述遮光单元31的厚度Wa为5-20μm。
具体地,从透光率的角度考虑,所述遮光单元31的厚度Wa为1-50μm,作为优选,所述遮光单元31的厚度Wa为5-20μm,从解干涉和外观角度考虑,所述遮光单元31的厚度 Wa变化公差为1~5μm,当所述遮光单元31的厚度Wa变化公差小于1μm,解干涉效果较差;所述遮光单元31的厚度Wa变化公差超过5μm,由于每一个吸收区的面积差异过大,导致成品外观有明暗条纹,外观不良,具体地,如所述遮光单元31的厚度Wa呈现随机变化,则任意两个独立的遮光单元31的厚度Wa之差不大于5μm;如所述遮光单元31的厚度Wa呈现周期变化,在一个周期内,所述遮光单元31的厚度Wa呈单调递增,所述相邻的遮光单元31 的厚度Wa之差为1-5μm,需要注意的是,此处一个周期内的不同遮光单元31的厚度Wa之差,可以相同也可以不相同。例如,当一个周期内存在三个独立的遮光单元31,则第一遮光单元和第二遮光单元的厚度Wa之差为2μm,第二遮光单元和第三遮光单元之间的厚度Wa 之差为2μm,此时为所述一个周期内的不同遮光单元31的厚度Wa之差相同;如,当一个周期内存在三个独立的遮光单元31,则第一遮光单元和第二遮光单元的厚度Wa之差为2μm,第二遮光单元和第三遮光单元之间的厚度Wa之差为5μm,此时为所述一个周期内的不同遮光单元31的厚度Wa之差不相同。
进一步地,所述相邻的遮光单元31之间相对的两个侧面在支撑层1上第一方向上的间距为所述遮光单元31之间的间距S,所述遮光单元31之间的间距S相同或不同,优选地,所述遮光单元31之间的间距S不同。
进一步地,所述遮光单元31之间的间距S为20-50μm。
进一步地,所述遮光单元31之间的间距S不同时,所述遮光单元31之间的间距S呈随机变化,或所述遮光单元31之间的间距S随着相邻遮光单元31的厚度Wa的变化而变化,优选地,所述防窥膜满足S/(Wa+S)≥75%。
具体地,从消除干涉条纹的角度考虑,所述遮光单元31之间的间距S优选为不同,所述遮光单元31之间的间距S呈随机变化,或所述遮光单元31之间的间距S随着相邻遮光单元 31的厚度Wa的变化而变化。所述遮光单元31之间的间距S随着相邻遮光单元31的厚度Wa的变化而变化,具体来说是指,当所述遮光单元31的厚度Wa呈随机变化时,相邻所述遮光单元31之间的间距S随着相邻所述遮光单元31的厚度Wa之差变化,在一个具体实施方式中,存在五个独立的遮光单元31,其厚度依次为随机的8μm、10μm、9μm、11μm、7μm,相邻所述遮光单元31之间的间距S依次为,30μm、29μm、31μm、28μm,可见相邻所述遮光单元 31之间的间距S的变化与相邻所述遮光单元31的厚度Wa之差变化保持一致。当所述遮光单元31的厚度Wa呈周期性变化时,相邻所述遮光单元31之间的间距S随着相邻所述遮光单元 31的厚度Wa呈周期性变化,以一个具体实施方式举例,所述一个周期包括5个独立的遮光单元31,在一个周期内所述遮光单元31的厚度Wa单调递增,依次为7μm,8μm,9μm,10μm, 11μm,此时相邻所述遮光单元31之间的间距S依次为27μm,28μm,29μm,30μm,可见相邻所述遮光单元31之间的间距S的变化趋势与相邻所述遮光单元31的厚度Wa之差的变化趋势保持一致。进一步保证所述防窥膜的透光率,所述防窥膜的所述遮光单元31之间的间距S 比所述遮光单元31之间的间距S与相邻遮光单元31的厚度Wa之和的比值不小于75%,如此设置可以保证所述防窥膜具有优秀的透光度,满足实际使用需求。
进一步地,所述遮光单元31的高度Ha为1-1000μm,优选所述遮光单元31的高度Ha为 100-180μm,所述透光层2由若干透光单元组成,所述透光单元与遮光单元31相互嵌合,所述透光单元的高度Hb为1-1000μm,优选所述透光单元的高度Hb为100-180μm。
具体地,如图2所示,所述遮光单元31距离支撑层1表面的垂直距离为所述遮光单元31 的高度Ha,所述遮光单元31的高度Ha为1-1000μm,所述防窥膜的防窥角和透光率进一步增加,防窥效果更好。所述透光单元的高度Hb为1-1000μm,作为优选,所述透光单元的高度Hb与遮光单元31的高度Ha一致,考虑到先通过3D打印的方式先制作遮光层3的结构,再通过填充胶液的方式制备透光层2,透光单元的高度Hb略高于遮光单元31的高度Ha也是可行的。
具体地,所述防窥膜采用3D打印技术,在支撑层1表面上先打印出遮光层3的结构,然后将遮光层3空隙处填充透光层2,从而达到一体成型的目的。
采用打印技术方案可以解决高透防窥膜的模具加工壁垒,理论上可以将光栅结构的高度加工至1μm到1000μm不等,光栅结构宽度加工至1μm至1000μm不等,而不必担心结构无法脱膜,模具结构变形等缺陷。
具体地实施例,如下所示:
实施例1
准备支撑层,在支撑层上通过3D打印技术打印出遮光层3的结构,并在遮光层3间隙出填充透光层2,所述遮光单元31结构为底面呈矩形的棱柱结构,如图1所示,所述遮光单元 31的厚度Wa呈周期性变化,五个独立的遮光单元31为一个周期,单个周期内,沿第一方向所述遮光单元31的厚度Wa依次为:7μm,8μm,9μm,8μm,7μm;所述对应的遮光单元31 之间的间距S依次分别为:30μm,31μm,32μm,31μm,两个相邻所述遮光单元31周期的间距为30μm;所述透光单元的厚度与所述遮光单元31的高度Ha一致,为150μm,得到所述防窥膜E1。
