CN218403990U - 一种用于玻璃镀膜的喷嘴系统 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及玻璃表面处理设备技术领域,特别涉及一种用于玻璃镀膜的喷嘴系统,具有:超声波型雾化器,被所述超声波型雾化器所雾化的盐溶液具有横向扩张曲线;喷嘴,其具有背离于所述超声波型雾化器的至少一个出气方向,所述出气方向与所述横向扩张曲线相切。本实用新型所提供的喷嘴系统可实现在横向雾化条件下均匀地将盐溶液喷洒在玻璃表面,以利于均匀镀膜的形成。
Description
技术领域
本实用新型涉及玻璃表面处理设备技术领域,特别涉及一种用于玻璃镀膜的喷嘴系统。
背景技术
现有用于液体雾化的喷嘴多种多样,包括气动力喷嘴、高压液相喷嘴、超声波喷嘴等。其结构形式多样,但原理都是要通过高压气体、或本体高压、或超声波发生器、或施与高压静电,从而给予要雾化的液体一定的能量,使得液体克服表面张力,变为微小液滴分散于气氛中,形成雾化相。在喷嘴结构固定情况下,赋能越大雾化效果会越好,即雾化后的液体粒径会越小,分散度越高。
水的表面张力大于大部分有机溶剂,在水中溶解无机盐后,其表面张力会进一步增大,导致现有喷嘴结构难以满足精密雾化需求。就喷雾镀膜的工艺而言,其需要溶液均匀附着在玻璃表面以保证溶液中活性成分所形成的镀膜的均匀性,即精密雾化程度越高,镀膜均匀性和可控性越高。然而在实际生产过程中,即使喷嘴结构具有精密的雾化程度,但是在横向雾化条件下依然难以保证玻璃表面溶液的均匀性。因此,亟需一种在横向雾化条件下可实现溶液附着均匀的喷嘴。
实用新型内容
为了克服上述现有技术的缺陷,本实用新型所要解决的技术问题是:提供一种在横向雾化条件下可实现玻璃表面盐溶液均匀分布的喷嘴系统。
为了解决上述技术问题,本实用新型采用的技术方案为:一种用于玻璃镀膜的喷嘴系统,至少部分地安装在用于移载玻璃的输送带的上方,具有:
超声波型雾化器,被所述超声波型雾化器所雾化的盐溶液具有横向扩张曲线;
喷嘴,其具有背离于所述超声波型雾化器的至少一个出气方向,所述出气方向与所述横向扩张曲线相切。
其中,所述超声波型雾化器设置至少两个,所述超声波型雾化器沿所述输送带的宽度方向排列。
其中,所述喷嘴设置至少两个,两个所述喷嘴沿所述横向扩张曲线排列。
其中,所述喷嘴设置至少两组,两组所述喷嘴沿所述输送带的宽度方向排列。
其中,盐溶液为氟硅酸镁溶液。
其中,所述喷嘴和所述超声波型雾化器的横向间距小于200mm。
其中,还包括通过管路依次连接的低位料罐、料泵、第一均压罐和第二均压罐;所述第二均压罐通过管路与所述超声波型雾化器连接。
其中,所述第二均压罐具有恒定的液位。
其中,还包括导流槽,所述导流槽用于将形成在所述喷嘴和/或超声波型雾化器上的液滴导出所述输送带。
本实用新型的有益效果在于:本实用新型所提供的用于玻璃镀膜的喷嘴系统可实现盐溶液均匀附着在玻璃表面,即可获得表面镀膜均匀的玻璃。
附图说明
图1所示为本实用新型在具体实施方式中喷嘴系统的结构示意图。
标号说明:1、超声波型雾化器;2、喷嘴;3、第二均压罐;4、第一均压罐;5、低位料罐;6、料泵;7、输送带;8、玻璃。
具体实施方式
为详细说明本实用新型的技术内容、所实现目的及效果,以下结合实施方式并配合附图予以说明。
参见图1所示,一种用于玻璃镀膜的喷嘴系统,至少部分地安装在用于移载玻璃8的输送带7的上方,具有:超声波型雾化器1,被所述超声波型雾化器1所雾化的盐溶液具有横向扩张曲线X;喷嘴2,其具有背离于所述超声波型雾化器1的至少一个出气方向Y,所述出气方向Y与所述横向扩张曲线X相切。
