CN218282441U - 一种带自动清洁功能的匀胶设备 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种带自动清洁功能的匀胶设备，包括真空吸盘以及旋转电机，所述真空吸盘上方吸附纳米压印用基片，在所述真空吸盘与旋转电机之间，还套设有溢流罩，在所述溢流罩外侧还设有可升降喷液器，所述可升降喷液器通过导管外接胶体溶剂，通过其自动升降，实现对溢流罩自上而下的喷涂；在所述溢流罩外沿下方，还设有储液槽，在所述储液槽底部的外侧设有超声波发生器和重力感应器，内侧设有废液管封口和滑轨，所述废液管封口下方设有废液桶，所述废液管封口与所述废液桶之间还连接有废液管。本实用新型的有益效果是：实现匀胶设备自动清洁，节省人力物力，提高工作效率。
Description
技术领域
本实用新型涉及纳米压印技术领域，尤其涉及一种带自动清洁功能的匀胶设备。
背景技术
匀胶设备是在高速旋转的基片上，滴注各类胶液，利用离心力使滴在基片上的胶液均匀地涂覆在基片上的设备，因其操作简便，成膜均匀性好，是纳米压印设备最常用的配套设备。但是在实际使用过程中，由于胶液的粘度差异性大，一些粘度大的胶液会附着在废液管上，造成废液管堵塞，需要后期人工清理，或频繁更换废液管。
实用新型内容
本实用新型的目的在于克服以上技术缺陷，提出一种带自动清洁功能的匀胶设备，
本实用新型为实现其技术目的所采取的技术方案是：一种带自动清洁功能的匀胶设备，包括真空吸盘以及旋转电机，所述旋转电机位于所述真空吸盘的下方，用于驱动真空吸盘旋转，其特征在于：所述真空吸盘上方吸附纳米压印用基片，在所述真空吸盘与旋转电机之间，还套设有溢流罩，所述溢流罩用于引流匀胶过程中产生的废胶液；
在所述溢流罩外侧还设有可升降喷液器，所述可升降喷液器通过导管外接胶体溶剂，通过其自动升降，实现对溢流罩自上而下的喷涂；
在所述溢流罩外沿下方，还设有储液槽，所述储液槽用于承接所述溢流罩上流下的废胶液和胶体溶剂；在所述储液槽底部的外侧设有超声波发生器和重力感应器，内侧设有废液管封口和滑轨，所述废液管封口下方设有废液桶，所述废液管封口与所述废液桶之间还连接有废液管。
优选的，所述可升降喷液器至少包括两个，对称设置在所述溢流罩外侧。
优选的，所述储液槽，至少包括两个，对称设置在所述溢流罩外沿下方。
优选的，所述溢流罩呈圆台状。
优选的，所述废液管封口套接在所述滑轨上。
本实用新型的有益效果是：可升降喷液器实现对溢流罩自动清洁，超声波发生器、重力感应器，自动检测，将结块的废胶液分散在溶剂里，震荡结束后，废液管封口沿滑轨侧移打开，废液通过废液管流入废液桶，实现匀胶设备自动清洁。节省人力物力，提高工作效率。
附图说明
图1为本实用新型整体原理示意图；
图2为废液管封口处俯视示意图。
图中标记为：1、真空吸盘；2、溢流罩；3、旋转电机；4、可升降喷液器；5、储液槽；6、超声波发生器；7、重力感应器；8、废液管封口；9、滑轨；10、废液管；11、废液桶。
具体实施方式
下面结合附图实施例，对本实用新型做进一步说明。
实施例一
如图1，2所示：一种带自动清洁功能的匀胶设备，包括真空吸盘1以及旋转电机3，所述旋转电机3位于所述真空吸盘1的下方，用于驱动真空吸盘1旋转，所述真空吸盘1上方吸附纳米压印用基片，在所述真空吸盘1与旋转电机3之间，还套设有溢流罩2，所述溢流罩2呈圆台状，用于引流匀胶过程中产生的废胶液；
在所述溢流罩2外侧还设有可升降喷液器4，所述可升降喷液器4至少包括两个，对称设置在所述溢流罩2外侧。所述可升降喷液器4通过导管外接胶体溶剂，通过其自动升降，实现对溢流罩2自上而下的喷涂；
在所述溢流罩2外沿下方，还设有储液槽5，所述储液槽5至少包括两个，对称设置在所述溢流罩2外沿下方。所述储液槽5用于承接所述溢流罩2上流下的废胶液和胶体溶剂；在所述储液槽5底部的外侧设有超声波发生器6和重力感应器7，内侧设有废液管封口8和滑轨9，所述废液管封口8套接在所述滑轨9上，所述废液管封口8下方设有废液桶11，所述废液管封口8与所述废液桶11之间还连接有废液管10。
本实用新型的工作原理及工作过程如下：
所述真空吸盘1，用于吸附纳米压印用基片；溢流罩2位于真空吸盘1下方，呈圆台状，用于引流匀胶过程中产生的废胶液；旋转电机3用于控制基片旋转；可升降喷液器4，位于溢流罩两侧，外接胶体溶剂，可自动升降，实现对溢流罩2自上而下的喷涂，使得胶体滑入下方储液槽5内，储液槽5下方装有超声波发生器6及重力感应器7，当重力感应器7感应到指定重量时，超声波发生器6开始工作，将结块的废胶液分散在溶剂里，震荡结束后，废液管封口8沿滑轨9侧移打开，废液通过废液管10流入废液桶11，最后将废液管封口8关闭。
Claims (5)
1.一种带自动清洁功能的匀胶设备，包括真空吸盘以及旋转电机，所述旋转电机位于所述真空吸盘的下方，用于驱动真空吸盘旋转，其特征在于：所述真空吸盘上方吸附纳米压印用基片，在所述真空吸盘与旋转电机之间，还套设有溢流罩，所述溢流罩用于引流匀胶过程中产生的废胶液；
在所述溢流罩外侧还设有可升降喷液器，所述可升降喷液器通过导管外接胶体溶剂，通过其自动升降，实现对溢流罩自上而下的喷涂；
在所述溢流罩外沿下方，还设有储液槽，所述储液槽用于承接所述溢流罩上流下的废胶液和胶体溶剂；在所述储液槽底部的外侧设有超声波发生器和重力感应器，内侧设有废液管封口和滑轨，所述废液管封口下方设有废液桶，所述废液管封口与所述废液桶之间还连接有废液管。
2.根据权利要求1所述的一种带自动清洁功能的匀胶设备，其特征在于：所述可升降喷液器至少包括两个，对称设置在所述溢流罩外侧。
3.根据权利要求2所述的一种带自动清洁功能的匀胶设备，其特征在于：所述储液槽，至少包括两个，对称设置在所述溢流罩外沿下方。
4.根据权利要求3所述的一种带自动清洁功能的匀胶设备，其特征在于：所述溢流罩呈圆台状。
5.根据权利要求1所述的一种带自动清洁功能的匀胶设备，其特征在于：所述废液管封口套接在所述滑轨上。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202123056054.4U CN218282441U (zh) | 2021-12-07 | 2021-12-07 | 一种带自动清洁功能的匀胶设备 |
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Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| CN218282441U true CN218282441U (zh) | 2023-01-13 |
Family
ID=84803504
Family Applications (1)
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|---|---|---|---|
| CN202123056054.4U Active CN218282441U (zh) | 2021-12-07 | 2021-12-07 | 一种带自动清洁功能的匀胶设备 |
Country Status (1)
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| CN (1) | CN218282441U (zh) |
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2021
- 2021-12-07 CN CN202123056054.4U patent/CN218282441U/zh active Active
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