实施例2
准备支撑层,在支撑层上通过3D打印技术打印出遮光层3的结构,并在遮光层3间隙出填充透光层2,所述遮光单元31结构为底面呈矩形的棱柱结构,所述遮光单元31的厚度Wa 呈周期性变化,五个独立的遮光单元31为一个周期,单个周期内,沿第一方向所述遮光单元 31的厚度Wa依次为:7μm,8μm,9μm,8μm,7μm;所述遮光单元31之间的间距S相同,均为35μm;所述透光单元的厚度与所述遮光单元31的高度Ha一致,为150μm,得到所述防窥膜E1。
对比例1
准备支撑层,在支撑层上通过常规方法制备透光层2的结构,并在透光层2间隙出填充遮光层3,所述透光单元的剖面为梯形结构,所述梯形的腰与垂线的夹角为2°,所述遮光单元31的厚度Wa一致,均为8μm;所述遮光单元31之间的间距S相同,均为35μm;所述透光单元的厚度与所述遮光单元31的高度Ha一致,为80μm,得到所述防窥膜E3。
测试方法:
解干涉效果:将防窥膜置于待测试模组表面,通过旋转角度,确认表面的干涉纹路变化。一般转角度越小,利用率越高。
防窥效果:将防窥膜置于待测试模组表面,通过目光侧视,确认防窥效果,同样角度防窥效果越好,则膜材防窥效果越佳。
防窥角:将防窥膜置于待测试模组表面,使用BM-7等测试机,测试辉度小于1/10中心辉度的视角。
透光率:将防窥膜置于待测试模组表面,通过对面放置前后,模组的辉度确认透光率。或者将膜材放置在特定的透光率仪器中测试透光率。
测试结果如表1所示:
表1
实施例 | 解干涉 | 防窥效果 | 防窥角 | 透光率 |
实施例1 | <2° | 优 | 30-40° | 80-85% |
实施例2 | <3° | 优 | 30-40° | 80-85% |
对比例1 | 10-20° | 优 | 70-80° | 60-65% |
根据测试结果可以明显得出,采用本申请所述结构的防窥膜,在防窥效果和透光率角度上明显优于现有技术中直线结构的防窥膜,进一步地,采用了遮光单元宽度周期性变化的棱柱遮光单元结构,可以显著的降低防窥膜使用过程中出现的干涉纹路,实现了优良的解干涉效果。
需要说明的是,本申请的说明书和权利要求书及上述附图中的术语“第一”、“第二”等是用于区别类似的对象,而不必用于描述特定的顺序或先后次序。应该理解这样使用的数据在适当情况下可以互换,以便这里描述的本申请的实施方式例如能够以除了在这里图示或描述的那些以外的顺序实施。
以上仅为本实用新型的优选实施例而已,并不用于限制本实用新型,对于本领域的技术人员来说,本实用新型可以有各种更改和变化。凡在本实用新型的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。
Claims (15)
1.一种防窥膜,其特征在于,所述防窥膜包括支撑层(1)、透光层(2)和遮光层(3),所述透光层(2)和遮光层(3)设置在支撑层(1)的同一侧表面上,所述遮光层(3)包括若干基本沿第一方向排列的遮光单元(31);
所述遮光单元(31)呈棱柱结构,所述遮光单元(31)与支撑层(1)垂直且平行于第一方向的两个面为所述遮光单元(31)底面,所述遮光单元(31)底面与支撑层(1)直接接触的边的长度为所述遮光单元(31)的厚度Wa;所述沿第一方向排列的相邻遮光单元(31)的厚度Wa不相同。
2.如权利要求1所述的防窥膜,其特征在于,所述遮光单元(31)的底面为四边形。
3.如权利要求1所述的防窥膜,其特征在于,所述遮光单元(31)的底面为矩形或腰与垂线的夹角不高于2°的梯形。
4.如权利要求1所述的防窥膜,其特征在于,所述沿第一方向排列的遮光单元(31)的厚度Wa呈周期性变化,或所述沿第一方向排列的遮光单元(31)的厚度Wa呈随机变化。
5.如权利要求3所述的防窥膜,其特征在于,每三个或三个以上遮光单元(31)的厚度Wa变化为一个周期,周期内所述遮光单元(31)的厚度Wa变化呈单调递增、单调递减、先增后减和先减后增中的任意一种。
6.如权利要求4所述的防窥膜,其特征在于,所述周期内相邻遮光单元(31)的厚度Wa变化公差为1~5μm。
7.如权利要求1所述的防窥膜,其特征在于,所述遮光单元(31)的厚度Wa为1-50μm。
8.如权利要求1所述的防窥膜,其特征在于,所述遮光单元(31)的厚度Wa为5-20μm。
9.如权利要求1所述的防窥膜,其特征在于,所述相邻的遮光单元(31)之间相对的两个侧面在支撑层(1)上第一方向上的间距为所述遮光单元(31)之间的间距S,所述遮光单元(31)之间的间距S相同或不同。
10.如权利要求1所述的防窥膜,其特征在于,所述相邻的遮光单元(31)之间相对的两个侧面在支撑层(1)上第一方向上的间距为所述遮光单元(31)之间的间距S,所述遮光单元(31)之间的间距S不同。
11.如权利要求9-10任一项所述的防窥膜,其特征在于,所述遮光单元(31)之间的间距S为20-50μm。