其中,所述超声波型雾化器1是基于超声波雾化原理,即通过超声波振动赋能盐溶液而实现对盐溶液的雾化,其可以为市售的任一种超声波型雾化器1。所述超声波型雾化器1为以横向雾化布置,即所述超声波型雾化器1设置在输送带7的上方,利用输送带7移载玻璃8的同时,将盐溶液喷洒在玻璃8的表面。所述喷嘴2设置在输送带7的上方,具有热空气供给的,即所述喷嘴2内部为中空设置,其通过将热空气以所述横向扩张曲线X相切的切线方向对所雾化的盐溶液进行导向,以实现被雾化的盐溶液能够均匀地附着在玻璃8的表面。
所述横向值平行于玻璃表面的方向。所述横向扩张曲线X并非是所述超声波型雾化器1单独所形成的,而是通过所述喷嘴2的切线导向作用所共同形成的。所述横向扩张曲线X为所述超声波型雾化器1在喷嘴2的切向导向作用下可喷出最远距离气溶胶(雾化的盐溶液)的移动轨迹。同时,由于超声波型雾化器1和喷嘴2的功率均是可以调节的,因此可通过对二者功率的调节以控制所雾化的盐溶液的横向释放密度,从而实现对喷涂质量的控制。
在横幅较大的喷涂镀膜要求下,单一的超声波型雾化器1和喷嘴2均难以完成。因此,在此条件下通常采用多个超声波型雾化器1和多组喷嘴2进行喷涂。在一种实施方式中,所述超声波型雾化器1设置至少两个,所述超声波型雾化器1沿所述输送带7的宽度方向排列。即通过此种排型超声波型雾化器1以实现宽横幅玻璃8表面镀膜液(前述盐溶液)的喷涂。而对于此种排型超声波型雾化器1同样需要采用多组喷嘴2进行切线导向,即在此实施方式中,所述喷嘴2设置至少两组,两组所述喷嘴2沿所述输送带7的宽度方向排列。当然,为了实现对所述横向扩张曲线X的切线控制并非局限使用单一的喷嘴2,也可以采用多个喷嘴2的组合,如在在一种实施方案中所述喷嘴2设置至少两个,两个所述喷嘴2沿所述横向扩张曲线X排列。即通过此种方式可实现对横向扩张曲线X的准确控制。
优选地,所述喷嘴2和所述超声波型雾化器1的横向间距小于200mm,以避免喷嘴2对横向扩张曲线X的无效控制。
在一种实施方式中,所述盐溶液为氟硅酸镁溶液。所述氟硅酸镁溶液为氟硅酸镁水溶液,其可以根据实际的需要进行浓度选择。所述热空气的温度优选与所述氟硅酸镁溶液的温度一致,具体为80℃左右,以避免热空气对氟硅酸镁气溶胶(雾化的氟硅酸镁溶液)进行切线导向时对氟硅酸镁气溶胶温度产生影响,如温度过高导致氟硅酸镁气溶胶提前热分解,温度过低导致氟硅酸镁气溶胶热分解速率下降的问题。所述热空气优选为湿空气,其水蒸气分压应当大于所述氟硅酸镁气溶胶表面水蒸气分压,即通过此种设置以避免氟硅酸镁气溶胶在空气中移动时或被喷嘴切线导向时失水,进而影响后续的热分解过程。其中,所述热分解为氟硅酸镁在加热条件下分解为氟化镁并在玻璃8表面结晶的过程。
在一种实施方式中,所述喷嘴2系统还包括通过管路依次连接的低位料罐5、料泵6、第一均压罐4和第二均压罐3;所述第二均压罐3通过管路与所述超声波型雾化器1连接。其中,所述低位料罐5、第一均压罐4和第二均压罐3均是用于存储盐溶液。所述低位料罐5中低位仅是指位于第一均压罐4的下方。所述第二均压罐3内应具有恒定的液位,即其与超声波型雾化器1所连接管路内应具有恒定的水压,以保证超声波型雾化器1雾化效果的稳定。在本实施方式中,所述第二均压罐3内恒定的液位是通过第一均压罐4和低位料罐5相配合所实现的,即在第一均压罐4的标准液位的附近(高于标准液位的位置)开设一出水口,以通过管路连接低位料罐5,此时高于标准液位的盐溶液通过该出水口重新流回低位料罐5中,从而保证与所述第一均压罐4相连的第二均压罐3内的液位是恒定的。
喷嘴2和超声波型雾化器1上均容易在环境温度变化时形成液滴,而该液滴也容易直接滴落在玻璃8表面,导致镀膜质量的下降。因此,在一种实施方式中,所述喷嘴2系统还包括导流槽,所述导流槽用于将形成在所述喷嘴2和/或超声波型雾化器1上的液滴导出所述输送带7。即通过该导流槽将所形成的液滴导出输送带7,从而避免液滴的直接滴落。所述导流槽可以为现有的任一种形式,如独立的导流设备或复合在喷嘴2和超声波型雾化器1上的导流结构,只要能够实现前述效果均适用于本实施方式。
实施例1
一种用于玻璃镀膜的喷嘴系统,至少部分地安装在用于移载玻璃8的输送带7的上方,具有:超声波型雾化器1,被所述超声波型雾化器1所雾化的盐溶液具有横向扩张曲线X;喷嘴2,其具有背离于所述超声波型雾化器1的至少一个出气方向Y,所述出气方向Y与所述横向扩张曲线X相切;和通过管路依次连接的低位料罐5、料泵6、第一均压罐4和第二均压罐3;所述第二均压罐3通过管路与所述超声波型雾化器1连接;以及导流槽;
所述超声波型雾化器1设置至少两个,所述超声波型雾化器1沿所述输送带7的宽度方向排列;
所述喷嘴2设置至少两个,两个所述喷嘴2沿所述横向扩张曲线X排列;
所述喷嘴2设置至少两组,两组所述喷嘴2沿所述输送带7的宽度方向排列;
盐溶液为氟硅酸镁溶液;
所述喷嘴2和所述超声波型雾化器1的横向间距小于200mm;
所述第二均压罐3具有恒定的液位;
所述导流槽用于将形成在所述喷嘴2和/或超声波型雾化器1上的液滴导出所述输送带7。
具体的,料泵6将位于低位料罐5内的氟硅酸镁溶液抽出并送入第一均压罐4中,位于第一均压罐4内的氟硅酸镁溶液通过管路流入第二均压罐3内,并最终流向超声波型雾化器1。此时,超声波型雾化器1将所述氟硅酸镁溶液横向雾化,此时所雾化的氟硅酸镁气溶胶受喷嘴2所喷出的热空气的切线导向作用而被修正移动方向。最终,氟硅酸镁气溶胶均匀滴落在玻璃8表面,并在加热条件下(玻璃8自身温度或外部加热组件)发生热分解,所形成的氟化镁在玻璃8表面结晶,通过多次喷涂最终在玻璃8表面形成具有减反射效果的氟化镁镀层。
以上所述仅为本实用新型的实施例,并非因此限制本实用新型的专利范围,凡是利用本实用新型说明书及附图内容所作的等同变换,或直接或间接运用在相关的技术领域,均同理包括在本实用新型的专利保护范围内。
Claims (8)
1.一种用于玻璃镀膜的喷嘴系统,至少部分地安装在用于移载玻璃的输送带的上方,其特征在于,具有:
超声波型雾化器,被所述超声波型雾化器所雾化的盐溶液具有横向扩张曲线;
喷嘴,其具有背离于所述超声波型雾化器的至少一个出气方向,所述出气方向与所述横向扩张曲线相切。
2.根据权利要求1所述喷嘴系统,其特征在于,所述超声波型雾化器设置至少两个,所述超声波型雾化器沿所述输送带的宽度方向排列。
3.根据权利要求1所述喷嘴系统,其特征在于,所述喷嘴设置至少两个,两个所述喷嘴沿所述横向扩张曲线排列。
4.根据权利要求1所述喷嘴系统,其特征在于,所述喷嘴设置至少两组,每组所述喷嘴具有至少两个,两组所述喷嘴沿所述输送带的宽度方向排列。
5.根据权利要求1所述喷嘴系统,其特征在于,所述喷嘴和所述超声波型雾化器的横向间距小于200mm。
6.根据权利要求1所述喷嘴系统,其特征在于,还包括通过管路依次连接的低位料罐、料泵、第一均压罐和第二均压罐;所述第二均压罐通过管路与所述超声波型雾化器连接。
7.根据权利要求6所述喷嘴系统,其特征在于,所述第二均压罐具有恒定的液位。
8.根据权利要求1所述喷嘴系统,其特征在于,还包括导流槽,所述导流槽用于将形成在所述喷嘴和/或超声波型雾化器上的液滴导出所述输送带。
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CN202222523859.3U Active CN218403990U (zh) | 2022-09-23 | 2022-09-23 | 一种用于玻璃镀膜的喷嘴系统 |
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