12.如权利要求9-10任一项所述的防窥膜,其特征在于,所述遮光单元(31)之间的间距S不同时,所述遮光单元(31)之间的间距S呈随机变化,或所述遮光单元(31)之间的间距S随着相邻遮光单元(31)的厚度Wa的变化而变化。
13.如权利要求9-10任一项所述的防窥膜,其特征在于,所述防窥膜满足S/(Wa+S)≥75%。
14.如权利要求1所述的防窥膜,其特征在于,所述遮光单元(31)的高度Ha为1-1000μm,所述透光层(2)由若干透光单元组成,所述透光单元与遮光单元(31)相互嵌合,所述透光单元的高度Hb为1-1000μm。
15.如权利要求1所述的防窥膜,其特征在于,所述遮光单元(31)的高度Ha为100-180μm,所述透光层(2)由若干透光单元组成,所述透光单元与遮光单元(31)相互嵌合,所述透光单元的高度Hb为100-180μm。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202222193372.3U CN218630259U (zh) | 2022-08-19 | 2022-08-19 | 一种防窥膜 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CN202222193372.3U CN218630259U (zh) | 2022-08-19 | 2022-08-19 | 一种防窥膜 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN218630259U true CN218630259U (zh) | 2023-03-14 |
Family
ID=85459343
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CN202222193372.3U Active CN218630259U (zh) | 2022-08-19 | 2022-08-19 | 一种防窥膜 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN218630259U (zh) |
-
2022
- 2022-08-19 CN CN202222193372.3U patent/CN218630259U/zh active Active
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN105807484B (zh) | 彩膜基板及其制作方法、显示装置 | |
US20220248552A1 (en) | Shell assembly and preparation method therefor, and electronic device | |
CN104656181A (zh) | 光学元件、图像显示装置及其制造方法 | |
CN102213865B (zh) | 3d面板、3d显示设备及相位差板制作方法 | |
CN103885118B (zh) | 二维无v型槽光纤阵列装置及其制作方法 | |
CN104155843A (zh) | 灰阶掩模板和彩膜基板及制作方法、显示装置 | |
CN104503128A (zh) | 用于显示器的彩膜基板及其制造方法和彩膜基板的光罩 | |
CN104937448A (zh) | 具备平行配置的光反射部的光控制面板的制造方法 | |
CN103278954B (zh) | 一种3d显示面板及3d显示装置 | |
CN103033975A (zh) | 一种掩膜板以及利用掩膜板构图的方法 | |
CN104428697A (zh) | 微镜阵列、其制法以及用于该微镜阵列的光学元件 | |
CN103995388A (zh) | 一种彩膜基板及其制造方法、显示装置 | |
CN104614931A (zh) | 掩模板及制造彩膜基板的方法和彩膜基板 | |
CN105929606B (zh) | 一种液晶面板 | |
CN218630259U (zh) | 一种防窥膜 | |
CN103713441A (zh) | 液晶透镜及其制作方法、显示装置 | |
CN201017050Y (zh) | 顶角偏摆型光学膜 | |
CN108508658B (zh) | 彩膜基板、彩膜基板的制作方法及显示面板 | |
CN105467606A (zh) | 适于量产的裸眼3d显示器的制造方法 | |
CN218630260U (zh) | 一种防窥膜 | |
CN205291738U (zh) | 防窥膜 | |
CN115453674A (zh) | 一种防窥膜 | |
CN218524913U (zh) | 一种防窥膜 | |
CN104635329A (zh) | 显示设备、其光学组件以及光学组件的制作方法 | |
CN203673154U (zh) | 一种被动偏光式三维显示装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
GR01 | Patent grant | ||
GR01 | Patent grant |